公开(公告)号：KR101114867B1

公开(公告)日：2012-03-06

申请号：KR1020067009242

申请日：2004-11-01

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 스미스스코트티. ,  에르쇼프알렉산더Ⅰ. ,  루카셰프,알렉세이

IPC: G02B6/26 ,  B23K26/02 ,  H01S3/223

Abstract: 고피크 파워 단펄스 듀레이션 가스 방전 레이저 출력 펄스를 제공하는 장치 및 방법에 있어서, 출력 레이저 펄스의 일부를 광학적 지연 경로를 갖는 광학적 지연 수단으로 방향을 전환시키는 레이저 출력 펄스 광학적 지연 개시 광학기기를 구비하는 펄스 스트레처를 포함하고, 상기 광학기기는; 광학적 지연의 출력을 레이저 출력 펄스 광학적 지연 개시 광학기기로 전달하도록 직렬로 정렬된(aligned) 복수의 공초점 공진기(confocal resonator)를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치 및 방법이 개시되어 있다. 상기 복수의 공초점 공진기는 12개의 경로의 4개의 미러 배치를 갖는 4개의 공초점 공진기를 포함한다. 상기 복수의 공초점 공진기 각각은 곡률반경을 갖는 제 1 오목 구면 미러와, 동일한 곡률반경을 갖고 곡률반경만큼에 의해 이격되는 제 2 오목 구면 미러를 포함한다. 상기 펄스 스트레처는 제 1 공초점 공진기 셀을 구비하며, 상기 제 1 공초점 공진기 셀은; 제 1 오목 구면 미러의 면상의 제 1 포인트에서의 출력 레이저 펄스의 일부를 구비하는 레이저 출력 펄스 광학적 지연 개시 광학기기로부터의 입력 빔을 받아서, 제 1 반사빔을 생성하는, 일정한 곡률반경을 갖는 제 1 오목 구면 미러; 동일한 곡률반경을 갖고 상기 곡률반경 만큼에 의해 제 1 오목 구면 미러와 이격되며, 제 2 오목 구면 미러의 면상의 제 1 포인트에서 제 1 반사빔을 받아서 상기 제 1 오목 구면 미러의 면상의 제 2 포인트로 입사하는 제 2 반사빔을 생성하고, 상기 제 2 반사빔은 제 1 미러 상의 제 2 포인트로부터 제 1 오목 구면 미러에 의해 반사되어 상기 제 1 공초점 공진기 셀에서 출력빔을 만들도록 하는 제 2 오목 구면 미러; 및 제 2 공초점 공진기 셀의 입력빔으로서 제 1 공초점 공진기 셀의 출력 빔을 받는 제 2 공초점 공진기 셀을 구비한다. 상기 장치와 방법은 빔전달 유닛의 일부를 형성하고, 집적회로 리소그래피 광원 또는 집적회로 리소그래피 툴의 일부가 된다. 상기 장치와 방법은 복수의, 예를 들면 직렬인 2개의 펄스 스트레처를 구비하고, 공간 코히런스 메트로러지를 구비한다.
레이저 출력 펄스, 고피크 파워 단펄스 듀레이션 가스 방전 레이저 시스템, 펄스 스트레처, 광학적 지연 경로, 광학적 지연, 레이저 출력 펄스 광학적 지연 개시 광학기기, 공초점 공진기

Abstract translation: 在短脉冲持续时间的装置和方法，用于提供气体放电激光输出脉冲，具有激光输出脉冲光延迟发起光学装置到所述光学延迟的方向转换高的峰值功率是指具有光延迟路径的输出激光脉冲的部分 一种脉冲展宽器，该光学装置包括： 并且多个串联排列的共焦谐振器将光延迟的输出传递给激光输出脉冲光延迟启动光学器件。 多个共焦谐振器包括四个具有十二条路径的四个镜面结构的共焦谐振器。 所述多个共焦谐振器的每一个具有第一凹球面镜和曲率具有曲率半径和第二凹球面镜多达曲率半径隔开相同的半径。 所述脉冲展宽器包括第一共焦谐振器单元，所述第一共焦谐振器单元包括： 的第一凹部接收来自所述激光输出脉冲的光延迟发起光学装置包括：在所述球面镜的表面上的第一点处的输出激光脉冲的一部分输入光束，具有第一反射曲率光束恒定半径，用于产生第一 1个凹球面镜; 有多达从第一凹球面镜间隔为曲率半径相同的曲率半径，并且所述第二在凹球面镜的表面上的第一点的第一反射光束以接收所述球面凹镜​​的表面上的所述第一第二点 第二第二反射产生的反射光束，光束入射到第二，它以产生从所述第一共焦谐振器单元中的输出光束首先通过从所述第一反射镜在第二点处的第一凹球面反射镜反射的 凹球面镜; 并且第二共焦谐振器单元接收第一共焦谐振器单元的输出光束作为第二共焦谐振器单元的输入光束。 该设备和方法形成光束传送单元的一部分并且成为集成电路光刻光源或集成电路光刻工具的一部分。 该设备和方法包括多个串联的例如两个脉冲展宽器，并且包括空间相干度量。

公开(公告)号：KR100907299B1

公开(公告)日：2009-07-13

申请号：KR1020077019695

申请日：2002-08-28

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  브라운다니엘제이.,더블유. ,  베사첼레허브에이. ,  마이어스데이비드더블유. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  파르틀로윌리암엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  다스플래쉬피. ,  앤더슨스튜어트엘. ,  포멘코프이고르브이. ,  우자즈도우스키리차드씨 ,  온켈스에커하드디. ,  네스리차드엠. ,  스미스스코트티. ,  헐버드윌리암지. ,  오이클레스제프리

IPC: H01S3/10

CPC classification number: G01J1/4257 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영역으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.
펄스율, 광원, 파장, 가스 방전 레이저, 펄스, 미러, 방전 챔버, 전극

公开(公告)号：KR1020070093464A

公开(公告)日：2007-09-18

申请号：KR1020077019695

申请日：2002-08-28

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  브라운다니엘제이.,더블유. ,  베사첼레허브에이. ,  마이어스데이비드더블유. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  파르틀로윌리암엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  다스플래쉬피. ,  앤더슨스튜어트엘. ,  포멘코프이고르브이. ,  우자즈도우스키리차드씨 ,  온켈스에커하드디. ,  네스리차드엠. ,  스미스스코트티. ,  헐버드윌리암지. ,  오이클레스제프리

IPC: H01S3/10

CPC classification number: G01J1/4257 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: An injection seeded modular gas discharge laser system (2) capable of producing high quality pulsed beams at pulse rates of about 4,000 Hz or greater and at pulse energies of about 5 mJ or greater. Two separate discharge chambers are provided, one of which is a part of a master oscillator (10) producing a very narrow band seed beam, which is amplified (12) in the second discharge chamber. The chambers can be controlled separately permitting separate optimization of wavelength parameters in the master oscillator and optimization of pulse energy parameters in the amplifying chamber. A preferred embodiment in the ArF excimer laser system configured as a MOPA and specifically designed for use as a light source for integrated circuit lithography. In the preferred MOPA embodiment, each chamber comprises a single tangential fan (10A) providing sufficient gas flow to permit operation at pulse rates of 4,000 Hz or greater by cleaning debris from the discharge region in less time that the approximately 0.25 milliseconds between pulses. The masters oscillation is equipped with a line narrowing package having a very fast tuning mirror capable of controlling centerline wavelength on a pulse-to-pulse basis at repetition rates of 4000 Hz or greater to a precision of less than 0.2 pm.

Abstract translation: 一种注射接种的模块化气体放电激光系统（2），其能够以约4,000Hz或更大的脉冲速率和约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量的脉冲光束。 提供两个单独的放电室，其中之一是主振荡器（10）的一部分，其产生非常窄的带状晶体束，其在第二放电室中放大（12）。 可以单独控制室，允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 配置为MOPA并被专门用于集成电路光刻的光源的ArF准分子激光系统中的优选实施例。 在优选的MOPA实施例中，每个腔室包括单个切向风扇（10A），该切向风扇（10A）提供足够的气流，以允许在脉冲之间的大约0.25毫秒的时间内清除来自放电区域的碎屑。 主机振荡配备有具有非常快的调谐镜的线窄化包，能够以4000Hz或更大的重复频率在脉冲到脉冲的基础上控制中心线波长，精度低于0.2μm。

公开(公告)号：KR1020040047802A

公开(公告)日：2004-06-05

申请号：KR1020047003063

申请日：2002-08-19

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 클레네브라이언씨. ,  다스팔라시피. ,  그로베스티븐엘. ,  에르쇼브알렉산더아이. ,  스미스스코트티. ,  팬시아오지앙제이. ,  샌드스트롬리차드엘.

IPC: H01S3/03

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/11 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 본원발명은 생산 라인 머신용 모듈러 고반복률 자외선 가스 방전 레이저(4) 광원을 제공한다. 본원 시스템은 생산 라인 머신의 입구 포트 등의 소망 위치에 레이저 빔을 송출하기 위해 인클로징 및 퍼징된 빔 경로를 포함한다. 바람직한 실시예에 있어서, 생산 라인 머신은 리소그래피 머신(2)이고, 2개의 별개의 방전 챔버가 제공되는데, 그 중 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는 초협대역 센드 빔을 발생시키는 마스터 발진기의 일부이다. MOPA 시스템은 비교가능한 단일 챔버 레이저 시스템의 거의 2배의 펄스 에너지를 상당히 향상된 빔 품질로 출력할 수 있다. 펄스 스트레처는 출력 펄스 길이를 2배 이상으로 하여 종래기술 레이저 시스템에 비해 펄스 전력(mJ/ns)이 감소된다. 이러한 바람직한 실시예는 실질적으로 광학 컴포넌트의 저하에도 불구하고 리소그래피 시스템의 동작수명 내내 가능하다.

Abstract translation: 本发明提供一种用于生产线机器的模块化高重复频率紫外线气体放电激光光源。 该系统包括一个封闭和净化光束路径，用于将激光束传送到生产线机器入口等所需位置。 在优选实施例中，生产线机器是平版印刷机，并且提供两个单独的放电室，其中一个是主振荡器的一部分，产生在第二放电室中放大的非常窄带的种子束。 该MOPA系统的输出脉冲能量大约是可比较的单腔激光系统的两倍，大大改善了光束质量。 与现有技术的激光系统相比，脉冲展宽器使输出脉冲长度增加了一倍，导致脉冲功率（mJ / ns）的降低。 该优选实施例能够在光刻系统晶片平面上提供照明，该平面在光刻系统的整个工作寿命期间近似恒定，尽管光学元件大量劣化。

公开(公告)号：KR1020040032988A

公开(公告)日：2004-04-17

申请号：KR1020047003032

申请日：2002-08-19

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  브라운다니엘제이.,더블유. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  릴로프저먼,이. ,  온켈스에커하드디. ,  베사첼레허브에이. ,  마이어스데이비드더블유. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  파르틀로윌리암엔. ,  포멘코프이고르브이. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  네스리차드엠. ,  스미스스코트티. ,  헐버드윌리암지.

IPC: H01S3/10

CPC classification number: H01S3/2366 ,  G01J9/00 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템(2)이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는(12), 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터(10)의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영여으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬(10A)을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.

公开(公告)号：KR1020040032984A

公开(公告)日：2004-04-17

申请号：KR1020047002982

申请日：2002-08-28

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  브라운다니엘제이.,더블유. ,  베사첼레허브에이. ,  마이어스데이비드더블유. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  파르틀로윌리암엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  다스플래쉬피. ,  앤더슨스튜어트엘. ,  포멘코프이고르브이. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  온켈스에커하드디. ,  네스리차드엠. ,  스미스스코트티. ,  헐버드윌리암지. ,  오이클레스제프리

IPC: H01S3/10

CPC classification number: G01J1/4257 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영역으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.

Abstract translation: 一种注入式模块化气体放电激光系统，能够以大约4,000Hz或更高的脉冲速率和大约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量脉冲激光束。 提供了两个独立的放电室，其中一个是主振荡器的一部分，产生在第二放电室中放大的非常窄带的种子束。 这些室可以分开控制，允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 ArF准分子激光系统中的一个优选实施例被配置为MOPA并且被专门设计用作集成电路光刻的光源。 在优选的MOPA实施例中，每个腔室包括单个切向风扇，该单个切向风扇提供足够的气流以允许通过在比脉冲之间的大约0.25毫秒更少的时间内清除来自放电区域的碎片而以4000Hz或更大的脉冲速率进行操作。 主振荡器配备有线变窄的封装，该封装具有非常快速的调谐反射镜，其能够以4000Hz或更高的重复率以脉冲至脉冲的方式控制中心线波长，精度低于0.2μm。

公开(公告)号：KR100965770B1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：KR1020047002982

申请日：2002-08-28

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  브라운다니엘제이.,더블유. ,  베사첼레허브에이. ,  마이어스데이비드더블유. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  파르틀로윌리암엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  다스플래쉬피. ,  앤더슨스튜어트엘. ,  포멘코프이고르브이. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  온켈스에커하드디. ,  네스리차드엠. ,  스미스스코트티. ,  헐버드윌리암지. ,  오이클레스제프리

IPC: H01S3/10

CPC classification number: G01J1/4257 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영역으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.
펄스율, 광원, 파장, 가스 방전 레이저, 펄스, 미러, 방전 챔버, 전극

公开(公告)号：KR100909018B1

公开(公告)日：2009-07-22

申请号：KR1020047003063

申请日：2002-08-19

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 클레네브라이언씨. ,  다스팔라시피. ,  그로베스티븐엘. ,  에르쇼브알렉산더아이. ,  스미스스코트티. ,  팬시아오지앙제이. ,  샌드스트롬리차드엘.

IPC: H01S3/03

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/11 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 본원발명은 생산 라인 머신용 모듈러 고반복률 자외선 가스 방전 레이저(4) 광원을 제공한다. 본원 시스템은 생산 라인 머신의 입구 포트 등의 소망 위치에 레이저 빔을 송출하기 위해 인클로징 및 퍼징된 빔 경로를 포함한다. 바람직한 실시예에 있어서, 생산 라인 머신은 리소그래피 머신(2)이고, 2개의 별개의 방전 챔버가 제공되는데, 그 중 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는 초협대역 센드 빔을 발생시키는 마스터 발진기의 일부이다. MOPA 시스템은 비교가능한 단일 챔버 레이저 시스템의 거의 2배의 펄스 에너지를 상당히 향상된 빔 품질로 출력할 수 있다. 펄스 스트레처는 출력 펄스 길이를 2배 이상으로 하여 종래기술 레이저 시스템에 비해 펄스 전력(mJ/ns)이 감소된다. 이러한 바람직한 실시예는 실질적으로 광학 컴포넌트의 저하에도 불구하고 리소그래피 시스템의 동작수명 내내 가능하다.
레이저, 방전, 송출, 협대역, 열교환기, 퍼지, 스트레처, 챔버

公开(公告)号：KR1020060114330A

公开(公告)日：2006-11-06

申请号：KR1020067009242

申请日：2004-11-01

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 스미스스코트티. ,  에르쇼프알렉산더Ⅰ. ,  루카셰프,알렉세이

IPC: G02B6/26 ,  B23K26/02 ,  H01S3/223

CPC classification number: G03F7/7055 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/225

Abstract: An apparatus and method for providing a high peak power short pulse duration gas discharge laser comprising a pulse stretcher which may comprise a laser output pulse optical delay initiating optic diverting a portion of the output laser pulse into an optical delay having an optical delay path and comprising; a plurality of confocal resonators in series aligned to deliver an output of the optical delay to the laser output pulse optical delay initiating optic. The plurality of confocal resonators comprises four confocal resonators may comprise a first spherical having a radius of curvature a second concave spherical mirror having the same radius of curvature and separated from the first concave spherical mirror by the radius of curvature and receiving the first reflected beam at a first point on a face of the second concave spherical mirror and generating a second reflected beam incident on a second point on the face of the first concave spherical mirror, the second reflected beam being reflected by the first concave spherical mirror from the second point on the first mirror to form an output beam from the first confocal resonator cell; and, a second confocal resonator cell receiving the output beam of the first confocal resonator cell as an input beam of the second confocal resonator cell. The apparatus and method may comprise a plurality, e.g., two pulse stretchers in series and may include spatial coherency metrology.

Abstract translation: 一种用于提供高峰值功率短脉冲持续时间气体放电激光器的装置和方法，包括脉冲展宽器，其可以包括激光输出脉冲光学延迟启动光学，将输出激光脉冲的一部分转移到具有光学延迟路径的光学延迟中，并且包括 ; 串联的多个共焦共振器对准以将光延迟的输出传递到激光输出脉冲光延迟启动光学元件。 多个共焦共振器包括四个共聚焦共振器可以包括具有曲率半径的第一球形，第二凹球面镜具有相同的曲率半径，并且通过曲率半径与第一凹球面镜分离，并将第一反射光束 在第二凹球面镜的表面上的第一点并且产生入射在第一凹球面的表面上的第二点上的第二反射光束，第二反射光束被第一凹球面镜从第二点反射 所述第一反射镜从所述第一共焦共振腔形成输出光束; 以及接收第一共焦共振器单元的输出光束作为第二共焦共振器单元的输入光束的第二共焦共振器单元。 该装置和方法可以包括多个例如串联的两个脉冲担架，并且可以包括空间相干度度量。