等离子体处理装置及方法

    公开(公告)号:CN102782817B

    公开(公告)日:2015-04-22

    申请号:CN201180012319.0

    申请日:2011-05-11

    Abstract: 在基材载置台(1)的基材载置面(1a)上载置有基材(2)。感应耦合型等离子体喷枪单元(3)包括:筒状腔室(7),其包括设有长方形的狭缝状的等离子体喷出口(4)且由绝缘体材料构成的圆筒(5)、及闭塞圆筒(5)的两端的盖(6);气体喷出口(8),其向筒状腔室(7)内供给气体;螺线管(9),其使筒状腔室(7)内产生高频电磁场。通过从高频电源(41)向螺线管(9)供给高频电力,由此使筒状腔室(7)内产生等离子体(P)并将其从等离子体喷出口(4)向基材(2)照射。能够使等离子体喷枪单元(3)和基材载置台(1)相对地移动并同时对基材表面进行热处理。

    等离子加工方法和装置
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1519392A

    公开(公告)日:2004-08-11

    申请号:CN200410001299.9

    申请日:2004-01-06

    CPC classification number: H05H1/48

    Abstract: 一种用于通过将电功率提供给设置在等离子源或待加工物体处的电极以产生直线等离子,同时将气体提供给设置在待加工物体附近的等离子源,并通过使等离子产生的活化粒子作用在待加工物体上,由此加工待加工物体的直线部分的等离子加工方法,所述方法包括步骤:当X-轴在待加工物体直线部分的直线方向时,检测等离子源在X-轴方向的倾斜度;并通过沿X-轴方向移动等离子源,同时保持等离子源和待加工物体的相对位置,以便检测的等离子源的倾斜度变得近似为零,由此通过产生的直线等离子加工待加工物体的直线部分。

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