高频发射装置的控制方法
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101296535A

    公开(公告)日:2008-10-29

    申请号:CN200810095713.5

    申请日:2008-04-24

    CPC classification number: H03H7/40 H05B6/686 H05B6/705 Y02B40/146

    Abstract: 提供一种不会破坏高频发射装置而使固体振荡器稳定地工作、同时提高加热效率和可靠性的高频发射装置的控制方法。此控制方法包括:步骤(a),从固体振荡器通过天线发射高频;步骤(b),检测从天线返回固体振荡器的高频;步骤(c),根据在步骤(b)的检测结果调节从固体振荡器向天线传播的高频的发射/传播条件;和步骤(d),在步骤(c)之后,从固体振荡器通过天线对对象物发射高频。在步骤(c)中,进行固体振荡器的振荡频率的变更、固体振荡器中高频输出的变更、向固体振荡器提供的电源电压的变更及固体振荡器的输出阻抗和天线的阻抗的阻抗匹配的变更等。

    电容式麦克风
    28.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101048016A

    公开(公告)日:2007-10-03

    申请号:CN200710005408.8

    申请日:2007-02-08

    CPC classification number: H04R19/016 H01G7/021

    Abstract: 本发明在于,提供一种制造率优良、小型高感度的驻极体电容式麦克风(驻极体电容式麦克风)。其构成为上部电极23和下部电极13在中空部16相向的空气隙电容构造,电极间形成有作为电荷保持材料的驻极体膜20。驻极体电容式麦克风10,和半导体衬底11一体形成,驻极体膜20,由全氟代非晶质氟素聚合体树脂构成。由这样的材料构成的驻极体膜20,由于能够在衬底11上通过旋转涂布法形成,因此容易薄膜化,而且,能够以在半导体制造工艺所使用的氟系气体容易地进行蚀刻法,因此,能够进行细微加工,缩小电容器面积。

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