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公开(公告)号：KR102232199B1
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：KR1020170165429A
申请日：2017-12-04
Applicant: 한국화학연구원
CPC classification number: C23C14/02 , A61K9/0021 , A61K9/7023 , A61M37/0015 , C23C14/0005 , C23C14/18 , C23C14/24 , A61M2037/0023
Abstract: 본 발명은 화학적 작용기를 갖는 고체 기재 상에 형성된 단일층 그래핀을 포함하는 템플릿을 이용한 금속 초박막의 제조방법 및 이에 따라 제조된 금속 초박막의 용도에 관한 것이다.
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公开(公告)号：WO2017065530A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：PCT/KR2016/011504
申请日：2016-10-13
Applicant: 한국화학연구원
Abstract: 본 발명은 고분자 매개성 그래핀 전사법을 이용하되, 고분자 잔류물 없는 깨끗한 표면을 가진 그래핀 박막이 전사된 기재(substrate)를 제조하는 방법; 그래핀 표면으로부터 잔류물 없이 고분자를 제거하는 방법; 그래핀 상 고분자 패턴 형성 방법; 유기용매 처리시 고분자층이 제거되지 않도록 그래핀 상에 고분자 층을 고정하는 방법; 및 고분자 잔류물 없는 깨끗한 표면을 가진 그래핀 박막이 전사된 기재를 포함하는 전기전자소자에 관한 것이다. 본 발명은 금속 함유 층 상(上) 그래핀 박막의 표면에너지를 증가시키는 금속 함유 층의 금속 표면 상태를 결정하고, 상기 결정된 금속 표면 상태로 금속 함유 층을 변화시키는 조건을 결정하는 것이 특징이다.
Abstract translation:
本发明涉及一种方法，用于制造基底材料（衬底），但使用聚合物介导的石墨烯转移方法的，石墨烯薄膜具有游离聚合物残余物的清洁表面被转移; 从石墨烯表面除去没有残余物的聚合物的方法; 一种形成石墨烯聚合物图案的方法; 一种将聚合物层固定在石墨烯上以便在有机溶剂处理期间不去除聚合物层的方法; 并且在其上转印具有清洁表面而没有聚合物残余物的石墨烯薄膜的基板被转移。 本发明的特征，以确定哪些确定其增加了相（上）石墨烯薄膜含有金属的层的表面能，改变含有在所确定的金属表面状态的金属层中的含金属层的金属表面状态的条件。
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公开(公告)号：WO2019031845A1
公开(公告)日：2019-02-14
申请号：PCT/KR2018/009033
申请日：2018-08-08
Applicant: 한국화학연구원
IPC: A61B5/145 , G01N33/49 , G01N27/327 , C12Q1/00 , C12Q1/26
CPC classification number: A61B5/145 , C12Q1/00 , C12Q1/26 , G01N27/327 , G01N33/49
Abstract: 본 발명은 단일층 그래핀, 산화환원 중간체(redox-mediator) 및 글루코스 산화효소를 포함하는 글루코스 센서용 전극 및 이를 구비한 체외진단용 글루코스 센서에 관한 것이다. 글루코스 센서용 전극에 있어서, 단일층 그래핀의 제1측면에 산화환원 중간체가 존재하고, 단일층 그래핀의 제2측면에 글루코스 산화효소가 존재하도록 형성된 것을 포함한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020170043472A
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：KR1020160133143
申请日：2016-10-13
Applicant: 한국화학연구원
CPC classification number: B01J21/00 , B01J23/00 , H01B1/04 , H01B5/14 , C01B32/186
Abstract: 본발명은고분자매개성그래핀전사법을이용하되, 고분자잔류물없는깨끗한표면을가진그래핀박막이전사된기재(substrate)를제조하는방법; 그래핀표면으로부터잔류물없이고분자를제거하는방법; 그래핀상 고분자패턴형성방법; 유기용매처리시고분자층이제거되지않도록그래핀상에고분자층을고정하는방법; 및고분자잔류물없는깨끗한표면을가진그래핀박막이전사된기재를포함하는전기전자소자에관한것이다. 본발명은금속함유층 상(上) 그래핀박막의표면에너지를증가시키는금속함유층의금속표면상태를결정하고, 상기결정된금속표면상태로금속함유층을변화시키는조건을결정하는것이특징이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用聚合物介导的石墨烯沉积方法制造其上具有清洁表面而没有聚合物残余物的石墨烯薄膜的基板的方法; 从石墨烯表面除去没有残余物的聚合物的方法; 一种形成石墨烯聚合物图案的方法; 一种将聚合物层固定在石墨烯上以便在有机溶剂处理期间不去除聚合物层的方法; 并且在其上转印具有清洁表面而没有聚合物残余物的石墨烯薄膜的基板被转移。 本发明的特征，以确定这增加了含有金属的层的表面能（上）石墨烯薄膜的含有金属的层的金属表面状况，并且确定用于含金属层改变到金属表面上确定的状态的条件。
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公开(公告)号：KR101997138B1
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：KR1020177018525
申请日：2015-12-04
Applicant: 한국화학연구원
IPC: C01B32/186 , C01B32/194 , C01B32/23 , H01M4/1315 , H01M4/139 , H01M4/66 , H01M4/86 , A61L27/56
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公开(公告)号：KR1020170085137A
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：KR1020177018525
申请日：2015-12-04
Applicant: 한국화학연구원
IPC: C01B32/182 , A61L27/56
CPC classification number: A61L27/56 , C01B32/186 , C01B32/20 , C01B32/23 , C01B2204/20 , H01M4/13 , H01M4/1315 , H01M4/139 , H01M4/663 , H01M4/8615 , Y02E60/13 , C01B32/182 , C01B32/194
Abstract: 본발명은그래핀의화학반응투명성을이용하는방법에관한것으로, 더욱상세하게는전자전달을방해하지않으면서산소의확산을막는그래핀을활용함으로써그래핀표면에서촉매반응에의해원하는물질을형성시킬수 있는방법및 이의응용방법에관한것이다.
Abstract translation: 本发明是涉及一种使用化学反应，销，更具体的透明度的方法，而没有与所述电子传输干扰停止西山牛扩散是通过利用销是在sikilsu形成通过在销表面的催化反应所期望的材料 及其应用方法。
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公开(公告)号：KR102232199B1
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：KR1020170165429
申请日：2017-12-04
Applicant: 한국화학연구원
Abstract: 본발명은화학적작용기를갖는고체기재상에형성된단일층그래핀을포함하는템플릿을이용한금속초박막의제조방법및 이에따라제조된금속초박막의용도에관한것이다.
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公开(公告)号：KR101905646B1
公开(公告)日：2018-10-10
申请号：KR1020160133143
申请日：2016-10-13
Applicant: 한국화학연구원
Abstract: 본발명은고분자매개성그래핀전사법을이용하되, 고분자잔류물없는깨끗한표면을가진그래핀박막이전사된기재(substrate)를제조하는방법; 그래핀표면으로부터잔류물없이고분자를제거하는방법; 그래핀상 고분자패턴형성방법; 유기용매처리시고분자층이제거되지않도록그래핀상에고분자층을고정하는방법; 및고분자잔류물없는깨끗한표면을가진그래핀박막이전사된기재를포함하는전기전자소자에관한것이다. 본발명은금속함유층 상(上) 그래핀박막의표면에너지를증가시키는금속함유층의금속표면상태를결정하고, 상기결정된금속표면상태로금속함유층을변화시키는조건을결정하는것이특징이다.
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