公开(公告)号：KR100847985B1

公开(公告)日：2008-07-22

申请号：KR1020070062182

申请日：2007-06-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송기용 ,  조성헌 ,  문준혁 ,  정창오 ,  닝홍롱

IPC: G02F1/136

CPC classification number: H01L27/1288 ,  G02F1/136286 ,  G02F2001/136295 ,  G02F2202/42 ,  H01L27/1214 ,  H01L27/1218 ,  H01L27/124 ,  H05K3/002 ,  H05K3/0041 ,  H05K3/048 ,  H05K3/107 ,  H05K3/184 ,  H05K3/388 ,  H05K2201/0166 ,  H05K2203/0565

Abstract: A metal line forming method is provided to simplify the processes by means of a wet plating technique instead of a vacuum layer forming apparatus and to reduce the manufacturing cost. A dielectric layer(31) is deposited on the upper portion of a substrate(30). A potential mask pattern made of a metal line is formed on the upper portion of the dielectric layer. The dielectric layer exposed by the potential mask pattern is etched. Thereafter, the substrate is activated so that a sheet layer(32) is formed on the surface thereof. The potential mask pattern and the upper portion thereof are removed by a lift off manner. A metal layer(33) is formed on the upper portion of a seed layer formed as a pattern. The substrate is made of materials selected from a group consisting of silicon wafer, glass, indium stone oxide, mica, black lead, molybdenum sulfide, copper, zinc, aluminum, stainless, magnesium, iron, nickel, gold, silver, polyimide, polyester, polycarbonate, acryl resin of plastic substrate.

Abstract translation: 提供金属线形成方法，以通过湿式电镀技术代替真空层形成装置简化工艺，并降低制造成本。 介电层（31）沉积在衬底（30）的上部。 在电介质层的上部形成由金属线构成的电位掩模图形。 蚀刻由电位掩模图案曝光的电介质层。 此后，基板被激活，使得在其表面上形成片层（32）。 通过剥离方式去除电位掩模图案及其上部。 金属层（33）形成在形成为图案的种子层的上部。 基板由选自硅晶片，玻璃，氧化铟锡，云母，黑铅，硫化钼，铜，锌，铝，不锈钢，镁，铁，镍，金，银，聚酰亚胺，聚酯等的材料制成 ，聚碳酸酯，丙烯酸树脂的塑料基材。

公开(公告)号：KR1020070053487A

公开(公告)日：2007-05-25

申请号：KR1020050111320

申请日：2005-11-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 닝홍롱 ,  정창오 ,  이제훈 ,  배양호

IPC: G02F1/136

CPC classification number: G02F1/136286 ,  G02F1/13458 ,  G02F1/1368 ,  G02F2001/13625 ,  H01L27/1288

Abstract: 표시기판의 품질과 제조 공정의 생산성을 향상시키는 표시기판의 제조 방법이 개시된다. 표시기판의 제조 방법은 베이스 기판 위에 형성된 제1 포토레지스트 패턴이 제공하는 게이트 패턴 영역에 전해도금(electroplating)방식으로 구리를 도금하여 다층 구조의 게이트 패턴을 형성하는 단계와, 게이트 패턴 위에 소스 패턴을 형성하는 단계와, 소스 패턴이 형성된 베이스 기판 위에 투명 도전층을 형성하는 단계와, 투명 도전층을 식각하여 드레인 전극과 연결된 화소 전극을 형성하는 단계를 포함한다. 따라서, 표시기판의 응답속도가 향상되고 구리층의 습식식각공정이 생략되어 표시기판의 제조 공정의 생산성이 향상된다.
구리, 게이트, 전해도금, 패턴, 습식식각

公开(公告)号：KR1020070053472A

公开(公告)日：2007-05-25

申请号：KR1020050111290

申请日：2005-11-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 닝홍롱 ,  정창오 ,  이제훈 ,  조범석 ,  배양호

IPC: G02F1/136

CPC classification number: G02F1/136286 ,  G02F1/13458 ,  G02F2001/13629 ,  G02F2001/136295 ,  H01L27/1288

Abstract: 작동의 신뢰성이 향상된 표시기판 및 이의 제조 방법이 개시된다. 표시기판은 베이스 기판, 베이스 기판 위에 알루미늄층과 알루미늄층 위에 산화알루미늄층 및 산화알루미늄층 위에 실링층을 포함하는 다층 구조로 형성된 게이트 배선, 게이트 배선과 교차하여 화소 영역을 정의하며 소스 금속층으로 형성된 소스 배선, 다층 구조의 게이트 배선으로부터 연장된 게이트 전극과 소스 배선으로부터 연장된 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 스위칭 소자 및 드레인 전극에 연결된 화소 전극을 포함한다. 따라서, 게이트 배선 및 게이트 전극에 힐락의 발생이 억제되어 표시기판의 작동의 신뢰성이 향상된다.
양극 산화, 게이트 배선, 힐락, 알루미늄, 산화알루미늄

公开(公告)号：KR1020090100186A

公开(公告)日：2009-09-23

申请号：KR1020080032382

申请日：2008-04-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김장섭 ,  강윤호 ,  배양호 ,  윤필상 ,  정창오 ,  임순권 ,  박홍식 ,  닝홍롱 ,  김도현 ,  정승재

IPC: H01L21/28

CPC classification number: H01L21/76877 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/308 ,  H01L21/76814 ,  H01L21/76826 ,  H01L21/76871

Abstract: PURPOSE: A method of forming a metal line is provided to prevent the waste of the metal material not by forming the metallic thin film at the upper part of the photoresist pattern in the seed layer formation. CONSTITUTION: The photoresist pattern(20) is formed at the upper part of the substrate(10). The trench(30) is formed on a substrate by etching the photoresist pattern as a mask. The seed layer is formed by applying the fluidized material in a metal within the trench. The metal layer is formed on the seed layer. A part of the photosensitive pattern becomes hydrophobic. The fluidized material contained in a metal includes the metal aerosol.

Abstract translation: 目的：提供形成金属线的方法，以防止金属材料的浪费不是通过在种子层形成中在光致抗蚀剂图案的上部形成金属薄膜。 构成：在基板（10）的上部形成有光致抗蚀剂图案（20）。 通过蚀刻作为掩模的光致抗蚀剂图案，在基板上形成沟槽（30）。 种子层通过将流化材料施加在沟槽内的金属中而形成。 金属层形成在种子层上。 感光图案的一部分变得疏水。 包含在金属中的流化材料包括金属气溶胶。

公开(公告)号：KR1020090078527A

公开(公告)日：2009-07-20

申请号：KR1020080004401

申请日：2008-01-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김병범 ,  윤필상 ,  닝홍롱 ,  정창오 ,  이제훈 ,  박홍식 ,  윤주애 ,  배양호 ,  이병진

IPC: G02F1/1345

CPC classification number: G02F1/136286 ,  G02F2001/136295 ,  H01L27/124 ,  H01L29/41733 ,  H01L29/42384 ,  H01L29/4908

Abstract: A display substrate is provided to prevent a wiring pattern from coming off by smoothly charging the gas which is generated when forming the wiring pattern. A pixel electrode is formed within a display area of an insulation substrate, and is connected to a thin film transistor. A signal wire is extended toward the display area from an external area on the insulation substrate. A pad part comprises the first and second closed-loop curves(L1,L2). The first and second closed-loop curves are formed in the external area, are filled in a trench of the insulation substrate, and expose the insulation substrate.

Abstract translation: 提供显示基板，以防止在形成布线图案时产生的气体的平滑充电来使布线图案脱落。 像素电极形成在绝缘基板的显示区域内，并与薄膜晶体管连接。 信号线从绝缘基板上的外部区域向显示区域延伸。 垫部分包括第一和第二闭环曲线（L1，L2）。 第一和第二闭环曲线形成在外部区域中，填充在绝缘基板的沟槽中，并露出绝缘基板。

公开(公告)号：KR1020070053490A

公开(公告)日：2007-05-25

申请号：KR1020050111326

申请日：2005-11-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 닝홍롱 ,  정창오 ,  이제훈 ,  배양호 ,  김도현 ,  김병범

IPC: G02F1/136

CPC classification number: G02F1/136227 ,  G02F1/136286 ,  G02F2001/13625 ,  G02F2201/123 ,  H01L27/1288

Abstract: 표시기판의 품질과 제조 공정의 생산성을 향상시키는 표시기판의 제조 방법이 개시된다. 표시기판의 제조 방법은 베이스 기판 위의 게이트 패턴 영역에 게이트 패턴을 형성하는 단계와, 상기 게이트 패턴이 형성된 베이스 기판 위에 정의된 소스 패턴 영역에 구리를 무전해도금(electroless plating)하여 소스 패턴을 형성하는 단계와, 상기 소스 패턴이 형성된 베이스 기판 위에 투명 도전층을 형성하는 단계와, 상기 투명 도전층을 식각하여 화소 전극을 형성하는 단계를 포함한다. 따라서, 표시기판의 응답속도가 향상되고 구리층의 에칭 공정이 생략되어 제조 공정의 생산성이 향상된다.
구리, 질화탈탄, 무전해도금, 게이트, 소스, 에칭

公开(公告)号：KR1020110126998A

公开(公告)日：2011-11-24

申请号：KR1020100046591

申请日：2010-05-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 윤선미 ,  닝홍롱 ,  정창오 ,  최재영 ,  최원묵 ,  신현진

IPC: B82B3/00 ,  C01B31/02

CPC classification number: G02F1/13439 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  C08L33/02 ,  Y10T428/1064 ,  C01B32/158 ,  B82B3/0009 ,  C01B32/174 ,  C01B2202/02 ,  C01B2202/06 ,  C01B2202/28

Abstract: PURPOSE: A carbon nanotube composition, a carbon nanotube film structure, a liquid crystal display device, a method for manufacturing the carbon nanotube film structure, and a method for manufacturing the liquid crystal display device are provided to generate a chemical reaction between reactive functional groups and between a reactive functional group and a substrate by supplying external energy. CONSTITUTION: A carbon nanotube composition includes a dispersing agent with a reactive functional group and a dispersing medium. The reactive functional group includes polarity and includes at least one element selected from a group including C, H, O, N, S, and P. The dispersing medium includes first liquid and second liquid. The first liquid is hydrophilic property. The second liquid is mixed with the first liquid. A carbon nanotube film structure(120) includes a substrate and a carbon nanotube film stacked on the substrate.

Abstract translation: 目的：提供碳纳米管组合物，碳纳米管膜结构，液晶显示装置，碳纳米管膜结构体的制造方法以及液晶显示装置的制造方法，以产生反应性官能团 并且通过提供外部能量在反应性官能团和基底之间。 构成：碳纳米管组合物包括具有反应性官能团的分散剂和分散介质。 反应性官能团包括极性，并且包括选自C，H，O，N，S和P中的至少一种元素。分散介质包括第一液体和第二液体。 第一液体具有亲水性。 第二液体与第一液体混合。 碳纳米管膜结构（120）包括基板和层叠在基板上的碳纳米管膜。

公开(公告)号：KR1020070052589A

公开(公告)日：2007-05-22

申请号：KR1020050110390

申请日：2005-11-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 닝홍롱 ,  정창오 ,  이제훈 ,  배양호

IPC: G02F1/136 ,  B82Y30/00

CPC classification number: G02F1/136286 ,  G02F1/1368 ,  G02F2001/136295 ,  G02F2201/123 ,  G02F2202/36

Abstract: 작동의 신뢰성이 향상된 표시기판 및 이의 제조 방법이 개시된다. 베이스 기판에 형성된 게이트 배선은 알루미늄과 나노물질로 이루어진 게이트 금속층으로 형성된다. 나노물질은 게이트 금속층의 인장 강도를 강화시켜 게이트 배선에서 힐락의 발생을 감소시킨다. 소스 배선은 게이트 배선과 교차하여 화소 영역을 정의하며, 스위칭소자는 게이트 전극, 반도체층, 반도체층의 위로 연장된 소스 전극 및 소스 전극과 대향하며 반도체층 위에 배치된 드레인 전극을 포함한다. 화소 전극은 화소 영역에 형성되며 드레인 전극과 전기적으로 연결된다. 따라서, 게이트 배선에서 힐락의 발생이 감소되어 표시 장치의 작동의 신뢰성이 향상된다.
힐락, 알루미늄, 게이트, 표시기판, 산화알루미늄, 질화알루미늄

公开(公告)号：KR1020070054357A

公开(公告)日：2007-05-29

申请号：KR1020050112278

申请日：2005-11-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 닝홍롱 ,  정창오 ,  이제훈 ,  배양호

IPC: G02F1/136

CPC classification number: G02F1/136 ,  G02F1/13458 ,  G02F2001/13625 ,  H01L21/306 ,  H01L27/1288

Abstract: 식각의 균일성(uniformity)을 향상시키는 도전 배선의 패턴 형성 방법 및 이를 이용한 표시기판의 제조 방법이 개시된다. 도전 배선의 패턴 형성 방법은 기판 위에 도전성 물질층을 형성하는 단계와, 상기 도전성 물질층 위에 식각율 조절막을 형성하는 단계와, 상기 식각율 조절막 위에 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와, 상기 포토레지스트 패턴에 의해 노출된 상기 식각율 조절막을 통해 상기 도전성 물질층을 습식식각 하여 도전 배선의 패턴을 형성하는 단계를 포함한다. 따라서, 식각율 조절막은 도전성 물질층의 식각율을 감소시켜 식각의 균일성을 향상시킨다.
습식식각, 균일, 식각율, 구리, 은, 표시기판

公开(公告)号：KR1020070018263A

公开(公告)日：2007-02-14

申请号：KR1020050072750

申请日：2005-08-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 닝홍롱 ,  정창오 ,  이제훈 ,  조범석 ,  배양호

IPC: G02F1/136

CPC classification number: G02F1/136286 ,  G02F2001/136295 ,  H01L27/124 ,  H01L27/1262

Abstract: 본 발명에 따른 본 발명의 실시예에 따른 박막 트랜지스터 표시판은 기판, 상기 기판 위에 형성되어 있으며 서로 교차하는 제1 및 제2 신호선, 상기 제1 및 제2 신호선에 연결되어 있는 박막 트랜지스터, 그리고 상기 박막 트랜지스터와 연결되어 있는 화소 전극을 포함하며, 상기 제1 및 제2 신호선 중 적어도 하나는 제1 도전층, 그리고 상기 제1 도전층 위에 형성되어 있으며 구리로 만들어진 제2 도전층을 포함하고, 상기 제2 도전층은 상기 제1 도전층의 표면과 측면을 덮으며, 상기 제2 도전층의 두께는 상기 제1 도전층의 표면과 측면에서 동일하고, 상기 제2 도전층의 비저항은 상기 제1 도전층보다 작고, 상기 제1 도전층은 티타늄(Ti), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 텅스텐(W) 및 이들의 합금을 포함할 수 있으며, 상기 제2 도전층은 전기도금으로 만들 어질 수 있다. 이와 같이, 하부막과 상부막의 이중막 구조를 가지는 신호선에서 상부막을 비저항이 낮은 금속인 구리로 전기도금 방식으로 형성함으로써, 구리의 저저항성을 살리면서 금속과 구리의 식각 속도 차이에 의한 문제점을 해결하고, 양호한 측면 프로파일을 가지는 배선을 형성할 수 있다.
이중막, 구리, 전기도금, 저저항