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公开(公告)号：CN1577550A
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN200410059873.6
申请日：2004-06-24
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G02B5/0858 , B60R1/08 , G02B5/08 , Y10S359/90
Abstract: 本发明提供反射器用Ag合金反射膜及反射器。(1)是以具有在含有Bi的Ag合金薄膜的表面和/或该Ag合金薄膜上的与其他层的界面上形成了Bi层和/或Bi氧化物层的构造为特征的反射器用Ag合金反射膜，(2)在所述Ag合金反射膜中Bi层和/或Bi氧化物层的厚度在2.0nm以下的Ag合金反射膜，(3)在所述Ag合金反射膜中Ag合金薄膜含有0.01～3.0原子％的Bi的Ag合金反射膜，(4)在基体上形成有所述Ag合金反射膜的反射器等。该Ag合金反射膜反射率高，而且耐候性及耐热性优良。
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公开(公告)号：CN1483852A
公开(公告)日：2004-03-24
申请号：CN03127461.7
申请日：2003-08-07
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C22C5/06 , C22C1/002 , C22C5/08 , C23C14/024 , C23C14/185 , C23C14/205 , C23C14/3414 , C23C14/584 , G02B5/0808 , G11B7/252 , G11B7/2531 , G11B7/257 , G11B7/258 , G11B7/259 , G11B7/266 , Y10T428/10 , Y10T428/1059 , Y10T428/1095 , Y10T428/12 , Y10T428/12431 , Y10T428/12896 , Y10T428/12924 , Y10T428/21 , Y10T428/265 , Y10T428/31678
Abstract: 本发明涉及Ag合金膜，尤其适合用于光信息记录介质领域中具有高导热系数、高反射率、高耐久性的光信息记录介质用反射膜和半透过反射膜、耐Ag凝集性优异的电磁波屏蔽用膜、反射型液晶显示元件等背面光反射膜。本发明Ag合金膜是由Bi和/或Sb合计含有0.005～10％(指原子％)的Ag合金膜构成。本发明进而涉及用于这种Ag合金膜的成膜的溅射靶。
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公开(公告)号：CN1823179B
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：CN200480020394.1
申请日：2004-07-14
CPC classification number: C22C5/06 , C22F1/14 , C23C14/3414
Abstract: 一种Ag系溅射靶(6)，在和溅射面平行的面上切断该溅射靶而使多个溅射面露出，在每个露出的溅射面上选择多个位置，通过下式基于全部的选择位置的结晶粒径而算出值A1以及值B1，当这些值A1以及值B1中的大的值被称为结晶粒径的3维偏差时，该结晶粒径的3维偏差为18％以下。A1＝(Dmax-Dave)/Dave×100(％)，B1＝(Dave-Dmin)/Dave×100(％)，Dmax：全部选择位置的结晶粒径D的最大值，Dmin：全部选择位置的结晶粒径D的最小值，Dave：全部选择位置的结晶粒径D的平均值。
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公开(公告)号：CN101691657A
公开(公告)日：2010-04-07
申请号：CN200910132939.2
申请日：2009-03-31
CPC classification number: C23C14/3414 , C22C21/00 , C22F1/04
Abstract: 本发明提供一种能减少溅射靶在使用初始阶段产生的飞溅，由此防止配线膜等中产生的缺陷，提高FPD的成品率和动作性能的Al-(Ni，Co)-(Cu，Ge)-(La，Gd，Nd)系合金溅射靶及其制造方法。本发明涉及构成分别含有选自A组(Ni，Co)中的至少一种、选自B组(Cu，Ge)中的至少一种和选自C组(La，Gd，Nd)中的至少一种的Al-(Ni，Co)-(Cu，Ge)-(La，Gd，Nd)系合金溅射靶，并且其维氏硬度(HV)为35以上的Al-基合金溅射靶。
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公开(公告)号：CN100575542C
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200710192798.4
申请日：2007-11-20
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F3/115 , B22F3/15 , B22F3/17 , B22F3/18 , B22F9/082 , B22F2998/10 , C22C21/00 , C23C4/08 , C23C4/123 , H01J37/3426 , H01J37/3429
Abstract: 本发明涉及一种含有Ni和La的Al-Ni-La体系Al-基合金溅射靶，其中，当通过扫描电子显微镜在2000倍的放大倍数观察垂直于溅射靶平面的横截面中从(1/4)t至(3/4)t(t：厚度)的截面时，(1)按面积分数计，平均粒径为0.3μm至3μm的Al-Ni体系金属间化合物的总面积相对于全部Al-Ni体系金属间化合物的总面积为70%以上，所述Al-Ni体系金属间化合物主要由Al和Ni组成；和(2)按面积分数计，平均粒径为0.2μm至2μm的Al-La体系金属间化合物的总面积相对于全部Al-La体系金属间化合物的总面积为70%以上，所述Al-La体系金属间化合物主要由Al和La组成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100416681C
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200510079173.8
申请日：2005-06-28
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C22C5/06 , C23C14/205 , C23C14/3414 , G11B7/24038 , G11B7/258 , G11B7/259 , G11B7/266 , Y10T428/21
Abstract: 用于光学信息记录介质的各种半反射膜或者反射膜以及一种Ag基合金溅射靶包含Li含量为0.01-10原子百分比的Ag基合金。该Ag基合金显示出高抗粘结性、高耐光性、高耐热性、高反射率、高透射率、低吸收率和高热导率，这些性能是用纯Ag或者常规的Ag合金不能获得的。所得到的包含Ag基合金的用于光学信息记录介质的半反射膜和反射膜显示出优异的录写/读取性能和长期可靠性。半反射膜和反射膜沉积中使用光学信息记录介质用溅射靶。使用该半反射膜和/或反射膜制造光学信息记录介质。
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公开(公告)号：CN100412661C
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200610091236.6
申请日：2006-06-07
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: G02F1/1343 , G02F1/133 , G09F9/00
Abstract: 一种显示装置，其中互连—包含Cu合金膜和透明导电膜的电极不经由难熔金属薄膜而直接连接，其中所述Cu合金膜含有总量为0.1原子%～3.0原子%的Zn和/或Mg或总量为0.1原子%～0.5原子%的Ni和/或Mn，从而不使用势垒金属，能够在Cu合金膜与透明电极之间低电阻率地直接连接，并且在例如应用到液晶显示器的情况中给出高的显示质量。
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公开(公告)号：CN1292424C
公开(公告)日：2006-12-27
申请号：CN200410059873.6
申请日：2004-06-24
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G02B5/0858 , B60R1/08 , G02B5/08 , Y10S359/90
Abstract: 本发明提供反射器用Ag合金反射膜及反射器。(1)是以具有在含有Bi的Ag合金薄膜的表面和/或该Ag合金薄膜上的与其他层的界面上形成了Bi层和/或Bi氧化物层的构造为特征的反射器用Ag合金反射膜，(2)在所述Ag合金反射膜中Bi层和/或Bi氧化物层的厚度在2.0nm以下的Ag合金反射膜，(3)在所述Ag合金反射膜中Ag合金薄膜含有0.01～3.0原子%的Bi的Ag合金反射膜，(4)在基体上形成有所述Ag合金反射膜的反射器等。该Ag合金反射膜反射率高，而且耐候性及耐热性优良。
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公开(公告)号：CN1769985A
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN200510118731.7
申请日：2005-10-27
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: G02F1/1343 , C22C9/00
CPC classification number: H01L23/53233 , C23C14/185 , G02F2001/136295 , H01J29/02 , H01J2211/225 , H01L27/124 , H01L2924/0002 , Y10T428/31678 , H01L2924/00
Abstract: 一种铜合金薄膜，含有Fe和P以及余量基本上是Cu，其中Fe和P的含量满足所有下列条件(1)～(3)，并且，其中，在200～500℃下热处理1～120分钟之后，Fe2P析出在Cu的晶界上：1.4NFe+8NP＜1.3(1)；NFe+48NP＞1.0 (2)；12NFe+NP＞0.5(3)；其中，NFe表示Fe的含量(原子百分比)；NP表示P的含量(原子百分比)。
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公开(公告)号：CN1612243A
公开(公告)日：2005-05-04
申请号：CN200410090068.X
申请日：2004-11-01
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: G11B7/258 , C23C14/14 , C23C14/3414 , G11B7/2585
Abstract: 本发明提供(1)光信息记录用铝合金反射膜，以Al为主成分，含有1.0～10.0原子数量％的稀土类元素中的至少1种，此外，含有0.5～5.0原子数量％的Cr、Ta、Ti、Mo、V、W、Zr、Hf、Nb、Ni中的至少1种，(2)在上述铝合金反射膜中，含有1.0～5.0原子数量％的Fe、Co中的至少1种，或含有1.0～10.0原子数量％的In、Zn、Ge、Cu、Li中的至少1种，(3)光信息记录介质，具有上述铝合金反射膜，(4)所述铝合金构成的溅射靶材。根据本发明可以实现具有低导热率、低熔化温度、高耐腐蚀性的与激光制标对应的光信息记录用铝合金反射膜及其形成用溅射靶材、光信息记录介质。
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