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1.发明公开SULFONIC ACID ESTER CONTAINING POLYMERS FOR ORGANIC SOLVENT BASED DUAL-TONE PHOTORESISTS 审中-公开磺酸与聚合物的溶剂型涂料与两个有机溶剂色调PHOTO
公开(公告)号：EP3049868A4
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：EP14848594
申请日：2014-07-23
Inventor： AYOTHI RAMAKRISHNAN , SWANSON SALLY ANN , WALLRAFF GREGORY MICHAEL
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/2037 , G03F7/2041 , G03F7/40
Abstract: Provided are chemically amplified resist compositions that include acid-labile sulfonate-ester photoresist polymers that are developable in an organic solvent. The chemically amplified resists produce high resolution positive tone development (PTD) and negative tone development (NTD) images depending on the selection of organic development solvent. Furthermore, the dissolution contrast of the traditional chemically amplified resists may be optimized for dual tone imaging through the addition of a photoresist polymer comprising an acid-labile sulfonate-ester moiety.
Abstract translation: 提供的是化学放大抗蚀剂组合物也包括酸不稳定的磺酸酯光致抗蚀剂聚合物是没有在有机溶剂中显影的。 的化学放大型抗蚀剂产生高分辨率正色调发展（PTD）和负性显影（NTD）的图像依赖于有机溶剂的发展的选择。 进一步，传统的化学放大抗蚀剂的溶解对比度可能的双调成像通过添加光致抗蚀剂聚合物，其包含对酸不稳定的磺酸酯部分的的优化。
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公开(公告)号：DE112010004289B4
公开(公告)日：2016-03-24
申请号：DE112010004289
申请日：2010-09-14
Applicant: IBM
Inventor： SOORIYAKUMARAN RATNAM , ALLEN ROBERT DAVID , BROCK PHILLIP JOE , SWANSON SALLY ANN , TRUONG HOA , CHEN KUANG-JUNG , HUANG WU-SONG , FRIZ ALEXANDER
IPC: C09D143/04 , G03F7/00 , G03F7/075
Abstract: Beschichtungszusammensetzung, umfassend: ein Polymer, umfassendwobei R1 eine Silicium-enthaltende Einheit ist, R2 eine säurestabile Lactonfunktionalität ist und R3 eine säurelabile Lactonfunktionalität ist; X1, X2, X3 unabhängig H oder CH3 sind; und m, n und o von null verschiedene positive ganze Zahlen sind, die die Anzahl von Wiederholungseinheiten darstellen; und wobei die Silicium enthaltende Einheit (m) 20 bis 40 mol-Prozent, die säurestabile Lactonfunktionalität (n) 10 bis 40 mol-Prozent und die säurelabile Lactonfunktionalität (o) 20 bis 70 mol-Prozent des Polymers bildet; einen Fotosäuregenerator; und ein Lösungsmittel.
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公开(公告)号：DE112010004289T5
公开(公告)日：2013-03-07
申请号：DE112010004289
申请日：2010-09-14
Applicant: IBM
Inventor： SOORIYAKUMARAN RATNAM , ALLEN ROBERT DAVID , BROCK PHILLIP JOE , SWANSON SALLY ANN , TRUONG HOA , CHEN KUANG-JUNG , HUANG WU-SONG , FRIZ ALEXANDER
IPC: C09D143/04 , G03F7/00 , G03F7/075
Abstract: Beschichtungszusammensetzungen umfassen ein Polymer, umfassend (I), wobei R1 eine Silicium-enthaltende Einheit ist, R2 eine säurestabile Lactonfunktionalität ist und R3 eine säurelabile Lactonfunktionalität ist; X1, X2, X3 unabhängig H oder CH3 sind; und m und o von null verschiedene positive ganze Zahlen sind und n null oder eine positive ganze Zahl ist, die die Anzahl von Wiederholungseinheiten darstellen; einen Fotosäuregenerator; und ein Lösungsmittel. Ferner werden Verfahren zum Herstellen eines Musters in der Beschichtungszusammensetzung, welche dieses enthält, offenbart.
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公开(公告)号：GB2487129B
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：GB201200145
申请日：2010-09-14
Applicant: IBM
Inventor： SOORIYAKUMARAN RATNAM , ALLEN ROBERT DAVID , BROCK PHILLIP JOE , SWANSON SALLY ANN , FRIZ ALEXANDER , HUANG WU-SONG , CHEN KUANG-JUNG , TRUONG HOA
IPC: C09D143/04 , G03F7/00 , G03F7/075
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公开(公告)号：DE69004914D1
公开(公告)日：1994-01-13
申请号：DE69004914
申请日：1990-08-30
Applicant: IBM
Inventor： HENDRICK JAMES LUPTON , HOFER DONALD CLIFFORD , LABADIE JEFFREY WILLIAM , SWANSON SALLY ANN , VOLKSEN WILLI
Abstract: Block copolymers of polyimide and poly (phenylquinoxaline) are synthesized. They are useful as packaging materials in the electronics industry.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：GB2484837B
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：GB201119376
申请日：2010-07-23
Inventor： FURUKAWA TAIICHI , SWANSON SALLY ANN , HOULE FRANCIS ANNE
IPC: G03F7/027
Abstract: Coating compositions suitable for UV imprint lithographic applications include at least one vinyl ether crosslinker having at least two vinyl ether groups; at least one diluent comprising a monofunctional vinyl ether compound; at least one photoacid generator soluble in a selected one or both of the at least one monofunctional vinyl ether compound and the at least one vinyl ether crosslinker having the at least two vinyl ether groups; and at least one stabilizer comprising an ester compound selectively substituted with a substituent at an ester position or an alpha and the ester positions. Also disclosed are imprint processes.
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公开(公告)号：DE112010003347T5
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：DE112010003347
申请日：2010-07-23
Inventor： SWANSON SALLY ANN , HOULE FRANCES ANNE , FURUKAWA TAIICHI
Abstract: Beschichtungszusammensetzungen, die für UV-Prägelithographie-Anwendungen geeignet sind, umfassen mindestens ein Vinylether-Vernetzungsmittel mit mindestens zwei Vinylethergruppen; mindestens ein Verdünnungsmittel, welches eine monofunktionelle Vinyletherverbindung umfasst; mindestens einen Photosäurebildner, der in einem ausgewählten oder beiden aus der mindestens einen monofunktionellen Vinyletherverbindung und dem mindestens einen Vinylether-Vernetzungsmittel mit mindestens zwei Vinylethergruppen löslich ist; und mindestens einen Stabilisator, der eine Esterverbindung umfasst, die selektiv entweder an einer Esterposition oder an einer Alphaposition und der Esterposition mit einem Substituenten substituiert ist. Es werden auch Prägeverfahren offenbart.
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8.发明专利
公开(公告)号：DE112010003347B4
公开(公告)日：2022-02-03
申请号：DE112010003347
申请日：2010-07-23
Inventor： FURUKAWA TAIICHI , SWANSON SALLY ANN , HOULE FRANCES ANNE
Abstract: Vinylether-Resistformulierung, welche das Folgende umfasst:mindestens ein Vinylether-Vernetzungsmittel mit mindestens zwei Vinylethergruppen;mindestens ein Verdünnungsmittel, welches eine monofunktionelle Vinyletherverbindung umfasst;mindestens einen Photosäurebildner, der in einem ausgewählten oder beiden aus i) der monofunktionellen Vinyletherverbindung und ii) dem mindestens einen Vinylether-Vernetzungsmittel löslich ist; undmindestens einen Stabilisator, der eine Esterverbindung umfasst, die selektiv entweder i) an einer Esterposition oder ii) an einer Alphaposition und der Esterposition mit einem Substituenten substituiert ist, wobei die Esterverbindung die folgende Formel aufweist:wobei R1für einen Substituenten an der Alphaposition steht und R2für einen Substituenten an der Esterposition steht.
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公开(公告)号：GB2487129A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：GB201200145
申请日：2010-09-14
Applicant: IBM
Inventor： SOORIYAKUMARAN RATNAM , ALLEN ROBERT DAVID , BROCK PHILLIP JOE , SWANSON SALLY ANN , FRIZ ALEXANDER , HUANG WU-SONG , CHEN KUANG-JUNG , TRUONG HOA
IPC: C09D143/04 , G03F7/00 , G03F7/075
Abstract: Coating compositions include a polymer including (I) wherein R1 is a silicon containing moiety, R2 is an acid stable lactone functionality, and R3 is an acid labile lactone functionality; X1, X2, X3 are independently H or CH3; and m and o are non-zero positive integers and n is zero or a positive integer representing the number of repeat units; a photoacid generator; and a solvent. Also disclosed are methods for forming a pattern in the coating composition containing the same.
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公开(公告)号：GB2484837A
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：GB201119376
申请日：2010-07-23
Inventor： FURUKAWA TAIICHI , SWANSON SALLY ANN , HOULE FRANCIS ANNE
IPC: G03F7/027
Abstract: Coating compositions suitable for UV imprint lithographic applications include at least one vinyl ether crosslinker having at least two vinyl ether groups; at least one diluent comprising a monofunctional vinyl ether compound; at least one photoacid generator soluble in a selected one or both of the at least one monofunctional vinyl ether compound and the at least one vinyl ether crosslinker having the at least two vinyl ether groups; and at least one stabilizer comprising an ester compound selectively substituted with a substituent at an ester position or an alpha and the ester positions. Also disclosed are imprint processes.
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