公开(公告)号：KR100698352B1

公开(公告)日：2007-03-23

申请号：KR1020060068647

申请日：2006-07-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노준이치 ,  마츠야마유지 ,  키타노타카히로 ,  카타노타카유키 ,  마츠이히데후미 ,  스즈키요 ,  야마시타마사미 ,  아오야마토루 ,  이와키히로유키 ,  시무라사토루 ,  데구치마사토시 ,  요시하라코우스케 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67778 ,  Y10T29/41

Abstract: 도포현상 처리시스템에 있어서 경계판에 의해 나누어진 각 영역, 즉 카세트 스테이션, 처리 스테이션 및 인터페이스부의 상부에 각 영역 내로 불활성 기체를 공급하는 기체 공급부를 각각 설치한다. 상기 각 영역의 하부에는 각 영역 내의 분위기를 배기하기 위한 배기관을 설치한다. 각 기체 공급장치로 산소 등의 불순물이나 미립자를 포함하지 않는 불활성 기체를 각 영역 내로 공급하고 각 영역 내의 분위기를 배기관으로 배기함으로써 각 영역 내의 분위기를 청정한 상태로 유지한다.

Abstract translation: 提供一种气体供应单元，用于将惰性气体供应到由涂布和显影系统中的边界板划分的每个区域中，即在盒台，处理台和接口单元的上方。 在每个区域下方设置用于排出每个区域中的气氛的排气管。 将不含氧等杂质的惰性气体和不含颗粒的惰性气体供应到每个气体供应单元中，并且将每个区域中的气氛排出到排气管以保持每个区域中的气氛清洁。

公开(公告)号：KR100701578B1

公开(公告)日：2007-04-02

申请号：KR1020010004660

申请日：2001-01-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노준이치 ,  마츠야마유지 ,  키타노타카히로 ,  카타노타카유키 ,  마츠이히데후미 ,  스즈키요 ,  야마시타마사미 ,  아오야마토루 ,  이와키히로유키 ,  시무라사토루 ,  데구치마사토시 ,  요시하라코우스케 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/30

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67778 ,  Y10T29/41

Abstract: 도포현상 처리시스템에 있어서 경계판에 의해 나누어진 각 영역, 즉 카세트 스테이션, 처리 스테이션 및 인터페이스부의 상부에 각 영역 내로 불활성 기체를 공급하는 기체 공급부를 각각 설치한다. 상기 각 영역의 하부에는 각 영역 내의 분위기를 배기하기 위한 배기관을 설치한다. 각 기체 공급장치로 산소 등의 불순물이나 미립자를 포함하지 않는 불활성 기체를 각 영역 내로 공급하고 각 영역 내의 분위기를 배기관으로 배기함으로써 각 영역 내의 분위기를 청정한 상태로 유지한다.

公开(公告)号：KR1020060090212A

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：KR1020060068647

申请日：2006-07-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노준이치 ,  마츠야마유지 ,  키타노타카히로 ,  카타노타카유키 ,  마츠이히데후미 ,  스즈키요 ,  야마시타마사미 ,  아오야마토루 ,  이와키히로유키 ,  시무라사토루 ,  데구치마사토시 ,  요시하라코우스케 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67778 ,  Y10T29/41 ,  G03F7/70875 ,  H01L21/67098

Abstract: 도포현상 처리시스템에 있어서 경계판에 의해 나누어진 각 영역, 즉 카세트 스테이션, 처리 스테이션 및 인터페이스부의 상부에 각 영역 내로 불활성 기체를 공급하는 기체 공급부를 각각 설치한다. 상기 각 영역의 하부에는 각 영역 내의 분위기를 배기하기 위한 배기관을 설치한다. 각 기체 공급장치로 산소 등의 불순물이나 미립자를 포함하지 않는 불활성 기체를 각 영역 내로 공급하고 각 영역 내의 분위기를 배기관으로 배기함으로써 각 영역 내의 분위기를 청정한 상태로 유지한다.

公开(公告)号：KR1020020010442A

公开(公告)日：2002-02-04

申请号：KR1020010004660

申请日：2001-01-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노준이치 ,  마츠야마유지 ,  키타노타카히로 ,  카타노타카유키 ,  마츠이히데후미 ,  스즈키요 ,  야마시타마사미 ,  아오야마토루 ,  이와키히로유키 ,  시무라사토루 ,  데구치마사토시 ,  요시하라코우스케 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/30

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67778 ,  Y10T29/41

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus and method are provided to prevent an adhesion of fine impurities or particles on a substrate and to improve a uniformity of line-width between substrates. CONSTITUTION: On top of respective areas divided by partition plates, that is, a cassette station(2), a processing station(3), and an interface section(4) in a coating and developing processing system, gas supply sections(70,71,72) for supplying an inert gas into the respective areas are provided. Exhaust pipes(75,76,77) for exhausting atmospheres in the respective areas are provided at the bottom of the respective areas. The atmospheres in the respective areas are maintained in a clean condition by supplying the inert gas not containing impurities such as oxygen and fine particles from the respective gas supply sections into the respective areas and exhausting the atmospheres in the respective areas from the exhaust pipes(75,76,77).

Abstract translation: 目的：提供基板处理装置和方法，以防止细小的杂质或颗粒附着在基板上并提高基板之间的线宽的均匀性。 构成：在涂覆和显影处理系统中，由分隔板（即，盒式磁带站（2）），处理站（3）和接口区段（4）分隔的各个区域之上， 71,72）用于将惰性气体供应到各个区域。 在各个区域的底部设置用于排出各区域的气氛的排气管（75,76,77）。 通过将不含杂质的惰性气体（例如氧气和细颗粒）从各个气体供应区域供应到各个区域并且从排气管（75）排出各个区域中的气氛，将各个区域中的气氛保持在清洁状态 ，76,77）。

公开(公告)号：KR100573618B1

公开(公告)日：2006-04-24

申请号：KR1020000079344

申请日：2000-12-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 카타노타카유키 ,  마츠이히데후미 ,  키타노준이치 ,  스즈키요 ,  야마시타마사미 ,  아오야마토루 ,  이와키히로유키 ,  시무라사토루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  B05C11/08 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67754

Abstract: 본 발명은 기판처리방법 및 기판처리장치로서, 레지스트의 도포 등을 하는 처리스테이션 내에, 현상유닛과 도포유닛과 복수의 냉각플레이트를 배치하고, 기판반송장치에 의해 이들 사이에서 웨이퍼의 반송을 한다. 웨이퍼가 반송되는 영역의 온도를 온도검출기에 의해 검출하고, 이 검출값에 의거하여 도포유닛에 반송되어졌을 때의 웨이퍼 온도가 처리액의 도포온도가 되도록, 냉각플레이트에서 냉각되는 웨이퍼의 온도를 조정한다. 이것에 의해, 웨이퍼는 온도를 높은 정도로 유지한 상태에서 도포유닛으로 반송되고, 레지스트액이 도포되기 때문에, 온도변화가 원인이 되는 처리얼룩의 발생을 억제할 수 있고, 처리의 균일성 향상을 도모할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020010062561A

公开(公告)日：2001-07-07

申请号：KR1020000079344

申请日：2000-12-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 카타노타카유키 ,  마츠이히데후미 ,  키타노준이치 ,  스즈키요 ,  야마시타마사미 ,  아오야마토루 ,  이와키히로유키 ,  시무라사토루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  B05C11/08 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67754

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to improve the uniformity of processing by applying a coating processing, while keeping a board in high accuracy in coating and developing devices. CONSTITUTION: The substrate processing apparatus comprises a developing unit(D1), a coating unit(C1) and a plurality of cooling parts(4) which are placed in sequence from the upper side in a processing station for coating a resist. The apparatus, moreover, includes a substrate transfer device(MA) for transferring the substrate cooled in the cooling part to the coating unit(C1), a temperature detector(3A) for detecting the temperature of the area transferred by the substrate transfer device(MA), and a controller(30) for adjusting the temperature of the substrate cooled in the cooling part(4) based on a value detected by the temperature detector(3A) until the temperature of the substrate transferred to the coating unit(C1) become the coating temperature at the time of coating the resist liquid.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，通过施加涂布处理来提高加工的均匀性，同时在涂布和显影装置中保持高精度的板。 构成：基板处理装置包括显影单元（D1），涂布单元（C1）和多个冷却部件（4），它们在用于涂覆抗蚀剂的处理站中从上侧依次放置。 此外，该装置包括用于将冷却部件中冷却的基板传送到涂布单元（C1）的基板转印装置（MA），用于检测由基板转印装置传送的区域的温度的温度检测器（3A） MA），以及控制器（30），用于基于由温度检测器（3A）检测到的值直到转印到涂布单元（C1）的基板的温度来调节冷却部件（4）中冷却的基板的温度， 成为涂布抗蚀剂液体时的涂布温度。