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公开(公告)号：CN101023342B
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：CN200580031601.8
申请日：2005-07-21
Applicant: 荷兰应用科学研究会(TNO)
Inventor： 米希尔·戴维·奈克尔克 , 彼得·克勒伊特
IPC: G01N23/22
CPC classification number: H01J37/244 , G01N23/2251 , H01J37/22 , H01J37/28 , H01J2237/1503 , H01J2237/2443 , H01J2237/2445 , H01J2237/2482
Abstract: 本发明涉及一种检查试样表面的方法。该方法包括以下步骤：朝向试样表面方向产生多束初级射线束；将所述多束初级射线束聚焦在试样表面上的各个位置；收集由初级射线束入射到试样表面而产生的多束带电粒子的次级射线束；将所收集的次级射线束的至少之一转换成光束；以及检测该光束。
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公开(公告)号：CN101438368A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200680047932.5
申请日：2006-12-06
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 拉塞尔·J·罗 , 乔纳森·G·英格兰 , 史蒂夫·E·克劳斯 , 艾立克·D·赫尔曼森
IPC: H01J3/14
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/09 , H01J37/15 , H01J37/18 , H01J37/302 , H01J37/3023 , H01J2237/0455 , H01J2237/0458 , H01J2237/1503 , H01J2237/182 , H01J2237/188 , H01J2237/30488 , H01J2237/31705 , H01L21/266
Abstract: 本发明揭示用于防止寄生的子波束影响离子植入的技术。在一个特定的示范性实施例中，所述技术可实现为一种用于防止寄生的子波束影响离子植入的设备。所述设备可包括经配置以来回地扫描点波束进而形成横跨预定宽度的离子波束的控制器。所述设备还可包括小孔机构，其在保持固定时允许点波束穿过。所述设备可进一步包括同步机构，其耦合到控制器和小孔机构，且经配置以致使小孔机构与经扫描的点波束同步地移动，从而允许经扫描的点波束穿过，但阻挡与点波束相关联的一个或一个以上寄生的子波束。
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公开(公告)号：CN1602430A
公开(公告)日：2005-03-30
申请号：CN02824638.1
申请日：2002-11-07
Applicant: 应用材料有限公司
IPC: G01R31/307 , G01N23/00
CPC classification number: H01J37/28 , H01J2237/024 , H01J2237/0635 , H01J2237/1503 , H01J2237/20228 , H01J2237/2817
Abstract: 本发明提供了一种克服现有系统的低分辨率和严格线性度要求的、高数据速率电子束点格栅阵列成像系统。该成像系统包括：电子束发生器，其同时辐照要成像的对象表面上互相分离的点阵列；以及检测器，其采集点与对象表面的相互作用发出的反向散射电子和/或二次电子，以形成对象表面上的辐照部分的图像。机械系统在平行于点阵列的轴线的方向移动对象，使得当衬底在扫描方向(y方向)在点阵列上移动时，该点跟踪在机械交叉扫描方向(x方向)不存在间隙的轨迹。诸如伺服机构或可运动反射镜的补偿器对运动工作台的机械不精确性进行补偿，从而提高成像精度。在其他实施例中，以衬底成不同角度设置的多个检测器采集电子以提供衬底表面的多个透视图像。
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公开(公告)号：CN100412560C
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN02824638.1
申请日：2002-11-07
Applicant: 应用材料有限公司
IPC: G01R31/307 , G01N23/00
CPC classification number: H01J37/28 , H01J2237/024 , H01J2237/0635 , H01J2237/1503 , H01J2237/20228 , H01J2237/2817
Abstract: 本发明提供了一种克服现有系统的低分辨率和严格线性度要求的、高数据速率电子束点格栅阵列成像系统。该成像系统包括：电子束发生器，其同时辐照要成像的对象表面上互相分离的点阵列；以及检测器，其采集点与对象表面的相互作用发出的反向散射电子和/或二次电子，以形成对象表面上的辐照部分的图像。机械系统在平行于点阵列的轴线的方向移动对象，使得当衬底在扫描方向(y方向)在点阵列上移动时，该点跟踪在机械交叉扫描方向(x方向)不存在间隙的轨迹。诸如伺服机构或可运动反射镜的补偿器对运动工作台的机械不精确性进行补偿，从而提高成像精度。在其他实施例中，以衬底成不同角度设置的多个检测器采集电子以提供衬底表面的多个透视图像。
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公开(公告)号：CN101023342A
公开(公告)日：2007-08-22
申请号：CN200580031601.8
申请日：2005-07-21
Applicant: 荷兰应用科学研究会(TNO)
Inventor： 米希尔·戴维·奈克尔克 , 彼得·克勒伊特
IPC: G01N23/225 , H01L21/66
CPC classification number: H01J37/244 , G01N23/2251 , H01J37/22 , H01J37/28 , H01J2237/1503 , H01J2237/2443 , H01J2237/2445 , H01J2237/2482
Abstract: 本发明涉及一种检查试样表面的方法。该方法包括以下步骤：朝向试样表面方向产生多束初级射线束；将所述多束初级射线束聚焦在试样表面上的各个位置；收集由初级射线束入射到试样表面而产生的多束带电粒子的次级射线束；将所收集的次级射线束的至少之一转换成光束；以及检测该光束。
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公开(公告)号：CN105957790A
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201610510558.3
申请日：2016-07-01
Applicant: 苏州至臻精密光学有限公司
Inventor： 施春燕
IPC: H01J37/317 , H01J37/08
CPC classification number: H01J37/3174 , H01J37/08 , H01J2237/1503 , H01J2237/31755
Abstract: 本发明涉及一种离子束刻蚀机。离子束刻蚀机包括真空工作腔室、工件安装平台、多轴运动系统、离子源，多轴运动系统包括多个依次连接的直线运动模组，相邻的直线运动模组之间相互垂直，直线运动模组包括直线导轨和直线运动元件，后级直线运动模组与前级直线运动元件相连并能在前级直线运动元件的带动下直线运动，离子源安装在末级直线运动元件上，离子源能够形成离子束并在多轴运动系统的带动下沿多个方向运动扫描刻蚀工件。将离子源安装在能够多方向运动的多轴运动系统上，离子束能够运动扫描对工件刻蚀，离子束刻蚀机能够采用较小口径的离子源完成对大尺寸的工件的刻蚀加工，有效降低了离子束刻蚀机对离子源口径的要求，从而降低了设备成本。
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公开(公告)号：CN101438368B
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN200680047932.5
申请日：2006-12-06
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 拉塞尔·J·罗 , 乔纳森·G·英格兰 , 史蒂夫·E·克劳斯 , 艾立克·D·赫尔曼森
IPC: H01J3/14
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/09 , H01J37/15 , H01J37/18 , H01J37/302 , H01J37/3023 , H01J2237/0455 , H01J2237/0458 , H01J2237/1503 , H01J2237/182 , H01J2237/188 , H01J2237/30488 , H01J2237/31705 , H01L21/266
Abstract: 本发明揭示用于防止寄生的子波束影响离子植入的技术。在一个特定的示范性实施例中，所述技术可实现为一种用于防止寄生的子波束影响离子植入的设备。所述设备可包括经配置以来回地扫描点波束进而形成横跨预定宽度的离子波束的控制器。所述设备还可包括小孔机构，其在保持固定时允许点波束穿过。所述设备可进一步包括同步机构，其耦合到控制器和小孔机构，且经配置以致使小孔机构与经扫描的点波束同步地移动，从而允许经扫描的点波束穿过，但阻挡与点波束相关联的一个或一个以上寄生的子波束。
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公开(公告)号：CN101346803B
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN200680049162.8
申请日：2006-12-06
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 拉塞尔·J·罗 , 乔纳森·G·英格兰 , 史蒂夫·E·克劳斯 , 艾立克·D·赫尔曼森
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/09 , H01J37/15 , H01J37/18 , H01J37/302 , H01J37/3023 , H01J2237/0455 , H01J2237/0458 , H01J2237/1503 , H01J2237/182 , H01J2237/188 , H01J2237/30488 , H01J2237/31705 , H01L21/266
Abstract: 本发明揭示用于减少光致抗蚀剂释气效应的技术。在一个特定示范性实施例中，所述技术可实行为一种用于在离子注入机中减少光致抗蚀剂释气效应的设备。所述设备可包括位于终端站与上游束线组件之间的漂移管。所述设备还可包括位于漂移管与终端站之间的第一可变孔径。所述设备可进一步包括位于漂移管与上游束线组件之间的第二可变孔径。可调节第一可变孔径和第二可变孔径以促进差动抽吸。
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公开(公告)号：CN100573801C
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200580029412.7
申请日：2005-09-01
Applicant: 电子线技术院株式会社
IPC: H01J37/04
CPC classification number: H01J37/04 , G11B7/261 , H01J2237/0245 , H01J2237/04924 , H01J2237/1205 , H01J2237/1503 , H01J2237/2817 , H01J2237/3175
Abstract: 本发明提供了一种用于电子柱的运动设备，该运动设备提供了发射电子束的电子柱与其上照射电子束的样本之间的相对运动。该运动设备包括：用于将电子束发射到样本上的多微柱；用于支撑该多微柱的支架；以及用于驱动该支架以移动该多微柱的驱动装置。
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公开(公告)号：CN101346803A
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200680049162.8
申请日：2006-12-06
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor： 拉塞尔·J·罗 , 乔纳森·G·英格兰 , 史蒂夫·E·克劳斯 , 艾立克·D·赫尔曼森
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/09 , H01J37/15 , H01J37/18 , H01J37/302 , H01J37/3023 , H01J2237/0455 , H01J2237/0458 , H01J2237/1503 , H01J2237/182 , H01J2237/188 , H01J2237/30488 , H01J2237/31705 , H01L21/266
Abstract: 本发明揭示用于减少光致抗蚀剂释气效应的技术。在一个特定示范性实施例中，所述技术可实行为一种用于在离子注入机中减少光致抗蚀剂释气效应的设备。所述设备可包括位于终端站与上游束线组件之间的漂移管。所述设备还可包括位于漂移管与终端站之间的第一可变孔径。所述设备可进一步包括位于漂移管与上游束线组件之间的第二可变孔径。可调节第一可变孔径和第二可变孔径以促进差动抽吸。
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