PROCEDE DE FABRICATION D'UN CAPTEUR D'IMAGE A SURFACE COURBE.

    公开(公告)号:FR2989519A1

    公开(公告)日:2013-10-18

    申请号:FR1253425

    申请日:2012-04-13

    Abstract: L'invention concerne un procédé de fabrication d'un capteur d'image, comprenant les étapes suivantes : former des structures élémentaires d'un capteur d'image (48) sur la première face d'un substrat semiconducteur (30) ; reporter une poignée (52) sur ladite première face ; définir des tranchées dans la poignée (52), lesdites tranchées formant un motif dans la poignée ; et reporter, sur un support courbe en creux (60) le dispositif obtenu, du côté de la face libre de la poignée (52), ledit motif étant choisi en fonction de la forme de la surface du support (60).

    TRANSISTOR PMOS A MOBILITE DES PORTEURS AMELIOREE

    公开(公告)号:FR3020499A1

    公开(公告)日:2015-10-30

    申请号:FR1453723

    申请日:2014-04-25

    Abstract: Le circuit intégré comprend au sein d'un substrat (SB) contenant du silicium et orienté selon la face cristallographique (100), au moins une région active (ZA) limitée par une région isolante (RIS) et au moins un transistor PMOS (TR) situé dans et sur ladite région active. Le canal (CNL) du transistor PMOS est orienté longitudinalement selon une direction cristallographique de type , et le circuit intégré comprend en outre au moins un motif de base (MTB) en forme de T, électriquement inactif, situé au dessus d'au moins une zone (Z) de la région isolante (RIS) située au voisinage d'au moins une extrémité transversale (ET1) du canal, la branche horizontale (BH) du T étant sensiblement parallèle à la direction longitudinale du canal (DRL).

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