制作用于制造光盘的母盘的方法和制造光盘的方法

    公开(公告)号:CN100440349C

    公开(公告)日:2008-12-03

    申请号:CN200380100300.7

    申请日:2003-11-20

    CPC classification number: G11B7/261 G11B7/1267

    Abstract: 一种制作用于制造光盘的压模的方法包括:曝光步骤,用以与光盘上/中形成的信息凹出/凸入图案的信息信号对应的信息信号调制的记录激光束照射衬底(100)上形成的有机抗蚀层(101),以形成与光盘上的信息凹出/凸入图案对应的曝光图案,和显影步骤,显影有机抗蚀层以形成与该有机抗蚀层的凹出/凸入图案对应的凹凸图案。在曝光步骤中,将估计激光束施加到该有机抗蚀层上预定区域,利用该估计激光束的反射光来估计该有机抗蚀层的曝光图案的记录信号特性,并根据估计结果来控制该记录激光束的功率。从而将信息可靠地记录在目标光盘上。

    存储元件及使用该存储元件的储存装置

    公开(公告)号:CN101145600A

    公开(公告)日:2008-03-19

    申请号:CN200710163092.5

    申请日:2004-03-18

    Abstract: 公开了一种存储元件,其可以容易地进行信息的记录和读出并且能够以相对简单的制造方法容易地进行制造,以及一种使用该存储元件的储存装置。存储元件(10)包括第一电极(2)、第二电极(5)和位于所述第一和第二电极(2,5)之间的非结晶薄膜(4)。至少电极(5)包含银或铜,且非结晶薄膜(4)由锗和从硫、硒、碲和锑中选择的至少一种元素组成。一种储存装置包括许多此类存储元件(10)和连接到各存储元件(10)的第一和第二电极(2,5)的布线。

    存储器和半导体设备
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1790540A

    公开(公告)日:2006-06-21

    申请号:CN200510120135.2

    申请日:2005-11-04

    Abstract: 一种存储器包括:以矩阵形式排列的存储元件,每个存储元件具有下述特性,当将电平等于或者高于第一阈值信号的电平的电信号施加给存储元件时,其电阻从高值变为低值,以及当将电平等于或者高于第二阈值信号的电平的电信号施加给存储元件时,其电阻从低值变为高值,所述第一和第二阈值信号的极性彼此不同;电路,用于施加电信号给存储元件;以及检测单元,每个用于测量从开始施加电信号时起流过对应存储元件的电流或者施加给对应存储元件的电压,以便检测电阻是高还是低。

    存储器设备
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1722302A

    公开(公告)日:2006-01-18

    申请号:CN200510069790.X

    申请日:2005-01-20

    Abstract: 本发明提供一种在高速条件下能记录多值数据和利用具有相对简单配置的驱动电路进行多值数据记录的存储器设备。存储器设备由包括根据电阻值状态保存信息的存储器元件和作为负载串联连接到存储器元件上的MIS晶体管的存储器单元构成;当分别把存储器单元由高阻值状态到低阻值状态的操作定义为写入和把存储器单元由低阻值状态改变到高阻值状态的操作定义为擦除时,通过控制在写入时施加到MIS晶体管上的栅极电压VG1、VG2和VG3等等,把写入之后的存储器元件的电阻值设置为多个不同的级别,以致分别把不同信息分配到多个级别的每一个中,并且在擦除之后分配到高阻值状态来分别存储三个值或更多值信息到每个存储器单元的存储器元件中。

    存储元件及使用该存储元件的储存装置

    公开(公告)号:CN1698203A

    公开(公告)日:2005-11-16

    申请号:CN200480000388.X

    申请日:2004-03-18

    Abstract: 公开了一种存储元件,其可以容易地进行信息的记录和读出并且能够以相对简单的制造方法容易地进行制造,以及一种使用该存储元件的储存装置。存储元件(10)包括第一电极(2)、第二电极(5)和位于所述第一和第二电极(2,5)之间的非结晶薄膜(4)。至少电极(5)包含银或铜,且非结晶薄膜(4)由锗和从硫、硒、碲和锑中选择的至少一种元素组成。一种储存装置包括许多此类存储元件(10)和连接到各存储元件(10)的第一和第二电极(2,5)的布线。

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