Eine Laminarstruktur, ein Halbleiterbauelementund Verfahren zum Bilden von Halbleiterbauelementen

    公开(公告)号:DE102015109764A1

    公开(公告)日:2016-12-22

    申请号:DE102015109764

    申请日:2015-06-18

    Abstract: Ein Verfahren zum Bilden von Halbleiterbauelementen umfasst ein Platzieren einer Laminarstruktur, die elektrisch isolierendes Material umfasst, das zwischen einer Mehrzahl von elektrisch leitfähigen Strukturen angeordnet ist, auf eine Oberfläche eines Halbleiterwafers, der eine Mehrzahl von Halbleiterbauelementstrukturen umfasst, sodass sich eine elektrisch leitfähige Struktur aus der Mehrzahl von elektrisch leitfähigen Strukturen benachbart zu einer Halbleiterbauelementstruktur aus der Mehrzahl von Halbleiterbauelementstrukturen befindet. Jede elektrisch leitfähige Struktur aus der Mehrzahl von elektrisch leitfähigen Strukturen erstreckt sich von einer ersten Oberfläche der Laminarstruktur in Richtung einer zweiten gegenüberliegenden Oberfläche der Laminarstruktur.

    Thermoelektrische Vorrichtungen und Verfahren zum Bilden von thermoelektrischen Vorrichtungen

    公开(公告)号:DE102017125647A1

    公开(公告)日:2019-05-16

    申请号:DE102017125647

    申请日:2017-11-02

    Abstract: Eine thermoelektrische Vorrichtung weist mehrere erste Halbleitermesastrukturen mit einem ersten Leitfähigkeitstyp auf. Außerdem weist die thermoelektrische Vorrichtung mehrere zweite Halbleitermesastrukturen mit einem zweiten Leitfähigkeitstyp auf. Die ersten Halbleitermesastrukturen der mehreren ersten Halbleitermesastrukturen und die zweiten Halbleitermesastrukturen der mehreren zweiten Halbleitermesastrukturen sind elektrisch in Reihe verbunden. Die thermoelektrische Vorrichtung weist ferner eine Glasstruktur auf, die sich lateral zwischen den ersten Halbleitermesastrukturen der mehreren ersten Halbleitermesastrukturen und den zweiten Halbleitermesastrukturen der mehreren zweiten Halbleitermesastrukturen befindet. Die Glasstruktur isoliert die ersten Halbleitermesastrukturen der mehreren ersten Halbleitermesastrukturen lateral elektrisch von den zweiten Halbleitermesastrukturen der mehreren zweiten Halbleitermesastrukturen.

    Thermoelektrische Vorrichtungen und Verfahren zum Bilden von thermoelektrischen Vorrichtungen

    公开(公告)号:DE102017125647B4

    公开(公告)日:2020-12-24

    申请号:DE102017125647

    申请日:2017-11-02

    Abstract: Thermoelektrische Vorrichtung (100, 200, 400, 600, 700, 800), die Folgendes umfasst:mehrere erste Halbleitermesastrukturen (110) mit einem ersten Leitfähigkeitstyp;mehrere zweite Halbleitermesastrukturen (120) mit einem zweiten Leitfähigkeitstyp, wobei die ersten Halbleitermesastrukturen (110) der mehreren ersten Halbleitermesastrukturen (110) und die zweiten Halbleitermesastrukturen (120) der mehreren zweiten Halbleitermesastrukturen (120) elektrisch in Reihe verbunden sind, undeine Glasstruktur (130), die sich lateral zwischen den ersten Halbleitermesastrukturen (110) der mehreren ersten Halbleitermesastrukturen (110) und den zweiten Halbleitermesastrukturen (120) der mehreren zweiten Halbleitermesastrukturen (120) befindet, wobei die Glasstruktur (130) die ersten Halbleitermesastrukturen (110) der mehreren ersten Halbleitermesastrukturen (110) lateral elektrisch von den zweiten Halbleitermesastrukturen (120) der mehreren zweiten Halbleitermesastrukturen (120) isoliert, und wobei die Glasstruktur (130) ein Borsilicatglas, ein Bor-Zink-Glas und/oder ein Glas mit niedriger Glasübergangstemperatur umfasst.

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