中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

8 records (took 0.023 seconds)

    정교한 파장 제어를 구비하는 협대역 레이저
    1.
    发明授权
    정교한 파장 제어를 구비하는 협대역 레이저 有权
    窄带激光与细微波长控制

    公开(公告)号：KR100562009B1

    公开(公告)日：2006-03-22

    申请号：KR1020027002868

    申请日：2000-08-31

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 알고츠존엠. ,  마치크리스토퍼에이. ,  에리프레드릭지. ,  벅제시디. ,  얼쇼프알렉산더아이. ,  다스팔라쉬피. ,  포멘코브이고르브이.

    IPC: H01S3/10

    Abstract: 스마트 레이저는 파장계(22)로부터의 피드백 신호를 사용하여 펄스 에너지, 파장 및 대역폭을 자동적으로 제어하는 컴퓨터 제어기(24A)를 구비한다. 펄스 에너지는 방전 전압을 제어함으로써 제어된다. 파장은 라인 협소화 모듈의 R
    MAX 미러를 매우 정교하고도 신속하게 위치결정함으로써 제어된다. 대역폭은 라인 협소화 모듈에서의 회절격자의 굴곡을 조절함으로써 제어된다. 바람직한 실시예는 빔 익스팬더 프리즘이 위치된 프리즘 플레이트의 자동 조절과 R
    MAX 경사의 자동 조절을 포함한다. 다른 바람직한 실시예는 공진 공동내에서 레이저 챔버(3)의 수평 위치의 자동 조절을 포함한다. 바람직한 실시예에서, 파장 모니터로부터의 피드백 신호는 R
    MAX 미러를 위치결정하기 위하여 사용된다. 다른 실시예에서, R
    MAX 미러에서 반사되어 광다이오드 어레이로 비춰진 개개의 레이저 빔은 미러를 위치결정하기 위하여 사용된다.
    레이저, 파장 제어, 협대역, 스마트 레이저, 라인 협소화 모듈

    ＥＵＶ 플라즈마 소스 타겟 전달 방법 및 장치
    2.
    发明公开
    ＥＵＶ 플라즈마 소스 타겟 전달 방법 및 장치 有权
    用于EUV等离子体源目标传送的方法和装置

    公开(公告)号：KR1020070110886A

    公开(公告)日：2007-11-20

    申请号：KR1020077021532

    申请日：2006-02-17

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 알고트스존마틴 ,  포멘코프이고르브이. ,  얼쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  헴버그오스카 ,  바이카노프알렉산더엔. ,  콥데니스더블유.

    IPC: H05G2/00

    CPC classification number: H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/006

    Abstract: An EUV plasma formation target delivery system and method is disclosed which may comprise: a target droplet formation mechanism comprising a magneto-restrictive or electro-restrictive material, a liquid plasma source material passageway terminating in an output orifice; a charging mechanism applying charge to a droplet forming jet stream or to individual droplets exiting the passageway along a selected path; a droplet deflector intermediate the output orifice and a plasma initiation site periodically deflecting droplets from the selected path, a liquid target material delivery mechanism comprising a liquid target material delivery passage having an input opening and an output orifice; an electromotive disturbing force generating mechanism generating a disturbing force within the liquid target material, a liquid target delivery droplet formation mechanism having an output orifice; and/or a wetting barrier around the periphery of the output orifice.

    Abstract translation: 公开了一种EUV等离子体形成靶递送系统和方法，其可以包括：目标液滴形成机构，其包括磁阻或电子限制材料，终止于输出孔的液体等离子体源材料通道; 将电荷施加到液滴形成喷射流或沿着选定路径离开通道的各个液滴的充电机构; 在输出孔之间的液滴偏转器和等离子体引发位置周期性地偏转来自所选择的路径的液滴;液体靶材料输送机构，包括具有输入开口和输出孔的液体靶材料输送通道; 产生在液体目标材料内的干扰力的电动干扰力产生机构，具有输出孔的液体目标传送液滴形成机构; 和/或围绕输出孔周边的润湿屏障。

    정교한 파장 제어를 구비하는 협대역 레이저
    3.
    发明公开
    정교한 파장 제어를 구비하는 협대역 레이저 有权
    窄带激光与精密的波长控制

    公开(公告)号：KR1020020026613A

    公开(公告)日：2002-04-11

    申请号：KR1020027002868

    申请日：2000-08-31

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 알고츠존엠. ,  마치크리스토퍼에이. ,  에리프레드릭지. ,  벅제시디. ,  얼쇼프알렉산더아이. ,  다스팔라쉬피. ,  포멘코브이고르브이.

    IPC: H01S3/10

    Abstract: 스마트 레이저는 파장계(22)로부터의 피드백 신호를 사용하여 펄스 에너지, 파장 및 대역폭을 자동적으로 제어하는 컴퓨터 제어기(24A)를 구비한다. 펄스 에너지는 방전 전압을 제어함으로써 제어된다. 파장은 라인 협소화 모듈의 R
    MAX 미러를 매우 정교하고도 신속하게 위치결정함으로써 제어된다. 대역폭은 라인 협소화 모듈에서의 회절격자의 굴곡을 조절함으로써 제어된다. 바람직한 실시예는 빔 익스팬더 프리즘이 위치된 프리즘 플레이트의 자동 조절과 R
    MAX 경사의 자동 조절을 포함한다. 다른 바람직한 실시예는 공진 공동내에서 레이저 챔버(3)의 수평 위치의 자동 조절을 포함한다. 바람직한 실시예에서, 파장 모니터로부터의 피드백 신호는 R
    MAX 미러를 위치결정하기 위하여 사용된다. 다른 실시예에서, R
    MAX 미러에서 반사되어 광다이오드 어레이로 비춰진 개개의 레이저 빔은 미러를 위치결정하기 위하여 사용된다.

    선협대역화 유닛을 구비한 고전력 가스 방전 레이저
    4.
    发明授权
    선협대역화 유닛을 구비한 고전력 가스 방전 레이저 有权
    高功率气体放电激光器与线路单元

    公开(公告)号：KR100634114B1

    公开(公告)日：2006-10-16

    申请号：KR1020027002685

    申请日：2000-08-31

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 사이벌스키레이몬드에프. ,  얼쇼프알렉산더아이. ,  온켈스엑케하르트디. ,  다스팔라쉬피. ,  리차드슨다닐로디. ,  벅제시디.

    IPC: H01S3/22

    Abstract: 고에너지 빔을 산출하는 선협대역화 레이저용 격자에 기초한 선협대역화 디바이스가 개시된다. 격자의 면상에 존재하는 핫가스층의 역효과를 최소화하는 기술이 제공된다. 바람직한 실시예에서 핫가스층의 효과는 퍼지 가스로서 헬륨을 사용하여 감소된다. 바람직한 실시예 중 하나는 격자의 면을 가로질러 퍼지 가스를 강제로 흐르게 하기 위해 배리어 플레이트(60) 및 배리어 커버(62)를 포함한다. 다른 실시예에서 퍼지 가스 압력은 핫가스층의 광학 효과를 감소시키기 위해 감소된다.
    격자, 배리어 플레이트, 핫가스층, 퍼지 가스, 퍼지 가스 압력, 광학 효과, 선협대역화 유닛, 가스 방전 레이저

    ＥＵＶ 플라즈마 소스 타겟 전달 방법 및 장치
    6.
    发明授权
    ＥＵＶ 플라즈마 소스 타겟 전달 방법 및 장치 有权
    用于EUV等离子体源目标传送的方法和装置

    公开(公告)号：KR101235023B1

    公开(公告)日：2013-02-21

    申请号：KR1020077021532

    申请日：2006-02-17

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 알고트스존마틴 ,  포멘코프이고르브이. ,  얼쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  헴버그오스카 ,  바이카노프알렉산더엔. ,  콥데니스더블유.

    IPC: H05G2/00

    CPC classification number: H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/006

    Abstract: 자기 제한 또는 전기 제한 재료를 포함하는 타겟 방울 형성 메커니즘, 출력 오리피스에서 종료하는 액체 플라즈마 소스 재료 경로, 제트 스트림을 형성하는 방울에 또는 선택된 경로를 따른 통로를 나가는 개별적인 방울에 전하를 인가하는 대전 메커니즘, 상기 선택된 경로부터 방울을 주기적으로 편향시키는 플라즈마 개시 사이트와 출력 오리피스 사이의 방울 편향기, 입력 개구 및 출력 오리피스를 갖는 액체 타겟 재료 전달 통로를 포함하는 액체 타겟 재료 전달 메커니즘, 액체 타겟 재료내에 외란력을 생성하는 기전력 외란력 생성 메커니즘, 출력 오리피스를 갖는 액체 타겟 전달 방울 형성 메커니즘 및/또는 상기 출력 오리피스의 주변부 둘레의 웨팅 배리어를 포함할 수 있는 EUV 플라즈마 형성 타겟 전달 시스템 및 방법이 개시되어 있다.
    EUV 플라즈마 형성 타겟 전달 시스템, 타겟 방울 메커니즘, 액체 플라즈마 소스 재료 경로, 대전 메커니즘, 방울 편향기, 액체 타겟 재료 전달 메커니즘, 기전력 외란력 생성 메커니즘, 액체 타겟 전달 방울 형성 메커니즘, 웨팅 배리어

Patent Agency Ranking