公开(公告)号：CN102812073A

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：CN201180015223.X

申请日：2011-03-23

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 佐藤崇 ,  野上光秀 ,  中野良宪 ,  川崎真一

IPC: C08J7/00

CPC classification number: B29C59/14

Abstract: 本发明提供膜表面处理装置，在使含有反应成分的反应气体活化而对被处理膜进行表面处理时能够使反应成分充分反应，并防止在电极上附着污垢。在主处理部(10)的第一辊电极(11)及第二辊电极(12)上卷挂被处理膜(9)。通过辊电极(11、12)的旋转使被处理膜(9)从电极(11)向电极(12)输送。从喷嘴(23)向比电极(11、12)间的主放电空间(19)靠输送方向的上游侧的位置或放电空间(19)内的膜(19)上喷出反应气体。在比主处理部(10)靠输送方向的下游的位置设置再活化部(30)。优选，使再活化部(30)的后段电极(31)与第二辊电极(12)对置，将第二辊电极(12)兼用作再活化部(30)的另一方的后段电极。从气体供给部(33)向电极(31、12)之间供给不含有反应成分的放电生成气体。

公开(公告)号：CN102459353A

公开(公告)日：2012-05-16

申请号：CN201080028415.X

申请日：2010-06-25

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 中野良宪 ,  屋良卓也 ,  野上光秀 ,  川崎真一 ,  松崎纯一 ,  长谷川平

IPC: C08F2/00 ,  C08J7/18 ,  G02B1/12 ,  G02B5/30

CPC classification number: C08J7/18 ,  G02B5/3033

Abstract: 本发明提供一种膜表面处理方法及装置以及偏振片的制造方法。可靠地提高难胶粘性树脂膜的胶粘性。将应与易胶粘性树脂膜(12)胶粘的难胶粘性树脂膜(11)配置于大气压附近的处理空间(22)。将含有丙烯酸等第1聚合性单体蒸气的气体通过第1供给路(36)，引导至难胶粘性树脂膜(11)的附近。将含有HEMA等第2聚合性单体蒸气的气体不与上述第1聚合性单体混合地通过第2供给路(46)，引导至难胶粘性树脂膜(11)的附近。通过大气压附近的等离子使上述第1及第2聚合性单体活化，与难胶粘性树脂膜11反应。

公开(公告)号：CN101258784A

公开(公告)日：2008-09-03

申请号：CN200680032713.X

申请日：2006-09-15

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 中岛节男 ,  武内稔公 ,  松崎纯一 ,  真弓聪 ,  西川理 ,  斋藤直道 ,  中野良宪 ,  福士麻琴 ,  古野喜彦

IPC: H05H1/24 ,  C23C16/50

CPC classification number: H01J37/32623 ,  H01J2237/0206 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2412

Abstract: 为了提供能够容纳待加工物品的面积的增加、并且能够在开始正常等离子放电时确保适当的加工的大气压等离子加工设备。在一种大气压等离子加工设备中，台(20)的第一台部分(21)的第一金属表面(21a)被暴露，并且由电介质材料组成的待加工物品(W)放置在第一金属表面21a上。固体介电层(25)设置在第二台部分(22)的第二金属(24)上。物品W的周边部分放置在固体介电层(25)的内部介电部分(26)上。电极(11)在第二台部分(22)的上方的第二移动范围(R2)内产生助走放电(D2)。然后，电极(11)移动到第一台部分(21)的上方的第一移动范围(R1)并产生正常等离子放电(D1)。

公开(公告)号：CN1811012A

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：CN200610005949.6

申请日：2003-10-07

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 川崎真一 ,  中武纯夫 ,  北畠裕也 ,  山嶋节男 ,  江口勇司 ,  安西纯一郎 ,  中野良宪

IPC: C23C16/513 ,  H01L21/205

Abstract: 一种包含加工头3的等离子体表面加工设备。加工头3包括其上设置有第一种流道50a的电场施加电极51和其上设置有第二种流道50b的接地电极52，通过在电极51、52之间施加电场产生等离子体放电。加工头3的下表面与基材W平行相对。在加工头3的下表面中，设置有与所述第一种流道50a连通的第一种喷气口25a和与所述第二种流道50b连通的第二种喷气口25b。喷气口25a、25b在将基材W相对于加工头3转移的方向上彼此分离。第一种气体通过第一种流道50a并通过第一种喷气口25a喷出。第二种气体通过第二种流道50b时被激发并通过第二种喷气口25b喷出。第一种气体与激发的第二种气体接触使得第一种气体被激发并与基材W接触，从而加工基材W。