制造GaN基膜的方法
    24.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102959677B

    公开(公告)日:2015-04-22

    申请号:CN201180030507.6

    申请日:2011-11-10

    CPC classification number: H01L33/007 H01L21/76256 H01L33/0079

    Abstract: 本发明提供一种制造GaN基膜的方法,所述方法包括:准备复合衬底(10)的步骤,所述复合衬底包含支持衬底(11)和布置在所述支持衬底(11)的主表面(11m)侧的单晶膜(13),在所述支持衬底(11)中在主表面(11m)中的热膨胀系数大于GaN晶体在a轴方向上的热膨胀系数的0.8倍且小于其1.2倍,所述单晶膜(13)相对于垂直于所述单晶膜(13)的主表面(13m)的轴呈三重对称;和在所述复合衬底(10)中的所述单晶膜(13)的所述主表面(13m)上形成GaN基膜(20)的步骤。由此,提供了一种制造GaN基膜的方法,所述方法能够制造具有大的主表面积和较小翘曲的GaN基膜。

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