公开(公告)号：WO2017067813A3

公开(公告)日：2017-06-01

申请号：PCT/EP2016074280

申请日：2016-10-11

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： PÉTER MÁRIA ,  ABEGG ERIK ACHILLES ,  GIESBERS ADRIANUS JOHANNES MARIA ,  KLOOTWIJK JOHAN HENDRIK ,  NASALEVICH MAXIM ALEKSANDROVICH ,  VAN DEN EINDEN WILHELMUS THEODORUS ANTHONIUS JOHANNES ,  VAN DER ZANDE WILLEM JOAN ,  VAN ZWOL PIETER-JAN ,  VERMEULEN JOHANNES PETRUS MARTINUS BERNARDUS ,  VLES DAVID FERDINAND ,  VOORTHUIJZEN WILLEM-PIETER

IPC: G03F7/20 ,  B01D67/00 ,  G03F1/62 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70983 ,  G21K2201/067

Abstract: Methods of manufacturing a pellicle for a lithographic apparatus are disclosed. In one arrangement the method comprises depositing at least one graphene layer (2) on a planar surface (4) of a substrate (6). The substrate comprises a first substrate portion and a second substrate portion (12). The method further comprises removing the first substrate portion to form a freestanding membrane (14) from the at least one graphene layer. The freestanding membrane is supported by the second substrate portion.

Abstract translation: 公开了制造用于光刻设备的薄膜的方法。 在一种布置中，该方法包括在衬底（6）的平坦表面（4）上沉积至少一个石墨烯层（2）。 衬底包括第一衬底部分和第二衬底部分（12）。 该方法进一步包括移除第一衬底部分以从该至少一个石墨烯层形成独立膜（14）。 独立式膜由第二基底部分支撑。