STACKED SEMICONDUCTOR LASER DIODE
    4.
    发明申请
    STACKED SEMICONDUCTOR LASER DIODE 审中-公开
    关于每个堆叠半导体二极管

    公开(公告)号:WO0243204A3

    公开(公告)日:2003-10-16

    申请号:PCT/DE0104350

    申请日:2001-11-20

    CPC classification number: H01S5/4043 H01S5/3095 H01S5/3201 H01S5/4087

    Abstract: The invention relates to an assembly of stacked semiconductor laser diodes, arranged on a substrate (1). A first laser diode (12) is positioned on the substrate (1) and a second laser diode (13) is positioned on top of the first laser diode (12). A contact layer (6) is located between the first laser diode (12) and the second laser diode (13). The contact layer (6) comprises a first conductive layer (18) of a first conductivity type, a second conductive layer (20) of a second conductivity type and an intermediate layer (19), which is located between the first and the second conductive layers (18, 20).

    Abstract translation: 本发明涉及一种层叠的半导体二极管激光器,其被配置在基板(1)上的布置。 第一二极管激光器(12)的衬底(1)和第二二极管激光器(13)上布置在所述第一二极管(12)。 第一二极管(12)和第二二极管(13)之间设置的接触层(6)。 接触层(6)包括设置在第一和第二导电层之间的第一导电类型和第二导电类型的第二导电层(20)和中间层(19)的第一导电层(18)(18,20) ,

    OPTOELEKTRONISCHES HALBLEITERBAUELEMENT MIT ERSTER UND ZWEITER DIELEKTRISCHER SCHICHT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES OPTOELEKTRONISCHEN HALBLEITERBAUELEMENTS

    公开(公告)号:DE102019100624A1

    公开(公告)日:2020-07-16

    申请号:DE102019100624

    申请日:2019-01-11

    Abstract: Ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (10) umfasst einen Halbleiterkörper (109) mit einer ersten Hauptoberfläche (111), eine erste dielektrische Schicht (125) über der ersten Hauptoberfläche (111), und eine zweite dielektrische Schicht (130) auf der von der ersten Hauptoberfläche (111) abgewandten Seite der ersten dielektrischen Schicht (125). Die zweite dielektrische Schicht (130) ist zu einer geordneten photonischen Struktur strukturiert. Der Halbleiterkörper (109) ist geeignet, elektromagnetische Strahlung (20) über die erste Hauptoberfläche (111) zu emittieren oder aufzunehmen. Die erste Hauptoberfläche (111) ist aufgeraut, und die erste dielektrische Schicht (125) ist geeignet, eine Aufrauung (112) der ersten Hauptoberfläche (111) einzuebnen.

    Optoelektronischer Halbleiterchip

    公开(公告)号:DE102017103856A1

    公开(公告)日:2018-08-30

    申请号:DE102017103856

    申请日:2017-02-24

    Abstract: Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip (10) beschrieben, umfassend:- einen p-Typ-Halbleiterbereich (4),- einen n-Typ-Halbleiterbereich (9),- eine zwischen dem p-Typ-Halbleiterbereich (4) und dem n-Typ-Halbleiterbereich (9) angeordnete aktive Schicht (6), die als Mehrfach-Quantentopfstruktur (6A, 6B) ausgebildet ist und abwechselnde Quantentopfschichten (6A) und Barriereschichten (6B) aufweist, wobei die Quantentopfschichten (6A) zur Emission einer ersten Strahlung (21) in einem ersten Wellenlängenbereich geeignet sind, und- mindestens eine weitere Quantentopfschicht (7A), die außerhalb der Mehrfach-Quantentopfstruktur (6A, 6B) angeordnet ist und zur Emission einer zweiten Strahlung (22) in einem zweiten Wellenlängenbereich geeignet ist,wobei- der erste Wellenlängenbereich im für das menschliche Auge unsichtbaren infraroten Spektralbereich liegt, und- der zweite Wellenlängenbereich Wellenlängen umfasst, die zumindest zum Teil für das menschliche Auge sichtbar sind.

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