Abstract:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a luminescence diode chip having improved properties, with regard to a desired color space spectrum and having it, especially possible to realize a color space spectrum of satisfactorily increased uniformity. SOLUTION: The luminescence diode chip is configured with an aim such that it has a sequence of semiconductor layers 5 adapted to emitting primary electromagnetic radiation, and a converter layer 2 provided on at least one of major faces 11 of the sequence of semiconductor layer 5, the converter layer 2 having at least one light-emitting substance suitable for converting a portion of the primary radiation into secondary radiation having a wavelength region at least partially different from that of the primary radiation, wherein at least a portion of the secondary radiation and at least a portion of the unconverted primary radiation are superimposed to form a mixed color, having a resultant color coordinate and the converter layer 2 coordinates the relation of the resultant color coordinate to the observation angle. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
Abstract:
In einer Ausführungsform ist das Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterbauteilen (1) eingerichtet und umfasst die Schritte: – Bereitstellen eines Leiterrahmenverbunds (20) mit einer Vielzahl von Leiterrahmen (2) mit je mindestens zwei Leiterrahmenteilen (21, 22), – Umformen mindestens eines Teils des Leiterrahmenverbunds (20) mit einem Gehäusematerial für Gehäusekörper (4), – Unterbrechen des Leiterrahmenverbunds (20) zwischen zumindest eines Teils von Spalten (C) und/oder Zeilen (R), wobei die Leiterrahmen (2) matrixförmig angeordnet bleiben, – Bestücken der Leiterrahmen (2) mit mindestens einem optoelektronischen Halbleiterchip (3), – Testen mindestens eines Teils der mit den Halbleiterchips (3) bestückten und mit dem Gehäusematerial umformten Leiterrahmen (2) nach dem Schritt des Unterbrechens, und – Vereinzeln zu den Halbleiterbauteilen (1) nach dem Schritt des Umformens und nach dem Schritt des Testens.
Abstract:
The method involves generating a pulse-shaped electrical operating current for operating a radiation-emitting semiconductor component in such a manner that radiation flux of the component changes only within a predetermined radiation flux tolerance band over a pulse duration. The current is raised over the pulse duration. An electrical compensation current is generated and increased over the pulse duration. The compensation current is overlapped to a pulse-shaped electrical switching current for generating the operating current. Independent claims are included for the following: (1) a control device (2) a method for manufacturing a control device for operating a radiation-emitting semiconductor component.
Abstract:
Lumineszenzdiodenchip – mit einer Halbleiterschichtenfolge, die geeignet ist, eine elektromagnetische Primärstrahlung zu emittieren, und – mit einer Konverterschicht, die auf mindestens einer Hauptfläche der Halbleiterschichtenfolge aufgebracht ist und die mindestens einen Leuchtstoff aufweist, der geeignet ist, einen Teil der Primärstrahlung in eine Sekundärstrahlung zu konvertieren, die einen verglichen mit der Primärstrahlung zumindest teilweise unterschiedlichen Wellenlängenbereich aufweist, wobei – sich zumindest ein Teil der Sekundarstrahlung und zumindest ein Teil der unkonvertierten Primärstrahlung zu einer Mischstrahlung mit einem resultierenden Farbort überlagern, – die Konverterschicht gezielt zur Einstellung einer Abhängigkeit des resultierenden Farbortes von einem Betrachtungswinkel strukturiert ist, und – die Konverterschicht derart strukturiert ist, dass die Hauptfläche einen Streifen aufweist, der entlang dem Rand des Lumineszenzdiodenchips verläuft und der frei von der Konverterschicht ist oder in dem die Konverterschicht gegenüber ihren übrigen auf der Hauptfläche angeordneten Bereichen eine verringerte Dicke aufweist.
Abstract:
Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterbauteilen (1) mit den Schritten: – Bereitstellen eines Leiterrahmenverbunds (20) mit einer Vielzahl von in Zeilen (R) und Spalten (C) angeordneten Leiterrahmen (2), wobei die Leiterrahmen (2) je mindestens zwei entlang der Zeilen (R) aufeinanderfolgende Leiterrahmenteile (21, 22) umfassen und die Leiterrahmen (2) je für eines der Halbleiterbauteile (1) vorgesehen sind, – Umformen mindestens eines Teils des Leiterrahmenverbunds (20) mit einem Gehäusematerial für Gehäusekörper (4) der Halbleiterbauteile (1), – Unterbrechen des Leiterrahmenverbunds (20) entlang und zwischen zumindest eines Teils der Spalten (C) und/oder der Zeilen (R), wobei die Leiterrahmen (2) matrixförmig angeordnet bleiben, – Bestücken der Leiterrahmen (2) mit mindestens einem optoelektronischen Halbleiterchip (3), – Testen mindestens eines Teils der mit den Halbleiterchips (3) bestückten und mit dem Gehäusematerial umformten Leiterrahmen (2) nach dem Schritt des Unterbrechens, und – Vereinzeln zu den Halbleiterbauteilen (1) nach dem Schritt des Umformens und nach dem Schritt des Testens, wobei – der Leiterrahmenverbund (20) mindestens eine Randleiste (25) umfasst, die parallel zu den Zeilen (R) ausgerichtet ist, – wenigstens erste Leiterrahmenteile (21) in einer randständigen Zeile (R) an der Randleiste (25) von den ersten Leiterrahmenteilen (21) der benachbarten Zeile (R) in dem noch nicht unterbrochenen Leiterrahmenverbund (20) isoliert sind, – die ersten Leiterrahmenteile (21) in der randständigen Zeile (R) in dem noch nicht unterbrochenen ...
Abstract:
The converter layer (2) is made of YAG:Ce material and may radiate in the blue region at a wavelength of e.g. 464 nm. The cone angle (Theta) of the radiation may be increased by having a structured strip (22) around the outside edge of the converter strip. The width (23) of the strip is a tenth of the length of the edges of the strip. Each edge is 300 mu long. The structured strip may be formed by a stamping tool on the edge of a square semiconductor substrate (5).