公开(公告)号：KR1020160150020A

公开(公告)日：2016-12-28

申请号：KR1020160073896

申请日：2016-06-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사와치아츠시 ,  아미쿠라노리히코 ,  사토요시야스

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/54 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/46 ,  H01L21/67 ,  F16K31/02

CPC classification number: H01L21/67069 ,  G01F1/684 ,  G05D7/0635 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32834 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/02315 ,  F16K31/02 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/54 ,  H01L21/67005 ,  H05H1/46

Abstract: 프로세스의스루풋을향상시킨다. 하나의실시예에서의가스공급계는, 가스공급계를구성하는복수의요소기기와, 복수의요소기기가배치되는기대(212)를구비한다. 복수의요소기기중, 일부의요소기기는기대(212)의일방의면(212a)에배치되고, 다른일부의요소기기는기대(212)의일방의면(212a)의이면인타방의면(212b)에배치된다. 일실시예에있어서복수의요소기기는, 예를들면유량제어기(FD) 및이차측밸브(FV2)이며, 이차측밸브(FV2)는유량제어기(FD)가배치된기대(212)의면(212a)의뒷측의면(212b)에배치된다.

Abstract translation: 处理能力可以提高。 气体供给系统包括构成气体供给系统的多个元件装置和设置有多个元件装置的基座212。 一些元件装置设置在基座212的表面212a上，而另一些元件装置设置在基座212的与基座212的表面212a相对的表面212b上。多个元件装置可被实现 通过例如流量控制器FD和次级阀FV2。 次级阀FV2设置在与配置有流量控制器FD的基座212的表面212a相反的表面212b上。

公开(公告)号：KR102109226B1

公开(公告)日：2020-05-11

申请号：KR1020157006043

申请日：2013-09-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토나오키 ,  도미타유고 ,  미하라나오키 ,  다카하시가즈키 ,  아이타미치타카 ,  요시카와준 ,  센다다카히로 ,  사토요시야스 ,  가토가즈유키 ,  스도우겐지 ,  미즈스기히토시

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/67 ,  H01J37/32

公开(公告)号：KR1020170046641A

公开(公告)日：2017-05-02

申请号：KR1020177001597

申请日：2015-08-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사와치아츠시 ,  사사키노리카즈 ,  야마시마쥰 ,  사토요시야스 ,  노가미켄이치

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  C23C16/455 ,  C23C16/509

CPC classification number: C23C16/45561 ,  C23C16/455 ,  C23C16/45523 ,  C23C16/45587 ,  C23C16/509 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67017

Abstract: 일실시형태의가스공급계는제 1 ~ 제 3 기구를구비한다. 제 1 기구의복수의통합부는하나이상의가스소스로부터의가스를선택하고, 선택한가스를출력하도록구성되어있다. 제 2 기구는복수의통합부로부터의복수의가스를분배하고, 분배된가스의유량을조정하여출력하도록구성되어있다. 제 3 기구는가스공급계내의가스를배기장치로배기하도록구성되어있다.

Abstract translation: 一个实施例的气体供应系统包括第一至第三机构。 第一机构的多个积分器被配置为从一个或多个气体源中选择气体并输出所选择的气体。 第二机构被配置为分配来自多个集成部件的多种气体，并且调节和输出分配气体的流量。 第三机构构造成将气体供应系统中的气体排出到排气装置。

公开(公告)号：KR1020150064020A

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：KR1020157006043

申请日：2013-09-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토나오키 ,  도미타유고 ,  미하라나오키 ,  다카하시가즈키 ,  아이타미치타카 ,  요시카와준 ,  센다다카히로 ,  사토요시야스 ,  가토가즈유키 ,  스도우겐지 ,  미즈스기히토시

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01J37/32 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32449 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/32238 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/32137 ,  H01L29/66795

Abstract: 일실시형태의플라즈마처리장치에서는, 안테나로부터유전체창을통해마이크로파의에너지가처리용기내에도입된다. 이플라즈마처리장치는중앙도입부및 주변도입부를갖춘다. 중앙도입부의중앙도입구는, 기판을탑재하는탑재대의탑재영역의중앙을향해서개구되어, 유전체창의바로아래에가스를분사한다. 주변도입부의복수의주변도입구는, 중앙도입구보다도아래쪽이면서탑재대의위쪽에있어서원주방향을따라서배열되어있고, 탑재영역의가장자리를향해가스를분사한다. 중앙도입부에는, 반응성가스및 희가스의소스를포함하는복수의제1 가스소스가복수의제1 유량제어유닛을통해접속되어있다. 주변도입부에는, 반응성가스및 희가스의소스를포함하는복수의제2 가스소스가복수의제2 유량제어유닛을통해접속되어있다.

Abstract translation: 在等离子体处理设备的一个实施例中，微波的能量通过电介质窗口从天线引入到处理容器中。 该等离子体处理装置具有中心引入部分和外围引入部分。 中央引导部的中央引导开口朝向安装基板的安装台的安装区域的中央开口，并且将气体直接喷射到电介质窗的下方。 周边引导部的多个周缘引导槽在中央引导开口的下方沿着周向配置在载置台的上侧，并朝向安装区域的边缘喷射气体。 包括反应气体源和稀有气体的多个第一气源通过多个第一流量控制单元连接到中心入口。 包括反应气体源和稀有气体的多个第二气体源通过多个第二流量控制单元连接到外围引入部分。