SPANNUNGSKOMPENSATION FÜR WAFER-AN-WAFER-BONDEN

    公开(公告)号:DE102020107411A1

    公开(公告)日:2020-09-24

    申请号:DE102020107411

    申请日:2020-03-18

    Applicant: INTEL CORP

    Abstract: Ausführungsformen hierin beschreiben Techniken für gebondete Wafer, die einen ersten Wafer, der mit einem zweiten Wafer gebondet ist, und eine Spannungskompensationsschicht in Kontakt mit dem ersten Wafer oder dem zweiten Wafer beinhalten. Der erste Wafer weist ein erstes Spannungsniveau an einer ersten Stelle und ein zweites Spannungsniveau, das von dem ersten Spannungsniveau verschieden ist, an einer zweiten Stelle auf. Die Spannungskompensationsschicht beinhaltet ein erstes Material an einer ersten Stelle der Spannungskompensationsschicht, das ein drittes Spannungsniveau an der ersten Stelle des ersten Wafers beinhaltet, ein zweites Material, das von dem ersten Material verschieden ist, an einer zweiten Stelle der Spannungskompensationsschicht, das ein Spannungsniveau, das von dem dritten Spannungsniveau verschieden ist, an der zweiten Stelle des ersten Wafers induziert. Andere Ausführungsformen können beschrieben und/oder beansprucht werden.

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