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    기판 처리 장치의 제어 장치, 기판 처리 장치의 제어 방법및 기판 처리 장치의 제어 프로그램을 기억한 기록 매체
    1.
    发明授权
    기판 처리 장치의 제어 장치, 기판 처리 장치의 제어 방법및 기판 처리 장치의 제어 프로그램을 기억한 기록 매체 有权
    基板处理装置的控制器，基板处理装置的控制方法以及基板处理装置的存储介质存储控制程序

    公开(公告)号：KR100882221B1

    公开(公告)日：2009-02-06

    申请号：KR1020070031063

    申请日：2007-03-29

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 요코우치다케시 ,  야기후미코

    IPC: H01L21/02 ,  H01L21/205

    Abstract: 온도에 관한 조건에 근거하여 처리 용기 내의 상태를 조정하기 위해 더미 처리를 실행할지 여부를 판정한다.
    EC(200)는, 제품 기판(웨이퍼 W)에 대하여 에칭 처리를 실행하는 기판 처리 실행부(280), 더미 기판에 대하여 더미 처리를 실행하는 더미 처리 실행부(275) 및 온도에 관한 조건에 근거하여 더미 처리를 실행할지 여부를 판정하는 판정부(270)를 갖고 있다. 판정부(270)는, PM(400)에 마련된 각 PM의 처리 용기 내의 분위기를 조정하기 위한 온도에 관한 정보를 취득하고, 취득한 온도 정보에 근거하여 처리 용기 내의 온도 상태가 조정되고 있는지 여부를 판정한다. 판정부(270)에 의해 처리 용기의 온도 상태가 조정되고 있다고 판정된 경우, 기판 처리 실행부(280)는, 더미 처리 실행부(275)에 더미 처리를 실행시키지 않고, 즉시 제품 기판에 대하여 에칭 처리를 실행하도록 제어한다.

    기판 처리 장치, 기판 처리 조건 변경 방법 및 기억 매체
    3.
    发明授权
    기판 처리 장치, 기판 처리 조건 변경 방법 및 기억 매체 有权
    기판처리장치，기판처리조건변경방법및기억매억체

    公开(公告)号：KR100874278B1

    公开(公告)日：2008-12-17

    申请号：KR1020070018840

    申请日：2007-02-26

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 요코우치다케시 ,  야기후미코

    IPC: H01L21/02 ,  H01L21/306

    Abstract: A substrate processing apparatus, a method for modifying substrate processing conditions and a storage medium are provided to modify the processing conditions for the substrate whose process has been stopped, thereby performing a process on a substrate again whose process has been stopped in an optimal manner. A setting unit sets substrate processing conditions for a substrate(W) in a substrate processing unit processing the substrate. A detection unit detects an abnormality of the substrate processing unit while the substrate processing unit processes the substrate under the substrate processing conditions. A stopping unit stops the process of the substrate processing unit if the abnormality is detected. A modifying unit modifies the substrate processing conditions for a substrate on which the process is stopped by the stopping unit. The modifying unit modifies the substrate processing conditions by revising the substrate processing conditions.

    Abstract translation: 本发明提供一种基板处理装置，基板处理条件修改方法和存储介质，以修改其处理已经停止的基板的处理条件，由此再次以最佳方式对处理已停止的基板执行处理。 设定单元在处理衬底的衬底处理单元中设置用于衬底（W）的衬底处理条件。 在衬底处理单元在衬底处理条件下处理衬底的同时，检测单元检测衬底处理单元的异常。 如果检测到异常，则停止单元停止基板处理单元的处理。 修改单元修改由停止单元停止处理的衬底的衬底处理条件。 修改单元通过修改衬底处理条件来修改衬底处理条件。

    기판 처리 장치, 기판 처리 조건 검토 방법 및 기억 매체
    4.
    发明公开
    기판 처리 장치, 기판 처리 조건 검토 방법 및 기억 매체 有权
    基板处理装置，检查基板处理条件的方法和存储介质

    公开(公告)号：KR1020070092137A

    公开(公告)日：2007-09-12

    申请号：KR1020070022262

    申请日：2007-03-07

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 요코우치다케시 ,  야기후미코

    IPC: H01L21/00 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/304 ,  H01L21/205

    CPC classification number: H01L21/67276 ,  G05B19/41865 ,  G05B2219/31443 ,  G05B2219/32096 ,  G05B2219/32097 ,  G05B2219/45031 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67745 ,  Y02P90/20

    Abstract: A substrate processing apparatus is provided to enable correction of a process condition by removing prohibition of variation of a process condition while a predetermined number of substrates are being processed. A substrate is processed in a substrate processing unit. While a predetermined number of substrates are processed, a prohibition part prohibits variation of the process condition of the process. A removal part removes the prohibition of the variation of the process condition, the predetermined number of substrates being processed. A correction part corrects the process condition. A transfer prohibition part can prohibit the substrate from being transferred to the substrate processing unit. The correction part can correct the process condition when the substrate is prohibited from being transferred to the substrate processing unit.

    Abstract translation: 提供了一种基板处理装置，用于通过在正在处理预定数量的基板的同时消除对处理条件的变化的禁止来校正处理条件。 在衬底处理单元中处理衬底。 当预定数量的基板被处理时，禁止部分禁止改变处理过程的状态。 去除部分消除了对处理条件的变化的禁止，预定数量的衬底被处理。 校正部分校正过程条件。 转印禁止部分可以禁止基板转印到基板处理单元。 当基板被禁止转移到基板处理单元时，校正部分可以校正处理条件。

    기판 처리 장치의 제어 장치, 기판 처리 장치의 제어 방법및 기판 처리 장치의 제어 프로그램을 기억한 기록 매체
    6.
    发明公开
    기판 처리 장치의 제어 장치, 기판 처리 장치의 제어 방법및 기판 처리 장치의 제어 프로그램을 기억한 기록 매체 有权
    基板处理装置的控制器，基板处理装置的控制方法以及基板处理装置的存储介质存储控制程序

    公开(公告)号：KR1020070098685A

    公开(公告)日：2007-10-05

    申请号：KR1020070031063

    申请日：2007-03-29

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 요코우치다케시 ,  야기후미코

    IPC: H01L21/02 ,  H01L21/205

    Abstract: A controller of a substrate processing apparatus, a controlling method of the substrate processing apparatus, and a storage medium storing a control program thereon are provided to save resources and energy for a dummy process by omitting the dummy process when the temperature of a process chamber is properly regulated according to a product substrate. A controller of a substrate processing apparatus includes a substrate process unit, a dummy process unit(275), and a determining unit(270). The substrate process unit performs a predetermined process on a product substrate. The dummy process unit performs a dummy process on a non-product substrate. The determining unit obtains information on a temperature inside a process chamber and determines whether the temperature inside the process chamber is properly regulated based on the obtained temperature information. The substrate process unit prevents the dummy process unit from performing the dummy process on the substrate, when the temperature inside the process chamber is determined to be property regulated. At least one recipe used for processing the substrate is stored in a memory(250).

    Abstract translation: 提供基板处理装置的控制器，基板处理装置的控制方法和存储其上的控制程序的存储介质，以在处理室的温度为 根据产品底物适当调节。 衬底处理装置的控制器包括衬底处理单元，虚拟处理单元（275）和确定单元（270）。 基板处理单元对产品基板执行预定处理。 虚拟处理单元对非产品基板执行虚拟处理。 确定单元获得关于处理室内的温度的信息，并且基于获得的温度信息来确定处理室内的温度是否被适当地调节。 当处理室内的温度被确定为性质调节时，衬底处理单元防止虚设处理单元在衬底上执行虚设处理。 用于处理衬底的至少一个配方存储在存储器（250）中。

    기판 처리 장치, 기판 처리 조건 변경 방법 및 기억 매체
    7.
    发明公开
    기판 처리 장치, 기판 처리 조건 변경 방법 및 기억 매체 有权
    基板处理装置，修改基板处理条件和存储介质的方法

    公开(公告)号：KR1020070089604A

    公开(公告)日：2007-08-31

    申请号：KR1020070018840

    申请日：2007-02-26

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 요코우치다케시 ,  야기후미코

    IPC: H01L21/02 ,  H01L21/306

    Abstract: A substrate processing apparatus, a method for modifying substrate processing conditions and a storage medium are provided to modify the processing conditions for the substrate whose process has been stopped, thereby performing a process on a substrate again whose process has been stopped in an optimal manner. A setting unit sets substrate processing conditions for a substrate(W) in a substrate processing unit processing the substrate. A detection unit detects an abnormality of the substrate processing unit while the substrate processing unit processes the substrate under the substrate processing conditions. A stopping unit stops the process of the substrate processing unit if the abnormality is detected. A modifying unit modifies the substrate processing conditions for a substrate on which the process is stopped by the stopping unit. The modifying unit modifies the substrate processing conditions by revising the substrate processing conditions.

    Abstract translation: 提供了基板处理装置，基板处理条件的修改方法以及存储介质，以修正其处理停止的基板的处理条件，从而以最佳的方式再次对已经停止处理的基板进行处理。 设置单元设置处理基板的基板处理单元中的基板（W）的基板处理条件。 检测单元在衬底处理单元在衬底处理条件下处理衬底的同时检测衬底处理单元的异常。 如果检测到异常，停止单元停止基板处理单元的处理。 修改单元通过停止单元修改其处理停止的基板的基板处理条件。 修改单元通过修改基板处理条件来修改基板处理条件。

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