公开(公告)号：KR101578412B1

公开(公告)日：2015-12-17

申请号：KR1020100102222

申请日：2010-10-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마다요시아키 ,  야마모토유이치 ,  고스기히토시 ,  후지모토세이지

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201

Abstract: 포토레지스트도포현상장치로부터노광장치로로드록장치를개재하여반송할때에, 웨이퍼온도의변화를저감시킬수 있는포토레지스트도포현상장치를제공한다. 개시되는포토레지스트도포현상장치(1)는기판에포토레지스트막을형성하는포토레지스트막형성부와, 포토레지스트막형성부에서포토레지스트막이형성된기판을가열하는가열처리부와, 가열처리부에서가열되고포토레지스트막이형성된기판을상온으로냉각하는냉각부와, 냉각부에서상온으로냉각된기판을소정의온도로가열하는가열부(61)와, 포토레지스트막의노광을위하여기판을감압하에서반출하는로드록실(L1)과, 가열부(61)로부터로드록실(L1)로기판을반송하는반송부(62)를구비한다.

公开(公告)号：KR1020110053174A

公开(公告)日：2011-05-19

申请号：KR1020100102222

申请日：2010-10-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마다요시아키 ,  야마모토유이치 ,  고스기히토시 ,  후지모토세이지

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67109 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/202 ,  G03F7/70891 ,  H01L21/681

Abstract: PURPOSE: A photoresist coating and developing device, a substrate transferring method, and an interface device are provided to implement high throughput and high pattern accuracy by raising the temperature of a wafer before the wafer is inputted into a loadlock chamber. CONSTITUTION: A photoresist layer forming unit forms a photoresist layer on a substrate. A heating processing unit heats the substrate with the photoresist layer. A cooling unit cools the substrate which is heated by the heating processing unit and has the photoresist layer to room temperature. A heating unit(61) heats the cooled substrate with a preset temperature. A loadlock chamber(L1) discharges a substrate for exposing the photoresist layer under the pressure reduction. A transfer unit(62) transfers the substrate from the heating unit to the loadlock chamber.

Abstract translation: 目的：提供光致抗蚀剂涂层显影装置，基板转印方法和界面装置，以在将晶片输入到装载锁定室之前提高晶片的温度来实现高通量和高图案精度。 构成：光致抗蚀剂层形成单元在基板上形成光致抗蚀剂层。 加热处理单元用光致抗蚀剂层加热基板。 冷却单元冷却由加热处理单元加热的基板，并使光致抗蚀剂层达到室温。 加热单元（61）以预设温度加热冷却的基板。 负载锁定室（L1）在减压下放电用于暴露光致抗蚀剂层的基板。 传送单元（62）将基板从加热单元传送到负载锁定室。

公开(公告)号：KR100993234B1

公开(公告)日：2010-11-10

申请号：KR1020070070112

申请日：2007-07-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토다로 ,  고스기히토시 ,  야마다요시아키 ,  사이가야스히토

IPC: H01L21/08

CPC classification number: G03F7/38 ,  G03F7/168 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70991 ,  Y10S438/908

Abstract: 고굴절율 액체 순환 시스템(9)은 액침 노광부(30)에서 이용된 고굴절율 액체를 회수하는 제1 회수부(4a)와, 제1 회수부(4a)에 의해 회수된 고굴절율 액체를 세정액으로서 이용하도록 후세정 유닛(POCLN)에 공급하는 제1 공급부(4b)와, 후세정 유닛(POCLN)에서 이용된 고굴절율 액체를 회수하는 제2 회수부(4c)와, 제2 회수부(4c)에 의해 회수된 고굴절율 액체를 액침 노광부(30)에 공급하는 제2 공급부(4d)를 구비하고, 고굴절율 액체를 액침 노광부(30)와 후세정 유닛(POCLN) 사이에서 순환시킨다.

Abstract translation: 用于高折射率液体的循环系统包括：第一收集部分，被配置为收集在浸没曝光部分中使用的高折射率液体; 第一供给部，其构造成将收集在第一收集部中的高折射率液体供给到作为清洗液的清洗部; 第二收集部，其构造成收集在所述清洗部中使用的高折射率液体; 以及第二供给部，被配置为将在第二收集部中收集的高折射率液体供给到浸没曝光部，其中高折射率液体在浸没曝光部和清洁部之间循环。

公开(公告)号：KR1020080008237A

公开(公告)日：2008-01-23

申请号：KR1020070070112

申请日：2007-07-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토다로 ,  고스기히토시 ,  야마다요시아키 ,  사이가야스히토

IPC: H01L21/08

CPC classification number: G03F7/38 ,  G03F7/168 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70991 ,  Y10S438/908

Abstract: A high index liquid circulating system in a pattern forming apparatus is provided to reduce the amount of a high refractive index liquid and a cleaning liquid by simplifying a structure thereof. A first collection unit is formed to collect a high refractive index liquid used in an immersion light exposure unit(30). A first supply unit is formed to supply the high refractive index liquid of the first collection unit to a cleaning unit as a cleaning liquid. A second collection unit is formed to collect the high refractive index liquid used in the cleaning unit. A second supply unit is formed to supply the high refractive index liquid collected in the second collection unit to the immersion light exposure unit. In the circulating process of the high refractive index liquid between the immersion light exposure unit and the cleaning unit, the high refractive index liquid is collected from the immersion light exposure unit to the first collection unit. The first supply unit supplies the high refractive index liquid to the cleaning unit. The second collection unit collects the high refractive index liquid from the cleaning unit. The second supply unit supplies the high refractive index liquid to the immersion light exposure unit.

Abstract translation: 提供了图案形成装置中的高折射率液体循环系统，以通过简化其结构来减少高折射率液体和清洁液体的量。 形成第一收集单元以收集在浸没曝光单元（30）中使用的高折射率液体。 第一供给单元被形成为将第一收集单元的高折射率液体作为清洁液体提供给清洁单元。 形成第二收集单元以收集在清洁单元中使用的高折射率液体。 第二供给单元被形成为将收集在第二收集单元中的高折射率液体供给到浸没曝光单元。 在浸渍曝光单元和清洁单元之间的高折射率液体的循环过程中，将高折射率液体从浸没曝光单元收集到第一收集单元。 第一供应单元将高折射率液体供应到清洁单元。 第二收集单元从清洁单元收集高折射率液体。 第二供应单元将高折射率液体供应到浸没曝光单元。