복합재료의 제조방법 및 복합재료성형물의 제조방법
    1.
    发明授权
    복합재료의 제조방법 및 복합재료성형물의 제조방법 失效
    生产复合材料和生产复合材料成型的方法

    公开(公告)号:KR100269824B1

    公开(公告)日:2000-11-01

    申请号:KR1019930011926

    申请日:1993-06-29

    CPC classification number: A47J36/02 B32B15/012

    Abstract: PURPOSE: A process for producing a composite material, and for producing a composite material molding are provided to reduce a fraction defective of molding working by improving composite plate materials in quality and to increase a mass productivity of the composite materials. CONSTITUTION: The process for producing the composite material comprises the step of cladding a magnetic metal plate(1) and an aluminum or aluminum alloy plate(2) by an axial hot pressing. The magnetic metal plate comprises iron or stainless steel. The process for producing the composite material molding comprises the steps of: forming the composite plate materials by cladding a magnetic metal plate and an aluminum or aluminum alloy plate by an axial hot pressing; and press molding and/or stamping and cutting the composite plate materials.

    Abstract translation: 目的:提供一种复合材料的制造方法以及复合材料成型体的制造方法,通过提高复合材料的质量和提高复合材料的质量生产率来降低成型加工不良的部分。 构成:复合材料的制造方法包括通过轴向热压包覆磁性金属板(1)和铝或铝合金板(2)的工序。 磁性金属板包括铁或不锈钢。 制造复合材料成型的方法包括以下步骤:通过轴向热压包覆磁性金属板和铝或铝合金板来形成复合板材料; 并压制成型和/或冲压和切割复合板材料。

    반도체 발광 소자
    2.
    发明授权
    반도체 발광 소자 失效
    半导体发光元件

    公开(公告)号:KR101119579B1

    公开(公告)日:2012-03-08

    申请号:KR1020050035072

    申请日:2005-04-27

    CPC classification number: H01L33/16 H01L33/32

    Abstract: 반도체발광소자(1)는 n형클래드층(3)과, n형클래드층(3)상에설치된 p형클래드층(7)과, n형클래드층(3)과 p형클래드층(7) 사이에설치되어있고, 질화물로이루어진활성층(5)을구비하며, n형클래드층(3)과활성층(5)의계면에직교하는축과활성층(5)에있어서의 c축이이루는각도및 활성층(5)과 p형클래드층(7)의계면에직교하는축과활성층(5)에있어서의 c축이이루는각도가각각제로보다큰 것을특징으로한다.

    Abstract translation: 半导体发光元件1包括n型包覆层3,设置在n型包覆层3上的p型包覆层7,n型包覆层3和p型包覆层3。 据之间,并垂直于uigye表面具有有源层(5)由氮化物,n型包覆层3和活性层5,该角度和该轴的活性c轴和有源层(5) (5)和p型覆层(7)以及有源层(5)中的c轴分别大于零。

    반도체 발광 소자
    7.
    发明公开
    반도체 발광 소자 失效
    半导体发光器件

    公开(公告)号:KR1020060047539A

    公开(公告)日:2006-05-18

    申请号:KR1020050035072

    申请日:2005-04-27

    CPC classification number: H01L33/16 H01L33/32

    Abstract: 본 발명은 활성층에 있어서의 자연 발생 전계가 저감되어, 고휘도화가 가능한 반도체 발광 소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.
    반도체 발광 소자(1)는 n형 클래드층(3)과, n형 클래드층(3)상에 설치된 p형 클래드층(7)과, n형 클래드층(3)과 p형 클래드층(7) 사이에 설치되어 있고, 질화물로 이루어진 활성층(5)을 구비하며, n형 클래드층(3)과 활성층(5)의 계면에 직교하는 축과 활성층(5)에 있어서의 c축이 이루는 각도 및 활성층(5)과 p형 클래드층(7)의 계면에 직교하는 축과 활성층(5)에 있어서의 c축이 이루는 각도가 각각 제로보다 큰 것을 특징으로 한다.

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