公开(公告)号：KR1020080004738A

公开(公告)日：2008-01-10

申请号：KR1020060063408

申请日：2006-07-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 엄현섭

IPC: B25J9/02 ,  B25J13/08

Abstract: An apparatus for transporting a substrate is provided to check whether a substrate is loaded on a steering unit accurately and to check whether the substrate loaded on the steering unit stays stable by utilizing a sensing unit. An apparatus(100) for transporting a substrate(W) comprises a transporting arm unit, a steering unit, and first and second sensors(142,144). The transporting arm unit is configured to transport a substrate. The steering unit is configured to align the substrates in a predetermined direction. The first and second sensors monitor relative position of the substrate with regard to the steering unit. The first and second sensors are located on the opposite side from each other around the center of the steering unit. The steering unit includes a rotary shaft(124), a steering plate(122), and steering plate pads(116,136). The substrates are loaded on the steering plate. The rotary shaft rotates the steering plate. The steering plate pads are formed on the upper surface of the steering plate to increase fraction between the substrate and the steering plate.

Abstract translation: 提供一种输送基板的装置，以检查基板是否正确地装载在转向单元上，并且通过利用感测单元来检查装载在转向装置上的基板是否保持稳定。 用于输送基板（W）的装置（100）包括输送臂单元，转向单元以及第一和第二传感器（142,144）。 输送臂单元构造成输送基板。 转向单元构造成沿着预定的方向对齐基板。 第一和第二传感器监测基板相对于转向单元的相对位置。 第一和第二传感器围绕转向单元的中心彼此相对地设置。 转向单元包括旋转轴（124），转向板（122）和转向板垫（116,136）。 基板装载在转向板上。 旋转轴旋转转向盘。 转向板垫片形成在转向板的上表面上以增加基板和转向板之间的分数。

公开(公告)号：KR1020070051011A

公开(公告)日：2007-05-17

申请号：KR1020050108347

申请日：2005-11-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강곤수 ,  엄현섭 ,  김영대 ,  이승세 ,  안성열

IPC: H01L21/02

CPC classification number: G05D7/0635

Abstract: 유체의 질량 유량을 조절하기 위한 질량 유량 제어기에서 베이스는 유체가 통과하기 위한 유로를 가지며, 밸브는 유로를 통과하는 유체의 질량 유량을 조절한다. 밸브의 헤드는 관통홀을 갖는다. 밸브가 비정상적으로 닫혀 유로가 차단되는 경우 관통홀을 통해 유로 내부에 잔류하는 유체를 배출한다.

公开(公告)号：KR1020050017148A

公开(公告)日：2005-02-22

申请号：KR1020030055078

申请日：2003-08-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김용권 ,  김영대 ,  강성호 ,  엄현섭

IPC: H01L21/02

Abstract: PURPOSE: A cryo pump is provided to lengthen the lifetime thereof and protect peripheral electronic components by preventing generation of waterdrop on an outer wall thereof. CONSTITUTION: Active carbon is formed in an inside of a body. A gas supply tube(201) is connected to the body in order to supply a regenerated gas to the body. A gas exhaust tube(219) is connected to the body in order to exhaust the gas of the body. A heater is used for heating the body. The heater is operated only when the regenerated gas is supplied to the body through the gas supply tube.

Abstract translation: 目的：提供一种冷冻泵，以延长其使用寿命，并通过防止在其外壁上产生水滴来保护外围电子部件。 构成：活性炭形成在身体的内部。 气体供给管（201）连接到主体以便将再生气体供应到主体。 排气管（219）连接到主体以便排出身体的气体。 加热器用于加热身体。 只有当再生气体通过气体供应管供给到身体时，加热器才被操作。

公开(公告)号：KR1020060084182A

公开(公告)日：2006-07-24

申请号：KR1020050004861

申请日：2005-01-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 엄현섭

IPC: H01J37/08

Abstract: 이온 소스의 열전자 방출 어셈블리는 관형 부재가 소스 가스를 이온화하기 위한 공간을 제공하는 아크 챔버의 측벽을 통해 상기 아크 챔버의 내부로 연장되고, 음극 캡이 상기 아크 챔버의 내부로 연장된 관형 부재의 단부에 연결된다. 필라멘트가 상기 관형 부재와 상기 음극 캡이 형성하는 공간에 배치되어 상기 음극 캡에서 열전자가 방출되도록 상기 음극 캡을 가열하며, 고정 플레이트가 상기 아크 챔버의 외측벽에 고정되어 상기 관형 부재가 상기 아크 챔버의 측벽과 이격되도록 고정한다. 클램프는 상기 필라멘트가 상기 관형 부재 및 음극 캡과 이격되도록 고정한다. 따라서 상기 아크 챔버, 음극 캡 및 필라멘트가 서로 절연 상태를 유지할 수 있다.

公开(公告)号：KR100584791B1

公开(公告)日：2006-05-30

申请号：KR1020050037836

申请日：2005-05-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 엄현섭

IPC: H01L21/265

Abstract: 반도체 기판에 주입하기 위한 이온들을 생성하는 이온 소스와 이를 갖는 이온 주입 장치에 있어서, 상기 이온 소스는 가스 이온화 공간을 제공하기 위한 아크 챔버와, 상기 아크 챔버 내부로 가스를 공급하기 위한 가스 공급부와, 상기 이온화 공간 내에서 가스 분자들을 이온화시키기 위하여 전자들을 방출하는 캐소드 어셈블리와, 상기 캐소드 어셈블리를 가열하기 위한 필라멘트와, 상기 캐소드 캡과 상기 엔드 플레이트 사이에서 전기적인 절연이 유지되도록 상기 캐소드 어셈블리를 지지하기 위하여 상기 아크 챔버의 엔드 플레이트에 장착되는 마운팅 어셈블리를 포함할 수 있다. 상기 마운팅 어셈블리는 아크 챔버로부터 이격되어 배치되는 캐소드 서포트 플레이트와, 상기 캐소드 서포트 플레이트와 아크 챔버 사이의 간격과 전기적인 절연이 유지되도록 상기 캐소드 서포트 플레이트와 아크 챔버 사이에 결합되는 다수의 절연체 스페이서들을 포함한다. 따라서, 상기 캐소드 어셈블리와 아크 챔버 사이의 전기적인 절연이 안정적으로 유지될 수 있다.

Abstract translation: 并在所述离子源以产生用于注入离子到与具有相同的离子注入装置，和用于提供一个气体离子化空间的离子源电弧室中的半导体基板，用于供给气体进入电弧室供应气体， 支撑阴极组件，从而阴极组件之间保持电隔离发射电子，以及一个灯丝以电离在电离空间中的气体分子加热阴极组件中，阴极盖和端板 并且安装组件安装在电弧室的端板上。 安装组件包括与电弧室隔开的阴极支撑板和连接在阴极支撑板和电弧室之间以维持阴极支撑板和电弧室之间的电隔离和间隔的多个绝缘体间隔物 的。 因此，可以稳定地维持阴极组件和电弧室之间的电绝缘。

公开(公告)号：KR1020070011881A

公开(公告)日：2007-01-25

申请号：KR1020050066517

申请日：2005-07-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 엄현섭 ,  이승세 ,  김영대 ,  강곤수 ,  안성열

IPC: G01N27/62

CPC classification number: H01J49/24 ,  H01J37/05 ,  H01J37/09 ,  H01J37/3171 ,  H01J49/025 ,  H01J49/0495 ,  H01J2237/0225 ,  H01J2237/028 ,  H01J2237/31705 ,  G01N27/628

Abstract: An analyzing chamber including a leakage ion beam detector is provided to effectively extract ions required for an ion injection process by preventing an inferiority of an analyzing chamber. A chamber for a mass analyzer includes a body(100), a shielding section(200), and a detector(300). The body has an introduction section(110), a discharge section(120), and an interior passage. The shielding section is arranged along the inner side wall defining the interior passage to prevent the inner side wall from being damaged by ion beams passing through the body. The detector is located between the shielding section and the inner side wall of the body to detect the ion beams reaching the inner side wall.

Abstract translation: 提供包括泄漏离子束检测器的分析室，以通过防止分析室的劣化来有效地提取离子注入过程所需的离子。 用于质量分析器的室包括主体（100），屏蔽部分（200）和检测器（300）。 主体具有导入部（110），排出部（120）和内部通路。 屏蔽部分沿着限定内部通道的内侧壁布置，以防止内侧壁被穿过本体的离子束损坏。 检测器位于屏蔽部分和主体的内侧壁之间，以检测到达内壁的离子束。

公开(公告)号：KR1020120119781A

公开(公告)日：2012-10-31

申请号：KR1020110037964

申请日：2011-04-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강곤수 ,  강상범 ,  박재영 ,  강성호 ,  김태곤 ,  엄현섭 ,  강종훈 ,  문강훈 ,  이한기

IPC: H01L21/683

CPC classification number: F27B17/0025 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6875

Abstract: PURPOSE: A support unit and a substrate processing apparatus having the same are provided to minimize damage to the substrate in a thermal process about the substrate. CONSTITUTION: A processing space processing a substrate is supplied inside a chamber(100). A support unit(1000) supports the substrate. A heating member(200) heats the substrate. A plurality of support pins(1040) is upwardly protruded from a plate. At least one sub pin(1060) is projected from the plate to the top. The support pin is located around the sub pin. [Reference numerals] (226) Power supply unit; (248) Power supply unit; (300) Controller

Abstract translation: 目的：提供一种支撑单元和具有该支撑单元的基板处理装置，以便在围绕基板的热过程中对基板的损伤最小化。 构成：处理衬底的处理空间在室（100）内供应。 支撑单元（1000）支撑基板。 加热构件（200）加热基板。 多个支撑销（1040）从板向上突出。 至少一个子销（1060）从板向顶部突出。 支撑销位于子针脚周围。 （附图标记）（226）电源单元; （248）电源单元; （300）控制器

公开(公告)号：KR1020070050573A

公开(公告)日：2007-05-16

申请号：KR1020050107941

申请日：2005-11-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 엄현섭

IPC: H01L21/265

Abstract: 프로파일러 컵을 자동 정렬할 수 있는 이온 주입 장치의 프로파일러 어셈블 리가 개시되어 있다. 상기 장치는 기판을 지지 및 핸들링 하는 엔드 스테이션 상으로 제공되는 이온 빔의 이온 도즈량을 모니터링하기 위한 프로파일러 컵을 포함한다. 상기 프로파일러 컵을 상기 이온 빔의 진행 경로와 수직한 방향을 따라 이동시키기 위한 이동축을 포함한다. 상기 프로파일러 컵을 상기 엔드 스테이션 중심라인 상에 얼라인 시키기 위한 프로파일러 얼라이너를 포함하되, 상기 프로파일러 얼라이너는 광을 각각 조사하는 발광부와, 제1 수광 센서와, 제2 수광 센서와 상기 제1 수광 센서와 제2 수광 센서에서 상기 광이 동시에 수광될 때까지 상기 프로파일러 컵의 이동방향을 제어하는 제어부를 포함하고 있어 상기 프로파일러 컵을 엔드 스테이션의 중심라인 상에 정확하게 얼라인 된다.

公开(公告)号：KR100684105B1

公开(公告)日：2007-02-16

申请号：KR1020050066517

申请日：2005-07-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 엄현섭 ,  이승세 ,  김영대 ,  강곤수 ,  안성열

IPC: G01N27/62

CPC classification number: H01J49/24 ,  H01J37/05 ,  H01J37/09 ,  H01J37/3171 ,  H01J49/025 ,  H01J49/0495 ,  H01J2237/0225 ,  H01J2237/028 ,  H01J2237/31705

Abstract: 누설되는 이온빔을 감지할 수 있는 질량분석기용 챔버가 개시된다. 질량분석기용 챔버는 이온빔이 입사되는 유입부, 상기 이온빔이 방출되는 유출부 및 상기 유입부와 유출부 사이에서 상기 이온빔이 경유하는 내부통로를 갖는 본체를 포함한다. 상기 내부통로를 한정하는 상기 본체의 내측벽을 따라 상기 본체의 내부를 경유하는 이온 빔으로부터 상기 내측벽이 손상되는 것을 방지하기 위한 쉴딩부가 정렬된다. 상기 쉴딩부와 상기 본체의 내측벽 사이에 상기 내측벽에 도달하는 상기 이온빔을 감지할 수 있는 디텍터가 위치하여 상기 쉴딩부로부터 누설되는 이온빔을 감지한다. 이에 따라, 상기 쉴딩부의 마모에 의해 누설되는 이온빔으로부터 상기 본체의 내측벽이 손상되는 것을 방지할 수 있다.