公开(公告)号：JP2011176308A

公开(公告)日：2011-09-08

申请号：JP2011025713

申请日：2011-02-09

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： RIEPEN MICHEL ,  EUMMELEN ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARINA ,  VAN DER GRAAF SANDRA ,  CORTIE ROGIER HENDRIKUS MAGDALENA ,  KANEKO TAKESHI ,  DZIOMKINA NINA VLADIMIROVNA ,  VAN BOKHOVEN LAURENTIUS JOHANNES ADRIANUS ,  EVANGELISTA FABRIZIO ,  BESSEMS DAVID ,  ROPS CORNELIUS MARIA ,  VERDONCK ADRIANUS MARINUS ,  KATE NICOLAAS TEN

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fluid handling structure for minimizing or preventing the sealing of bubbles within an immersion solution of an immersion lithographic apparatus. SOLUTION: A fluid handling structure is for a lithographic apparatus. At a boundary from a space configured to include an immersion fluid to a region external to the fluid handling structure, the fluid handling structure successively has an extractor having at least one opening arranged in a first line that, in use, is directed towards a substrate and/or a table and a liquid manipulator on a surface that, in use, faces the substrate and/or table to reduce the chance of droplets on the surface from coalescing. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种流体处理结构，用于使浸没式光刻设备的浸液中的气泡密封最小化或防止。 解决方案：流体处理结构用于光刻设备。 在从被构造为将浸没流体包括在流体处理结构外部的区域的空间的边界处，流体处理结构依次具有提取器，其具有布置在第一线中的至少一个开口，在使用中，至少一个开口指向基板 和/或在使用中面向基底和/或台面的表面上的桌子和液体操纵器，以减少表面上的液滴的聚结机会。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：NL2006054A

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：NL2006054

申请日：2011-01-24

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： RIEPEN MICHEL ,  ROPS CORNELIUS ,  VERDONCK ADRIANUS MARINUS ,  EUMMELEN ERIK ,  GRAAF SANDRA ,  CORTIE ROGIER HENDRIKUS MAGDALENA ,  KANEKO TAKESHI ,  DZIOMKINA NINA ,  BOKHOVEN LAURENTIUS ,  EVANGELISTA FABRIZIO ,  BESSEMS DAVID

IPC: G03F7/20