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公开(公告)号:KR1020090129492A
公开(公告)日:2009-12-16
申请号:KR1020097022448
申请日:2008-03-25
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 샌드스트롬리차드엘. , 정태에이치. , 우자즈도우스키리차드씨.
IPC: H01S3/097
CPC classification number: H01S3/038 , H01S3/0381 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2366
Abstract: Disclosed herein are systems and methods for extending one or both of the discharge electrodes in a transverse discharge gas laser chamber in which one or both the electrodes are subject to a dimensional change due to erosion. Electrode extension can be performed to increase the chamber life, increase laser performance over the life of the chamber, or both. Operationally, the inter-electrode spacing may be adjusted to maintain a specific target gap distance between the electrodes or to optimize a specific parameter of the laser output beam such as bandwidth, pulse-to-pulse energy stability, beam size, etc.
Abstract translation: 本文公开了用于在横向放电气体激光室中延伸一个或两个放电电极的系统和方法,其中一个或两个电极由于侵蚀而经受尺寸变化。 可以执行电极延伸以增加室的寿命,在室的寿命或两者都增加激光器性能。 可操作地,可以调整电极间间隔以保持电极之间的特定目标间隙距离或者优化激光输出光束的特定参数,例如带宽,脉冲到脉冲能量稳定性,光束尺寸等。
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公开(公告)号:KR100965770B1
公开(公告)日:2010-06-24
申请号:KR1020047002982
申请日:2002-08-28
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 노울레스데이비드에스. , 브라운다니엘제이.,더블유. , 베사첼레허브에이. , 마이어스데이비드더블유. , 어쇼프알렉산더아이. , 파르틀로윌리암엔. , 샌드스트롬리차드엘. , 다스플래쉬피. , 앤더슨스튜어트엘. , 포멘코프이고르브이. , 우자즈도우스키리차드씨. , 온켈스에커하드디. , 네스리차드엠. , 스미스스코트티. , 헐버드윌리암지. , 오이클레스제프리
IPC: H01S3/10
CPC classification number: G01J1/4257 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영역으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.
펄스율, 광원, 파장, 가스 방전 레이저, 펄스, 미러, 방전 챔버, 전극-
公开(公告)号:KR100421275B1
公开(公告)日:2004-03-09
申请号:KR1020017002622
申请日:1999-08-04
Applicant: 사이머 엘엘씨
IPC: H01S3/22
Abstract: An electric discharge laser apparatus including a tangential fan comprising a laser chamber comprising a laser gas, at least two longitudinal electrodes configured to produce electric discharges defining a discharge region in said gas, a tangential fan for circulating said laser gas said fan defining a rotation axis and a circumference substantially concentric with said rotation axis and fan structure comprising a plurality of blade members disposed proximate to said circumference, a plurality of hub members supporting said blade members and defining fan blade segments, characterized by said blade members and said hub members being machined as a monolithic unit from a single blank of a selected material.
Abstract translation: 一种包括切向风扇的放电激光装置,该切向风扇包括包含激光气体的激光腔室,至少两个纵向电极,被配置为产生在所述气体中限定出放电区域的放电,用于使所述激光气体循环的切向风扇,所述风扇限定旋转轴线 以及与所述旋转轴基本上同心的圆周,并且所述风扇结构包括设置在所述圆周附近的多个叶片构件,支撑所述叶片构件并限定风扇叶片段的多个毂构件,其特征在于,所述叶片构件和所述毂构件被加工 作为选定材料的单个空白单块单元。
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公开(公告)号:KR1020040032991A
公开(公告)日:2004-04-17
申请号:KR1020047003079
申请日:2002-08-16
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 왓슨톰에이. , 우자즈도우스키리차드씨. , 이바스첸코알렉스피. , 샤논로버트에이. , 샌드스트롬리차드엘. , 웨브로버트카일 , 팔렌스차트프레데릭에이. , 호프만토마스 , 레티그커티스엘. , 네스리차드엘. , 멜체르폴씨. , 에르쇼브알렉산더아이.
IPC: H01S3/22
CPC classification number: H01S3/0385 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/02 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/1024 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
Abstract: 본원발명은 초당 6,000-10,000 펄스 범위의 반복률에서 프로덕션 라인 커패시티내의 신뢰가능한 장기간 동작가능한 가스 방전 레이저 시스템을 제공한다. 바람직한 실시예는 포토리소그래피에 사용된 KrF, ArF, F
2 레이저로 구성되어 있다. 개선점에는 가스 플로를 증가시키기 위해 애노드(542) 바로 옆에 흡입 팬(555)이 포함된다. 팬(555)의 흡입구는 애노드(542)와 절연 스페이서(544B) 사이에 있다.Abstract translation: 本发明提供了气体放电激光系统,其能够以6,000至10,0000个脉冲功率秒的重复率在生产线中进行可靠的长期操作。 优选实施例被配置为用于集成电路光刻的光源的KrF,ArF和F& SUB< />激光器。 改进包括改进的高压电源,其能够将磁压缩脉冲电力系统的初始电容器充电至每秒6,000至10,0000次的精确目标电压,以及用于监测脉冲能量并且确定脉冲宽度调制器上的目标电压的反馈控制器, 逐个脉冲的基础。 公开了若干技术用于在放电之间的间隔期间从激光电极之间的放电区域去除放电产生的碎屑。 在一个实施例中,放电区域的宽度从大约3mm减小到大约1mm,使得针对4000Hz操作设计的气体循环系统可以用于10,000Hz操作。 在其他实施例中,电极之间的气流充分增加以允许10,000Hz的操作,放电区域宽度为3mm。 为了提供这些实质上增加的气体流速,申请人已经公开了利用现有技术的切向形式的优选实施例,但是具有改进的和更强大的电动机以及新颖的轴承设计。 新的轴承设计包括陶瓷轴承和磁性轴承。 在其他实施例中,气体循环功率中的一些或全部设置有位于激光室外部的鼓风机。 外部鼓风机可以位于激光柜内或分开的位置。
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公开(公告)号:KR1020010074876A
公开(公告)日:2001-08-09
申请号:KR1020017002622
申请日:1999-08-04
Applicant: 사이머 엘엘씨
IPC: H01S3/22
Abstract: 레이져를 발하는 가스(108) 혼합물을 재 순환하기 위한 횡류 팬(140) 및 컷오프 조립체는, 끝부에서 끝부로 계단식으로 원주상 위치로 가변하는 블레이드 부재(144) 및/또는 테이퍼진 양극 조립체(120)를 가지고 있다. 블레이드 부재(144)의 개수는 일정하거나 가변할 수 있다. 블레이드 부재(144)의 원주상 위치는 끝부들 사이에서 단일 방향으로 또는 역방향으로 변할 수 있다. 블레이드 부재(144)는 허브부재(212)의 위치 및 개수를 최적 선택함으로써 강화되어 팬의 고유 진동수를 제어한다. 횡류 팬을 성형하는 방법은 단일 블럭으로부터 캐스팅하는 단계, 기계가공하는 단계를 포함한다. 단편으로된 구조는 전자 빔 용접으로부터 전형적으로 결합될 수 있다. 캐스팅, 용접 및 기계가공 처리는 어떠한 추가적인 오염물질을 도입하지 않는다. 생산된 횡류 팬은 기계 강성, 정확한 허용오차, 오염 물질의 낮은 농도를 갖는다. 블레이드 부재(144)는 에어포일 형상으로 성형될 수 있다.
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公开(公告)号:KR101430516B1
公开(公告)日:2014-08-18
申请号:KR1020097022448
申请日:2008-03-25
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 샌드스트롬리차드엘. , 정태에이치. , 우자즈도우스키리차드씨.
IPC: H01S3/097
CPC classification number: H01S3/038 , H01S3/0381 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2366
Abstract: 하나 또는 2개 전극 모두가 부식으로 인해 크기가 변화되기 쉬운 횡단 방전 가스 레이저 챔버에서의 방전 전극 중 하나 또는 2개 모두를 연장하는 시스템 및 방법이 본문에 개시된다. 전극 연장은 챔버의 수명을 증가시키고, 챔버의 수명동안 레이저 성능을 증가시키거나, 그 둘 모두를 위해 수행될 수 있다. 동작가능하게, 전극간 공간 간격은 전극들 사이의 특정한 타겟 갭 거리를 유지하거나, 또는 대역폭, 펄스-투-펄스 에너지 안정성, 빔 크기등과 같은 레이저 출력 빔의 특정한 파라미터를 최적화하기 위해 조정될 수 있다.
하우징, 제 1 전극, 방전 갭, 제 2 전극, 메커니즘, 제 1 에지, 제 2 에지, 가요성 부재, 실드, 주름, 톱니구조, 디바이스 파라미터, 제어 신호, 컨트롤러-
公开(公告)号:KR1020040032988A
公开(公告)日:2004-04-17
申请号:KR1020047003032
申请日:2002-08-19
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 노울레스데이비드에스. , 브라운다니엘제이.,더블유. , 샌드스트롬리차드엘. , 릴로프저먼,이. , 온켈스에커하드디. , 베사첼레허브에이. , 마이어스데이비드더블유. , 어쇼프알렉산더아이. , 파르틀로윌리암엔. , 포멘코프이고르브이. , 우자즈도우스키리차드씨. , 네스리차드엠. , 스미스스코트티. , 헐버드윌리암지.
IPC: H01S3/10
CPC classification number: H01S3/2366 , G01J9/00 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333
Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템(2)이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는(12), 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터(10)의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영여으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬(10A)을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.
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公开(公告)号:KR1020040032984A
公开(公告)日:2004-04-17
申请号:KR1020047002982
申请日:2002-08-28
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 노울레스데이비드에스. , 브라운다니엘제이.,더블유. , 베사첼레허브에이. , 마이어스데이비드더블유. , 어쇼프알렉산더아이. , 파르틀로윌리암엔. , 샌드스트롬리차드엘. , 다스플래쉬피. , 앤더슨스튜어트엘. , 포멘코프이고르브이. , 우자즈도우스키리차드씨. , 온켈스에커하드디. , 네스리차드엠. , 스미스스코트티. , 헐버드윌리암지. , 오이클레스제프리
IPC: H01S3/10
CPC classification number: G01J1/4257 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영역으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.
Abstract translation: 一种注入式模块化气体放电激光系统,能够以大约4,000Hz或更高的脉冲速率和大约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量脉冲激光束。 提供了两个独立的放电室,其中一个是主振荡器的一部分,产生在第二放电室中放大的非常窄带的种子束。 这些室可以分开控制,允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 ArF准分子激光系统中的一个优选实施例被配置为MOPA并且被专门设计用作集成电路光刻的光源。 在优选的MOPA实施例中,每个腔室包括单个切向风扇,该单个切向风扇提供足够的气流以允许通过在比脉冲之间的大约0.25毫秒更少的时间内清除来自放电区域的碎片而以4000Hz或更大的脉冲速率进行操作。 主振荡器配备有线变窄的封装,该封装具有非常快速的调谐反射镜,其能够以4000Hz或更高的重复率以脉冲至脉冲的方式控制中心线波长,精度低于0.2μm。
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公开(公告)号:KR100940782B1
公开(公告)日:2010-02-11
申请号:KR1020047003801
申请日:2002-09-06
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 모르톤리차드지. , 다이어티모시에스. , 스테이거토마스디. , 우자즈도우스키리차드씨. , 왓슨톰에이. , 무스만브라이언 , 이바스첸코알렉스피. , 길레스피에왈터디 , 레티그커티스엘.
IPC: H01S3/22
CPC classification number: H01S3/038 , H01S3/036 , H01S3/0381 , H01S3/0388 , H01S3/09702 , H01S3/225
Abstract: The present invention provides a gas discharge laser having at least one long-life elongated electrode for producing at least 12 billion high voltage electric discharges in a fluorine containing laser gas. In a preferred embodiment at least one of the elctrodes is comprised of a first material having a relatively low anode erosion rate and a second anode material having a relatively higher anode erosion rate. The first anode material is positioned at a desired anode discharge region of the electrode. The second anode material is located adjacent to the first anode material along at least two long sides of the first material. During operation of the laser erosion occurs on both materials but the higher ero sion rate of the second material assures that any tendency of the discharge to spread onto the second material will quickly erode away the second material enough to stop the spread of the discharge. In a preferred embodiment the anode is as described above and the cathode is also a two-material electrode with the first material electrode with the first material at the discharge region being C26000 brass and the second material being C36000 brass. A pulse power system provides electrical pulses at rates of at least 1 KHz. A blower circulates laser gas between the electrodes at speeds of at least 5 m/s and a heat exchanger is provided to remove heat produced by the blower and the discharges.
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公开(公告)号:KR100906112B1
公开(公告)日:2009-07-07
申请号:KR1020047003079
申请日:2002-08-16
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 왓슨톰에이. , 우자즈도우스키리차드씨. , 이바스첸코알렉스피. , 샤논로버트에이. , 샌드스트롬리차드엘. , 웨브로버트카일 , 팔렌스차트프레데릭에이. , 호프만토마스 , 레티그커티스엘. , 네스리차드엘. , 멜체르폴씨. , 에르쇼브알렉산더아이.
IPC: H01S3/22
CPC classification number: H01S3/0385 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/0057 , H01S3/0071 , H01S3/02 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/1024 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2366
Abstract: 본원발명은 초당 6,000-10,000 펄스 범위의 반복률에서 프로덕션 라인 커패시티내의 신뢰가능한 장기간 동작가능한 가스 방전 레이저 시스템을 제공한다. 바람직한 실시예는 포토리소그래피에 사용된 KrF, ArF, F
2 레이저로 구성되어 있다. 개선점에는 가스 플로를 증가시키기 위해 애노드(542) 바로 옆에 흡입 팬(555)이 포함된다. 팬(555)의 흡입구는 애노드(542)와 절연 스페이서(544B) 사이에 있다.
챔버, 레이저, 반복률, 피드백, 엑시머, 광원
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