公开(公告)号：EP3133126A4

公开(公告)日：2017-06-28

申请号：EP15772244

申请日：2015-03-26

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： IDEI HIROAKI ,  OOTA KAZUYA ,  SAMEJIMA SUGURU ,  HARADA MASAYUKI ,  HARA AKIHIRO ,  ITO JUNICHI

IPC: C09B67/20 ,  C08F2/44 ,  C09B69/10 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0007 ,  C08F2/38 ,  C08F2/44 ,  C08F2/50 ,  C08F222/1006 ,  C08F2220/325 ,  C08F2220/343 ,  C08F2222/1013 ,  C08F2222/1026 ,  C08F2222/104 ,  C09B5/14 ,  C09B11/12 ,  C09B11/24 ,  C09B25/00 ,  C09B49/12 ,  C09B49/122 ,  C09B49/126 ,  C09B67/0033 ,  C09B67/0034 ,  C09B69/101 ,  C09B69/103 ,  C09B69/105 ,  C09B69/106 ,  C09B69/108 ,  C09B69/109 ,  G02B5/20 ,  G02B5/223 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/105 ,  C08F2220/185 ,  C08F220/06 ,  C08F220/20

公开(公告)号：EP2488588A4

公开(公告)日：2014-11-05

申请号：EP10823460

申请日：2010-10-07

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： ITO JUNICHI ,  MIZUKAWA YUKI ,  YABUKI YOSHIHARU ,  KANNA SHINICHI ,  INABE HARUKI ,  KANEKO YUSHI ,  GOTO AKIYOSHI

IPC: C09B23/00 ,  B41J2/01 ,  B41M5/00 ,  C07D207/416 ,  C09B57/10 ,  C09B67/20 ,  C09D11/00 ,  C09D11/328 ,  G02B5/20 ,  G02B5/22 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  H01L27/14 ,  H01L51/50 ,  H05B33/12

CPC classification number: C09D11/101 ,  C09B57/10 ,  C09B69/109 ,  C09D11/322 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/105 ,  G03F7/40

公开(公告)号：EP2776889A4

公开(公告)日：2015-06-17

申请号：EP12847779

申请日：2012-11-02

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： SHIBUYA AKINORI ,  TOKUGAWA YOKO ,  MATSUDA TOMOKI ,  ITO JUNICHI ,  KATAOKA SHOHEI ,  FUKUHARA TOSHIAKI ,  TANGO NAOHIRO ,  IWATO KAORU ,  YOSHIDOME MASAHIRO ,  SUGIYAMA SHINICHI

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/32

CPC classification number: G03F7/038 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/12 ,  C07D295/16 ,  C07D327/06 ,  C07D339/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

Abstract: According to one embodiment, there is provided an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition including (A) a compound represented by a general formula (1) below that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation, and (B) a resin.

公开(公告)号：EP2483356A4

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：EP10820740

申请日：2010-09-28

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： ITO JUNICHI ,  YOSHIKAWA MASARU ,  MIZUKAWA YUKI ,  USHIJIMA KENTA ,  KANNA SHINICHI ,  INABE HARUKI ,  FUJIE YOSHIHIKO ,  GOTO AKIYOSHI ,  KANEKO YUSHI ,  IDEI HIROAKI

IPC: C09B69/10 ,  C08F2/50 ,  C08F20/02 ,  C08F20/34 ,  C08F20/38 ,  C08F20/56 ,  C08F20/60 ,  C08F220/36 ,  C08F220/60 ,  C09B23/00 ,  C09B57/10 ,  G02B5/20 ,  G02B5/22 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/004 ,  G03F7/032 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  G03F7/40 ,  H01L27/14

CPC classification number: C08F2/50 ,  C08F220/36 ,  C08F220/60 ,  C09B23/04 ,  C09B57/10 ,  C09B69/108 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1408 ,  C09K2211/188 ,  G02B5/22 ,  G02F1/133516 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/027 ,  G03F7/033 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/105 ,  H01L27/322 ,  H05B33/12

公开(公告)号：EP2864839A4

公开(公告)日：2016-12-28

申请号：EP13793930

申请日：2013-05-23

Applicant: FUJIFILM CORP

Inventor： ITO JUNICHI ,  YAMAGUCHI SHUHEI ,  TAKAHASHI HIDENORI ,  YAMAMOTO KEI

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/22 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  H01L21/0273

公开(公告)号：JP2015034966A

公开(公告)日：2015-02-19

申请号：JP2014073225

申请日：2014-03-31

Applicant: 富士フイルム株式会社 ,  Fujifilm Corp

Inventor： HARA AKIHIRO ,  WATANABE TETSUYA ,  KANEKO YUJI ,  SAMEJIMA KEN ,  ITO JUNICHI ,  MURO SUKETSUGU ,  ODA KAZUYA ,  TAGUCHI TAKANORI

IPC: G02B5/20 ,  C09B67/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/11

CPC classification number: G03F7/0007 ,  C08F2/44 ,  C08F2/48 ,  C09B11/12 ,  C09B11/24 ,  C09B23/04 ,  C09B23/06 ,  C09B23/083 ,  C09B57/00 ,  C09B57/007 ,  C09B69/008 ,  C09B69/06 ,  C09B69/103 ,  C09B69/105 ,  C09B69/109 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1022 ,  C09K2211/1029 ,  C09K2211/188 ,  G02B5/223 ,  G03F7/031 ,  G03F7/105 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/36

Abstract: 【課題】耐熱性が向上した着色組成物、ならびに、着色組成物を利用した、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置の提供。【解決手段】(A)下記一般式(I)で示される色素および(B)重合性化合物を含有する着色組成物。一般式(I)中、Qは、(m+n)価の連結基を表し、Rは、置換基を表し、Dは、色素残基を表す。mは、0〜6の整数を表し、nは、2〜8の整数を表し、(m+n)は2〜8の整数を表す。mが2以上の場合、複数のRは互いに異なっていても良く、nが2以上の場合、複数のDは互いに異なっていても良い。一般式(I) (R)m−Q−(D)n【選択図】なし

Abstract translation: 待解决的问题：提供：具有改善的耐热性的着色组合物; 以及利用着色组合物的固化膜，滤色器，制造滤色器的方法，固态成像元件和图像显示装置。溶液：着色组合物含有（A）由通式（ I）由（R）-Q​​-（D）定义; 和（B）可聚合化合物。 在通式（I）中，Q表示（m + n）价连接基团; R表示取代基; D代表染料残留物; m表示0-6的整数; n表示2-8的整数; 和（m + n）表示2-8的整数。 在m为2以上的情况下，多个R部分可以不同; 在n为2以上的情况下，多个D部分可以不同。

公开(公告)号：JP2015028144A

公开(公告)日：2015-02-12

申请号：JP2014115703

申请日：2014-06-04

Applicant: 富士フイルム株式会社 ,  Fujifilm Corp

Inventor： KANEKO YUJI ,  WATANABE TETSUYA ,  SAMEJIMA KEN ,  ITO JUNICHI ,  MURO SUKETSUGU ,  TAGUCHI TAKANORI ,  ODA KAZUYA

IPC: C09B69/10 ,  C08F20/36 ,  C08F290/12 ,  C09B67/20 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/031

CPC classification number: C08F224/00 ,  C07D311/88 ,  C08F8/00 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F12/32 ,  C08F20/36 ,  C08F290/12 ,  C08G18/32 ,  C08G18/3819 ,  C09B11/12 ,  C09B11/24 ,  C09B23/04 ,  C09B23/06 ,  C09B23/08 ,  C09B47/00 ,  C09B69/103 ,  C09B69/105 ,  C09B69/108 ,  G02B5/20 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/033 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/105

Abstract: 【課題】パターンを形成する際に、適切にパターンを形成できる色素多量体の提供。さらに、色素多量体を用いた着色組成物、着色組成物を利用した、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置の提供。【解決手段】 (A)非求核性の対アニオンを有する色素多量体。【選択図】なし

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种颜料多聚体，其中可以在形成图案期间适当地形成图案，并且还提供使用该颜料多聚体的着色组合物，以及固化膜，滤色器，滤色器的制造方法，固体 - 状态成像元件和使用着色组合物的图像显示装置。解决方案：（A）颜料多聚体具有非亲核抗衡阴离子。

公开(公告)号：JP2014006491A

公开(公告)日：2014-01-16

申请号：JP2012232271

申请日：2012-10-19

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： SHIBUYA AKINORI ,  TOKUGAWA YOKO ,  MATSUDA TOMOKI ,  ITO JUNICHI ,  KATAOKA SHOHEI ,  FUKUHARA TOSHIAKI ,  TANGO NAOHIRO ,  IWATO KAORU ,  YOSHITOME MASAHIRO ,  SUGIYAMA SHINICHI

IPC: G03F7/004 ,  C08F20/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/038 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/12 ,  C07D295/16 ,  C07D327/06 ,  C07D339/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/325

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which is excellent in exposure latitude and pattern roughness such as LWR, reduces occurrence of particles over time, and reduces, in the case of liquid-immersion exposure, elution of generated acids into an immersion liquid; an actinic ray- or radiation-sensitive film based on the same; and a method of forming a pattern.SOLUTION: The actinic ray- or radiation-sensitive resin composition includes (A) a compound represented by the specified general formula (1) that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation, and (B) a resin.

Abstract translation: 要解决的问题：提供：曝光宽容度和图案粗糙度如LWR优异的光化射线或辐射敏感性树脂组合物可以减少颗粒随时间的发生，并且在液浸曝光的情况下， 将产生的酸溶解到浸液中; 基于其的光化射线或辐射敏感膜; 以及形成图案的方法。解决方案：光化射线或辐射敏感性树脂组合物包含（A）当暴露于光化射线或辐射时产生酸的特定通式（1）表示的化合物和（B ）树脂。

公开(公告)号：JP2013167731A

公开(公告)日：2013-08-29

申请号：JP2012030486

申请日：2012-02-15

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： SHIBUYA AKINORI ,  TOKUGAWA YOKO ,  MATSUDA TOMOKI ,  ITO JUNICHI ,  KATAOKA SHOHEI ,  FUKUHARA TOSHIAKI ,  TANGO NAOHIRO ,  IWATO KAORU ,  YOSHITOME MASAHIRO ,  SUGIYAMA SHINICHI

IPC: G03F7/004 ,  C08F220/26 ,  G03F7/038

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of suppressing pattern collapse and improving LWR (line width roughness) and storage stability, and a pattern forming method using the composition.SOLUTION: An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises: (A) resin having a repeating unit expressed by the following general formula (1) and a repeating unit that is decomposed by an action of an acid to increase the solubility in an alkali developing solution; (B) a compound Rincluding at least one nitrogen atom or a compound which is an ionic compound including a basic moiety Rincluding at least one nitrogen atom, both having such a property that R-Hor R-Has conjugated acids thereof has a pKa of 8 or lower; and (C) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation. In the general formula (1), L represents a single bond or a divalent connecting group; Rrepresents a hydrogen atom or an alkyl group; and Z represents a cyclic acid anhydride structure.

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够抑制图案塌陷并提高LWR（线宽粗糙度）和保存稳定性的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物以及使用该组合物的图案形成方法。解决方案： 敏感或辐射敏感性树脂组合物包含：（A）具有由以下通式（1）表示的重复单元的树脂和通过酸作用分解以提高在碱性显影液中的溶解度的重复单元; （B）包含至少一个氮原子的化合物或作为包含碱性部分的离子化合物的化合物包含至少一个氮原子的化合物，其具有R-Hor R-has共轭酸的pKa为8的性质 或更低; 和（C）通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物。 在通式（1）中，L表示单键或二价连接基团; R表示氢原子或烷基; Z表示环状酸酐结构。

公开(公告)号：JP2012140586A

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：JP2011180561

申请日：2011-08-22

Applicant: Fujifilm Corp ,  富士フイルム株式会社

Inventor： SASAKI DAISUKE ,  FUJIE YOSHIHIKO ,  ITO JUNICHI

IPC: C09B23/00 ,  B41J2/01 ,  B41M5/00 ,  B41M5/385 ,  B41M5/388 ,  B41M5/39 ,  C09B57/10 ,  C09D11/00 ,  C09D11/328 ,  G03G9/09

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dipyrromethene metal complex compound exhibiting a sharp absorption spectrum peak, and excellent in the fastness and the dissolvability to a solvent.SOLUTION: The dipyrromethene metal complex compound is represented by formula (1) (wherein Rto Reach independently denote a monovalent substituent; M denotes a metal or a metal compound; and X denotes a (un)substituted 2C-3C acyloxy group, a (un)substituted alkylsulfonyloxy group, or the like).

Abstract translation: 要解决的问题：提供表现出尖锐吸收光谱峰值的二吡咯亚甲基金属络合物，并且对溶剂的牢度和溶解性优异。 解决方案：二吡咯亚甲基金属络合物由式（1）（其中R 1 分别独立地表示为R 8 表示一价取代基; M表示金属或金属化合物; X表示（un）取代的2C-3C酰氧基，（un）取代的烷基磺酰氧基等）。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT