公开(公告)号：KR101059309B1

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：KR1020060026833

申请日：2006-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠오카테츠오 ,  키타노타카히로 ,  마츠오카노부아키

IPC: H01L21/324

CPC classification number: F27B5/04 ,  F27D3/0084 ,  H01L21/67109

Abstract: 본 발명은 가열장치, 도포, 현상장치 및 가열방법에 관한 것으로서 기판을 재치하는 열판과 이 기판과 대향하는 천정판이 상기 열판과 천정판의 사이에 가스를 토출하는 가스 토출부와, 상기 열판을 끼워서 가스 토출부와 대향하여 설치된 배기부와, 기판의 제 1의 영역 제 2의 영역을 구비하도록 가열 장치를 구성한다. 한방향 흐름이 형성되고 제 1의 영역과 제 2의 영역을 다른 온도로 가열하는 것으로 면내 균일성이 높은 가열처리가 행해진다. 이 가열장치에 있어서 상기 가스가 일정 온도로 가열되고 또한 상기 열판상에 일정한 높이의 돌기부가 구비됨으로써 기판의 휘어짐에 의한 위치 차이를 방지하고 또한 기판의 냉각을 방지할 수 있기 때문에 면내 균일성이 높은 가열 처리를 실시할 수 있는 파티클이 기판으로의 부착이 억제되고 기판의 휘어짐에 의한 열판으로의 접촉을 억제할 수 있고 또한 면내 균일성이 높은 가열처리의 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明被夹在气体排出部之间，以板面对所述散热器和用于安装基片涉及一种加热装置，涂布，显影装置和用于排出热板和顶板，所述底板之间的气体的加热方法在衬底的天花板 与气体排出部相对设置的排气部和基板的第一区域。 形成单向流动，并且第一区域和第二区域被加热到不同温度，由此执行具有高面内均匀性的热处理。 在该加热装置中，由于气体被加热到预定温度并且具有预定高度的突起被设置在热板上，所以可以防止由于基板的翘曲而导致的位置差异并且防止基板的冷却， 抑制微粒与基材的密合性进行热处理，能够抑制热板的接触，由于基板的翘曲，并且还提供在面内的高热处理的技术的均匀性。

公开(公告)号：KR1020070026198A

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：KR1020060083557

申请日：2006-08-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠오카테츠오 ,  아키모토마사미 ,  키타노타카히로 ,  키무라요시오 ,  하야시신이치 ,  이토우히카루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/324

CPC classification number: C30B33/02 ,  C30B35/00 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67748 ,  G03F7/168 ,  G03F7/70733

Abstract: A heating apparatus and a coating developing apparatus are provided to reduce the particles attached to a substrate by decreasing an overhead time. A heating apparatus includes a process chamber, a heating chamber, a heating plate, a cooling plate, and a transfer unit. The heating chamber(4) is installed in the process chamber. The heating chamber is formed like a flat type structure. The heating chamber has an opening portion capable of loading and unloading a substrate. The heating plate is arranged in the heating chamber. The cooling plate(3) is installed in the process chamber adjacent to the opening portion of the heating chamber in order to cool the substrate. The transfer unit(5) is installed in the process chamber in order to transfer the substrate between an upper side of the cooling plate and the inside of the heating chamber.

Abstract translation: 提供加热装置和涂覆显影装置，通过减少开销时间来减少附着在基板上的颗粒。 加热装置包括处理室，加热室，加热板，冷却板和转印单元。 加热室（4）安装在处理室中。 加热室形成为平坦型结构。 加热室具有能够装载和卸载基板的开口部分。 加热板配置在加热室内。 为了冷却基板，将冷却板（3）安装在与加热室的开口部相邻的处理室中。 传送单元（5）安装在处理室中，以便在冷却板的上侧和加热室的内侧之间传送基板。

公开(公告)号：KR1020060103217A

公开(公告)日：2006-09-28

申请号：KR1020060026833

申请日：2006-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠오카테츠오 ,  키타노타카히로 ,  마츠오카노부아키

IPC: H01L21/324

CPC classification number: F27B5/04 ,  F27D3/0084 ,  H01L21/67109

Abstract: 본 발명은 가열장치· 도포· 현상장치 및 가열방법에 관한 것으로서 기판을 재치하는 열판과 이 기판과 대향하는 천정판이 상기 열판과 천정판의 사이에 가스를 토출하는 가스 토출부와 ; 상기 열판을 끼워서 가스 토출부와 대향하여 설치된 배기부와 ; 기판의 제 1의 영역 제 2의 영역을 구비하도록 가열 장치를 구성한다. 한방향 흐름이 형성되고 제 1의 영역과 제 2의 영역을 다른 온도로 가열하는 것으로 면내 균일성이 높은 가열처리가 행해진다. 이 가열장치에 있어서 상기 가스가 일정 온도로 가열되고 또한 상기 열판상에 일정한 높이의 돌기부가 구비됨으로써 기판의 휘어짐에 의한 위치 차이를 방지하고 또한 기판의 냉각을 방지할 수 있기 때문에 면내 균일성이 높은 가열 처리를 실시할 수 있는 파티클이 기판으로의 부착이 억제되고 기판의 휘어짐에 의한 열판으로의 접촉을 억제할 수 있고 또한 면내 균일성이 높은 가열처리의 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101821594B1

公开(公告)日：2018-01-24

申请号：KR1020120040110

申请日：2012-04-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠오카테츠오 ,  키타노타카히로

IPC: H01L21/027

Abstract: 온도의신속한변경과기판의균일한가열을가능하게하는기판가열장치를제공한다. 기판을가열하는발열체를포함하고, 휘는성질을가지는가열판과, 상기가열판에설치되고, 상기기판을지지하는기판지지부재와, 상기기판지지부재에의해지지되는상기기판과상기가열판사이의공간을감압하는감압부를구비하는기판가열장치에의해상기한과제가달성된다.

Abstract translation: 提供了一种能够快速改变温度并且能够均匀地加热基板的基板加热设备。 基板支撑部件，其设置在所述加热板上并支撑所述基板，所述基板和所述加热板之间的空间由所述基板支撑部件保持， 上述问题可以通过具有减压部的基板加热装置来实现。

公开(公告)号：KR101656333B1

公开(公告)日：2016-09-09

申请号：KR1020100077208

申请日：2010-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 심무라사토시 ,  후쿠오카테츠오 ,  키타노타카히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: C23C16/24 ,  C23C16/4485

Abstract: 약액의기화효율이높아고농도의소수화가스를기판으로공급할수 있고, 또한약액의열화를억제할수 있는소수화처리장치를제공한다. 기화실내에표면이위치하는기화면형성부와, 이기화면형성부를가열하기위한기화면가열수단과, 상기기화면형성부의표면에소수화처리용의약액을공급하기위한약액공급포트와, 캐리어가스를상기기화실내로도입하기위한가스도입포트와, 소수화가스를취출하기위한취출포트와, 상기취출포트로부터공급된소수화가스를기판으로공급하는처리용기를구비하도록소수화처리장치를구성한다. 이구성에의해기판으로고농도의소수화가스를공급할수 있고, 처리를행하지않을때에는저장된약액이캐리어가스에접촉하는일이없으므로, 약액의열화가억제된다.

公开(公告)号：KR1020120118436A

公开(公告)日：2012-10-26

申请号：KR1020120040110

申请日：2012-04-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠오카테츠오 ,  키타노타카히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273 ,  F26B9/06 ,  G02F1/1333 ,  G03F7/162 ,  H01L21/324

Abstract: PURPOSE: A substrate heating device, a coating and developing device including the same and a substrate heating method are provided to uniformly heat a substrate during using a thin heating plate for rapid change of a temperature. CONSTITUTION: A cover member(57) is located on the bottom of a casing(52). Three lift pins(53) penetrate the cover member and are fixed to the cover member. A branch pipe(58) is branched from a pipe(56b) of a gas supply system(56). The branch pipe joins by forming a switch valve(58a) on an exhaust pipe(60L). The exhaust pipe connects a vacuum exhauster(60) and an exhaust pipe(52V) at the bottom of the casing.

Abstract translation: 目的：提供一种基板加热装置，包括该基板加热装置的涂覆和显影装置和基板加热方法，以在使用用于快速变化温度的薄加热板期间均匀加热基板。 构成：盖构件（57）位于壳体（52）的底部。 三个提升销（53）穿过盖构件并固定到盖构件上。 支管（58）从气体供给系统（56）的管（56b）分支。 分支管通过在排气管（60L）上形成切换阀（58a）而连接。 排气管连接真空排气器（60）和壳体底部的排气管（52V）。

公开(公告)号：KR101088541B1

公开(公告)日：2011-12-05

申请号：KR1020060083557

申请日：2006-08-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠오카테츠오 ,  아키모토마사미 ,  키타노타카히로 ,  키무라요시오 ,  하야시신이치 ,  이토우히카루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/324

CPC classification number: C30B33/02 ,  C30B35/00 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67748

Abstract: 본 발명은 가열장치 및 도포, 현상장치에 관한 것으로서 가열 장치 (2)는 프레임체 (20)과 프레임체 (20)내에 설치되어 기판인 웨이퍼 (W)를 가열 처리함과 동시에 한쪽측이 웨이퍼 (W)를 반입출 하기 위해서 개구하는 편평한 가열실 (4)와 상기 웨이퍼 (W)를 윗쪽측 및 아래쪽측으로부터 가열하도록 상기 가열실 (4)에 설치된 열판 (44,45)를 구비하고 있다. 상기 프레임체 (20)내에 상기 가열실 (4)의 개구 측에 인접하도록 열판 (44,45)로 가열된 웨이퍼 (W)를 냉각하기 위한 냉각 플레이트 (3)이 설치되고 있다. 상기 프레임체 (20)내에 상기 웨이퍼 (W)를 냉각 플레이트 (3)의 윗쪽측의 위치와 가열실 (4)의 내부의 사이에 반송하고 상기 가열실 (4)내에서 웨이퍼 (W)를 보지한 상태로 기판의 가열 처리를 행하기 위한 반송 수단이 설치되고 있는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020110020731A

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：KR1020100077208

申请日：2010-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 심무라사토시 ,  후쿠오카테츠오 ,  키타노타카히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: C23C16/24 ,  C23C16/4485 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A hydrophobicizing apparatus, a hydrophobicizing method, and a storage medium are provided to supply high concentration hydrophobic gases to a substrate by increasing the efficiency of evaporating a liquid medicine. CONSTITUTION: In a hydrophobicizing apparatus, a hydrophobicizing method, and a storage medium, an evaporation surface heating portion(62) heats an evaporation surface shaping region(65). A medicine liquid supply port(58) supplies a hydrophobic medicine liquid to the surface of the substrate of the evaporation surface shaping region. A gas inlet port introduces carrier gases within a vaporization chamber. An outlet port(68) extracts hydrophobic gases from the vaporization chamber. A processing container performs hydrophobolic process by using extracted hydrophobic gases.

Abstract translation: 目的：提供疏水化装置，疏水化方法和储存介质，以通过提高蒸发液体药物的效率将高浓度疏水性气体提供给基底。 构成：在疏水化装置中，疏水化方法和储存介质，蒸发表面加热部分（62）加热蒸发表面成形区域（65）。 药液供给口（58）向蒸发面成形区域的基板的表面供给疏水性药液。 气体入口在气化室内引入载气。 出口端口（68）从蒸发室提取疏水性气体。 处理容器通过使用提取的疏水性气体进行疏水过程。