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公开(公告)号：CN117377910A
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202280033807.8
申请日：2022-07-01
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明的空间光调变单元(1)是用于一面使感光基板(10)沿着扫描方向(S)移动、一面于感光基板(10)将曝光图案进行曝光的曝光装置。空间光调变单元(1)具备：空间光调变器(11)，具有多个组件；控制器(12)，根据曝光图案控制多个组件；及SLM基板(13)，搭载空间光调变器(11)及控制器(12)。并且，控制器(12)相对于空间光调变器(11)而沿着扫描方向(S)排列配置。
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公开(公告)号：CN116974156A
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN202311024301.3
申请日：2016-09-27
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明是一种图案描绘装置(EX)，其是一面将来自光源(LS)的射束(LB)根据图案信息进行强度调变，一面将射束(LB)投射至基板(P)上而于主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上形成图案者，且具备：扫描装置(14)，其是为了使射束(LB)于主扫描方向上扫描，而将包含使来自光源(LS)的射束(LB)偏向的偏向构件(PM)的多个扫描单元(Un)，以投射至基板(P)上的射束(LB)的扫描轨迹相互错开的方式配置；及电光偏向装置(BDU)，其是为了将来自光源(LS)的射束(LB)分时供给至多个扫描单元(Un)的各者，而将来自光源(LS)的射束(LB)切换为偏向状态或非偏向状态，并且为了使射束(LB)的扫描轨迹于与主扫描方向交叉的副扫描方向移位，而可调整射束(LB)的偏向角。
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公开(公告)号：CN111781806B
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN202010741934.6
申请日：2016-10-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , G03F7/24 , G03F9/00 , H01L21/027 , H01L21/67
Abstract: 曝光装置EX，一边将长条的基板P搬送于长边方向，一边于基板P上形成既定图案，其具备：圆筒卷筒DR，支承基板P；作为第1支承构件的本体框架21及第1光学平台23轴支圆筒卷筒DR；描绘装置11，隔着基板P与旋转卷筒DR对向配置，于基板P上形成图案；作为第2支承构件的第2光学平台25保持描绘装置11；旋转机构24，将第1光学平台23与第2光学平台25能旋转地连结；标尺部GPa,GPb，用以测量圆筒卷筒DR的位置变化；以及编码器读头EN1,EN2，检测标尺部GPa,GPb的刻度。
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公开(公告)号：CN111638631B
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN202010522658.4
申请日：2016-03-18
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , G03F7/24 , H01L21/027 , G02B26/12
Abstract: 本发明的光束扫描装置，是一边将光束的点光投射于对象物的被照射面、一边进行该点光于该被照射面上沿扫描线的一维扫描，其具备：射入光束的入射光学构件、将来自入射光学构件的光束为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件、射入经偏向的光束后投射于被照射面的投射光学系、以及支承入射光学构件、扫描用偏向构件及投射光学系、可绕与照射中心轴在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴旋转的支承架，该照射中心轴系相对该被照射面垂直通过以该点光的扫描在该被照射面上形成的扫描线的中点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114229474A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202210005576.1
申请日：2017-08-07
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65G49/06 , B65H20/02 , B65H23/188 , B65H26/00 , G03F7/20 , G03F7/24 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。
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公开(公告)号：CN109791280B
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN201780061771.3
申请日：2017-09-04
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 描绘单元(Un)具备使经角度可变的多面镜(PM)的反射面(RP)偏向的加工用光束(LBn)入射，并使加工用光束(LBn)于基板(P)聚光为点光(SP)的fθ透镜系统(FT)，且根据多面镜(PM)的反射面(RP)的角度变化而使点光(SP)进行扫描。描绘单元(Un)具备：光束送光部(60a)，其将用以检测多面镜(PM)的反射面(RP)成为既定角度的原点的光束(Bga)投射至多面镜(PM)的反射面(RP)；反射镜(MRa)，其使于反射面(RP)反射的光束(Bgb)入射，并反射向反射面(RP)；及检测部(60b)，其基于在反射面(RP)再次反射的光束(Bgd)输出原点信号(SZn)。
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公开(公告)号：CN110095862B
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN201910225249.5
申请日：2015-04-27
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 加藤正纪
Abstract: 一种图案描绘装置，通过激光的扫描点在被照射体上描绘出规定的图案，具备：光源装置(14)，其射出上述激光；多个描绘单元(U1～U6)，其用于入射上述激光来生成上述扫描点，包含用上述激光进行扫描的光扫描部件和光学透镜系统，并设置成使上述扫描点在上述被照射体上的不同区域进行扫描；和多个选择用光学元件(50、58、66)，其为了对是否使来自上述光源装置的上述激光向上述多个描绘单元中的被选择的上述描绘单元入射进行切换，而沿着来自上述光源装置的上述激光的行进方向直列地配置。
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公开(公告)号：CN109844645B
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201780061760.5
申请日：2017-09-14
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明提供一种图案描绘装置(EX)，其包括：光束切换部，具有多个选择用光学构件(OSn)，为了使光源装置(LS)射出的光束选择性地供给至多个描绘单元(Un)的其中之一，所述光学构件被设置成能依照顺序的引导光源装置(LS)射出的光束通过，且藉由电气控制使光束射向描绘单元(Un)；以及控制部(250)，在调整自多个描绘单元(Un)中特定的描绘单元(Un)投射向基板(P)的光束的强度时，在对应于特定的描绘单元(Un)的光束强度调整部的可调整范围内调整投射向基板(P)的光束的强度，并以使自特定的描绘单元(Un)以外的其他各个描绘单元(Un)投射向基板(P)的光束的强度，与自特定的描绘单元(Un)投射向基板(P)的光束的强度一致的方式，控制对应于其他各个描绘单元(Un)的前述光束强度调整部。
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公开(公告)号：CN109154784B
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201780030933.7
申请日：2017-04-17
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明是将具有可挠性的长条片状基板(P)的一部分沿圆筒状的外周面的圆周方向卷绕而加以支承的转筒(DR)，包括：圆筒体(50)，其具有距中心轴(AXo)为固定半径的圆筒状外周面；光电感测器(PDi)，其输出与朝向圆筒体(50)的外周面投射并射入至形成于圆筒体(50)的外周面的一部分的开口部(50n)的光束(LBn)的强度对应的信号；及感测器电路基板(60)，其输入来自光电感测器(PDi)的信号，以进行用以测量光束(LBn)的强度变化或光束位置的信号处理。
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