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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2012176948A1
公开(公告)日：2012-12-27
申请号：PCT/KR2011/004639
申请日：2011-06-24
Abstract: 본 발명은 계측의 신뢰성을 증대 또는 극대화할 수 있는 융합계측장치를 개시한다. 그의 장치는 기판 표면을 원자레벨 수준으로 계측하는 원자현미경과, 상기 원자현미경 및 상기 기판을 계측하는 전자현미경과, 상기 전자현미경으로 상기 원자현미경 및 상기 기판을 모니터링 할 때, 원자현미경의 캔틸레버에 가려지는 기판 상의 이차전자의 경로를 왜곡하여 전자현미경의 전자 검출기로 진행시키는 적어도 하나의 전극을 포함한다.
Abstract translation: 提供了一种增加或最大化测量可靠性的融合测量装置。 该融合测量装置包括：用于以原子级测量衬底表面的原子显微镜; 用于测量原子显微镜和基底的电子显微镜; 以及至少一个电极，其使由原子显微镜的悬臂覆盖的基板上的二次电子的路径变形，使得二次电子进入电子显微镜的电子检测器。
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公开(公告)号：WO2009096728A3
公开(公告)日：2009-08-06
申请号：PCT/KR2009/000451
申请日：2009-01-30
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 포토 마스크 수리방법을 개시한다. 수리용 원자현미경 탐침이 포토 마스크의 결함 부분에 위치하도록 하고, 상기 수리용 원자현미경 탐침을 왕복 동작시키는 것에 의하여 상기 포토 마스크의 결함 부분을 제거하고, 상기 수리용 원자현미경 탐침에 의한 상기 포토 마스크의 수리 과정을 전자현미경으로 관찰하고, 그리고 상기 수리용 원자현미경 탐침과는 다른 관측용 원자현미경 탐침을 사용하여 수리 후의 상기 포토 마스크의 형상을 인-시츄(in-situ)로 확인한다.
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公开(公告)号：KR101158284B1
公开(公告)日：2012-06-19
申请号：KR1020100019129
申请日：2010-03-03
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명은 계측의 신뢰성을 증대 또는 극대화할 수 있는 융합계측장치를 개시한다. 그의 장치는 기판 표면을 원자레벨 수준으로 계측하는 원자현미경과, 상기 원자현미경 및 상기 기판을 계측하는 전자현미경과, 상기 전자현미경으로 상기 원자현미경 및 상기 기판을 모니터링 할 때, 원자현미경의 캔틸레버에 가려지는 기판 상의 이차전자의 경로를 왜곡하여 전자현미경의 전자 검출기로 진행시키는 적어도 하나의 전극을 포함한다.
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公开(公告)号：KR100873154B1
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：KR1020080009662
申请日：2008-01-30
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F1/72 , H01L21/0274
Abstract: The repair device of photomask and repair method using the same are provided to save the time and performs all the processes when checking and replacing the atomic force microscope probe. The photomask repair device comprises the atomic force microscope(112) for repair, the electron microscope(116), and the atomic force microscope for imaging. The atomic force microscope for repair repairs the defection portion of the photomask(101). The electron microscope guides the atomic force microscope for repair to be positioned in the defection portion of photomask. The electron microscope observes the repair process of photomask by the atomic force microscope for repair. The atomic force microscope for imaging images the shape of photomask after repair in the In-situ.
Abstract translation: 提供光掩模修复装置及其修复方法，以便在检查和更换原子力显微镜探针时节省时间并执行所有过程。 光掩模修复装置包括用于修复的原子力显微镜（112），电子显微镜（116）和用于成像的原子力显微镜。 用于修理的原子力显微镜修复光掩模（101）的缺陷部分。 电子显微镜引导原子力显微镜进行修复，定位在光掩模的缺陷部分。 电子显微镜观察原子力显微镜修复光掩模的修复过程。 用于在原位修复后对成像图像形成光原子的原子力显微镜。
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公开(公告)号：KR1020110100052A
公开(公告)日：2011-09-09
申请号：KR1020100019129
申请日：2010-03-03
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: G01Q60/08 , G01B21/30 , G01Q80/00 , G01R1/06727 , H01J37/285
Abstract: 본 발명은 계측의 신뢰성을 증대 또는 극대화할 수 있는 융합계측장치를 개시한다. 그의 장치는 기판 표면을 원자레벨 수준으로 계측하는 원자현미경과, 상기 원자현미경 및 상기 기판을 계측하는 전자현미경과, 상기 전자현미경으로 상기 원자현미경 및 상기 기판을 모니터링 할 때, 원자현미경의 캔틸레버에 가려지는 기판 상의 이차전자의 경로를 왜곡하여 전자현미경의 전자 검출기로 진행시키는 적어도 하나의 전극을 포함한다.
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