Abstract:
PURPOSE: A hetero-junction silicon solar cell and a manufacturing method thereof are provided to increase a surface area of a crystalline silicon substrate by forming an amorphous thin film laminated body on an amorphous silicon substrate. CONSTITUTION: An emitter layer(110) is formed at the upper side of a crystalline silicon substrate. Texture is formed by etching the crystalline silicon substrate with a lithography method. A passivation layer(120) is formed at the upper side of the emitter layer. An amorphous thin film laminated body(130) is formed at the upper side of the passivation layer. A front side electrode(140) is formed at the upper side of the amorphous silicon layer. A rear side electrode(150) is formed at the rear side of the crystalline silicon substrate.
Abstract:
본 발명은 박막 트랜지스터, 그의 형성방법 및 박막 트랜지스터를 구비하는 평판 표시장치에 관한 것으로, 기판 상에 차례로 배치된 버퍼막 및 반도체막, 상기 반도체막 상에 차례로 배치된 절연패턴 및 게이트 전극패턴을 포함하는 게이트 패턴, 상기 게이트 패턴 하부의 반도체막을 채널영역으로 한정하고, 상기 게이트 패턴 외측의 상기 반도체막에 불순물이 주입되어 상기 채널영역의 양쪽 측면들과 연결된 소오스 및 드레인, 상기 게이트 패턴을 갖는 상기 기판 전면을 덮는 보호막, 상기 소오스 영역 상에 배치된 상기 보호막의 일영역 및 상기 일영역 하부의 상기 소오스를 관통하여 상기 소오스와 전기적으로 연결된 제1금속전극 및 상기 드레인 영역 상에 배치된 상기 보호막의 일영역 및 상기 일영역 하부의 상기 드레인을 관통하여 상기 드레인과 전기적으로 연결된 제2금속전극을 포함한다. 상기와 같은 박막 트랜지스터, 그의 형성방법 및 박막 트랜지스터를 구비하는 평판 표시장치에 의해, 소오스와 드레인 영역에 금속을 침투시켜 박막 트랜지스터의 구동 시에 전류를 분산시킴으로써 전하의 이동도, 박막 트랜지스터의 수명 및 성능을 향상시킬 수 있다. 박막 트랜지스터, TFT, 평판 표시장치, 유기발광 다이오드
Abstract:
PURPOSE: A nano-crystal silicon layers using plasma deposition technology, a nonvolatile memory device, and forming methods thereof are provided to directly deposit a nano crystal silicon film on a glass substrate. CONSTITUTION: A buffer layer(23) is formed on a substrate(21). A nano crystal silicon layer(25) is formed using plasma deposition technology using gas containing hydrogen and silicon on the buffer layer.
Abstract:
PURPOSE: An electrode structure, a manufacturing method thereof, a transistor including the same, a display device, a touch screen panel, and a solar cell are provided to constantly maintain the thickness of a transparent electrode layer by inserting a reinforcement pattern into the transparent electrode layer. CONSTITUTION: A transparent electrode layer(120) includes transparent conductive materials. A reinforcement pattern(130) is arranged in the transparent electrode layer. The reinforcement pattern reinforces the transparent electrode layer. The reinforcement pattern includes one of a lattice type, a linear type, or a dot type. A flexible substrate(110) supports the transparent electrode layer and the reinforcement pattern.
Abstract:
본 발명은 AZO막을 포함하는 태양전지의 제조방법에 관한 것으로, 태양광이 입사하는 반대 측에 형성된 투명전도막층을 포함하는 태양전지의 제조방법에 있어서, 알루미늄이 첨가된 산화아연 타겟을 이용한 스퍼터링에 의하여 상기 투명전도막층을 형성하는 공정을 포함하며, 상기 스퍼터링이 150℃~200℃의 온도범위에서 진행되는 것을 특징으로 한다. 본 발명은, 최적화된 조건에서 AZO막을 형성함으로써, 후면전극 또는 후면반사막으로 AZO막을 사용한 태양전지를 제공하는 효과가 있다. 또한, 후면전극 또는 후면반사막으로 AZO막을 사용하여 태양전지의 효율이 향상되는 효과가 있다.
Abstract:
본 발명은 전하저장 소자 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 기판, 상기 기판 상에 형성된 터널링 절연막, 상기 터널링 절연막 상에 형성되어 제1밴드갭 에너지를 구비하는 전하 저장막, 상기 전하 저장막 상에 상기 전하 저장막의 증착에 이용된 혼합가스와 동일한 혼합가스로 형성되어 제2밴드갭 에너지를 구비하는 블로킹 절연막 및 상기 블로킹 절연막 상에 형성된 컨트롤 게이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 전하저장 소자를 포함하는 구성을 마련한다. 상기와 같은 전하저장 소자 및 그의 제조방법을 이용하는 것에 의해, 동일한 혼합가스를 이용하여 전하 저장막 및 블로킹 절연막을 형성함으로써 제조공정을 단순화시켜 메모리 소자의 제조단가를 낮출 수 있고, 밴드갭 에너지 차이에 의해 전하를 저장하는 방법과 트랩에 의하여 전하를 저장하는 방법을 모두 사용함으로써 전하저장 특성을 향상시킬 수 있다. 전하저장, 소자, 터널링, 밴드갭, 트랩
Abstract:
PURPOSE: A thin film type solar battery and a manufacturing method thereof are provided to improve short-circuit current density by including a rear side transparent conductivity oxide layer and a rear side electrode having different reflective index. CONSTITUTION: Texture is formed on the surface of a glass substrate. A front side transparent conductivity oxide layer(110) is formed at the upper side of the glass substrate. A thin film laminated body of a p-i-n structure is formed at one side of the front side transparent conductivity oxide layer. A rear side transparent conductivity oxide layer(160) is formed at the upper side of the thin film laminated body of the p-i-n structure. A rear side electrode layer(170) is formed at the upper side of the rear side transparent conductivity oxide layer and the upper side of the front side transparent conductivity oxide layer.
Abstract:
A crystallization method of amorphous silicon thin film is provided to control the diffusion rate of the nickel and the deformation and damage of substrate by crystallizing an amorphous silicon thin film in room temperature. The buffer layer is formed on the substrate(S101). The amorphous silicon thin film is formed on the buffer layer(S102). The assistant thin film is formed in the amorphous silicon thin film(S103). The metal-containing solution is provided on the assistant thin film and metal is coated on the assistant thin film(S104). The substrate in which metal is coated by the thermal process(S105). The metal coating and assistant thin film are removed(S106). The metal solution is the solution containing the nickel. The assistant thin film is the nitride thin film.
Abstract:
전극 구조는 기판, 투명 전극층 및 보강 패턴을 포함한다. 투명 전극층은 기판 상에 배치되며, 투명한 도전 물질을 포함한다. 보강 패턴은 투명 전극층 내부에 배치되며, 투명 전극층을 보강한다. 따라서, 전극 구조에 반복적인 압력이 가해지더라도 보강 패턴이 투명 전극층을 보강하므로 투명 전극층이 깨져 전극 구조의 전기적 특성이 저하되는 것을 방지할 수 있다.