Abstract:
Leuchtdiodenmodul (10) mit einem mit einer Leiterplatte gestalteten, einstückigen Träger (4), Segmentierfurchen (11) an einer Trägerunterseite (42) des Trägers (4), und einer Mehrzahl von Montagebereichen (6), die durch die Segmentierfurchen (11) voneinander abgegrenzt sind, wobei die Montagebereiche (6) aufweisen: Mindestens eine im Träger (4) erzeugte thermische Durchkontaktierung (13), die von der Trägerunterseite (42) zu einer dieser gegenüberliegenden Trägeroberseite (41) reicht, eine Wärmeleitschicht (2) je an der Trägerunterseite (42) und an der Trägeroberseite (41), wobei die mindestens eine thermische Durchkontaktierung (13) in direktem Kontakt zu den Wärmeleitschichten (2) steht, mindestens ein optoelektronisches Halbleiterbauteil (7), das auf der WärmeIeitschicht (2) an der Trägeroberseite (41) angebracht ist, und mindestens zwei elektrische Leiterbahnen (8) an der Trägeroberseite (41), über die das mindestens eine Halbleiterbauteil (7) elektrisch kontaktiert ist, wobei mindestens eine der Leiterbahnen (8) nicht in direktem elektrischen Kontakt mit den Wärmeleitschichten (2) steht, so dass wenigstens zwei einander benachbarte Montagebereiche (6) über eine der Leiterbahnen (8) elektrisch in Serie geschaltet sind.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform umfasst die Flächenlichtquelle (1) einen oder mehrere optoelektronische Halbleiterchips (2) mit einer Strahlungshauptseite (20) zur Erzeugung einer Primärstrahlung (P). Ein Streukörper (3) ist entlang einer Hauptabstrahlrichtung (x) der Halbleiterchips (3) der Strahlungshauptseite (20) nachgeordnet. Der Streukörper (3) ist zu einer Streuung der Primärstrahlung (P) eingerichtet. Eine Hauptemissionsrichtung (y) des Streukörpers (3) ist schräg zur Hauptabstrahlrichtung (x) des Halbleiterchips (2) orientiert.
Abstract:
Es wird ein Verfahren für das Aufwachsen von Halbleiterschichten angegeben. Dabei wird in einem Schritt A ein Träger (1) bereitgestellt. In einem Schritt B wird zumindest ein Substrat (2) auf den Träger (1) aufgebracht. Ferner wird in einem Schritt C ein Aufwachsprozess ausgeführt, bei dem eine Halbleiterschichtenfolge (20) auf eine dem Träger (1) abgewandte Hauptseite des Substrats (2) aufgewachsen wird. Die fertig gewachsene Halbleiterschichtenfolge (20) emittiert im bestimmungsgemäßen Betrieb elektromagnetischer Strahlung. In einem weiteren Schritt D wird ein Temperaturmessprozess durchgeführt, bei dem ein Temperaturprofil (3) des Substrats (2), welches während des Aufwachsprozesses in dem Substrat (2) auftritt, bestimmt wird. Zusätzlich wird ein Schritt E ausgeführt, bei dem der Träger (1) und/oder das Substrat (2) vor oder während des Aufwachsprozesses gezielt bearbeitet werden. Dadurch wird die Temperatur in ausgesuchten Bereichen des Substrats (2) verändert und ein Emissionssprofil der fertig gewachsenen Halbleiterschichtenfolge (20) geglättet.
Abstract:
Eine erfindungsgemäße Teilleuchte (202, 204, 206, 208, 210) weist ein Substrat (102) auf, auf dem mindestens ein Halbleiterchip (104, 104a, 104b) zur Emission elektromagnetischer Strahlung angeordnet ist. Ein elastischer Wellenleiter (106) zur Durchmischung der elektromagnetischen Strahlung, ist dem mindestens einen Halbleiterchip (104, 104a, 104b) in Abstrahlrichtung nachgeordnet. Der elastische Wellenleiter (106) steht an mindestens einer seiner Seitenflächen (111) um insbesondere etwa 10µm bis etwa 100µm über das Substrat (102) über. Eine erfindungsgemäße Leuchte (302, 304, 306, 308, 310) weist mindestens zwei der oben genannten Teilleuchten (202, 204, 206, 208, 210) auf. Die elastischen Wellenleiter (106) benachbarter Teilleuchten (202, 204, 206, 208, 210) sind spaltlos aneinander gefügt. Die Erfindung betrifft darüber hinaus ein Verfahren zur Herstellung einer Teilleuchte (202, 204, 206, 208, 210) und ein Verfahren zur Herstellung einer Leuchte (302, 304, 306, 308, 310).