公开(公告)号：CN1327298C

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN03823110.7

申请日：2003-09-26

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： A·J·M·内里斯森

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F1/00 ,  G03F7/201 ,  G03F7/703 ,  G03F7/7035 ,  Y10T428/24802

Abstract: 在用于对衬底的端侧面或内侧面进行布线的光刻接近式方法中，利用掩模(70)来对限定了布线图案的条(76)进行所需的曝光，该掩模(70)包括衍射结构(74)以便将曝光射线(b)反射至侧面。使用垂直入射于掩模上的曝光光束以便提高贴近间隙宽度变动的公差。这种方法容许制造准确、精细的布线。

公开(公告)号：CN1828425A

公开(公告)日：2006-09-06

申请号：CN200610006772.1

申请日：2004-02-03

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 远藤政孝 ,  笹子胜

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392

Abstract: 一种图案形成方法，首先形成碱溶性聚合物中由保护基保护起来的聚合物比例在50％以上的化学增幅型抗蚀材料构成的抗蚀膜(11)。然后对抗蚀膜(11)照射NA为0.92的KrF准分子激光(12)(含有对于抗蚀膜(11)以布鲁斯特角入射的光成分的曝光光)，进行图案曝光之后，利用碱性显影液显影，从而形成抗蚀图14。根据本发明，尽管使用含有对抗蚀膜以布鲁斯特角入射的光成分的曝光光形成图案，也可得到表面形状良好抗蚀图。

公开(公告)号：CN108369371A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201680072839.3

申请日：2016-10-13

Applicant: 麦克罗托知识产权私人有限公司

Inventor： 亨利·克劳迪乌斯·比林斯基

IPC: G03F7/00 ,  B05D5/00 ,  C09D133/00 ,  C09D175/04 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26 ,  G03F1/00

CPC classification number: G03F7/038 ,  B64G1/22 ,  C09D133/00 ,  G03F7/201 ,  G03F7/24

Abstract: 在一个方面中，公开了提供了一种在飞机、船、汽车或其它交通工具的外表面上产生微结构图案的方法。通过喷嘴(45)将一层光聚合物(44)施加到顶涂层或基板(43)上。选择性地照射光聚合物以激活其光引发剂，并去除未照射的聚合物。照射可以通过不与聚合物接触的掩模(49)或经由分束布置(63、64)或衍射光栅(71)进行。可以通过原位保留曝光的光聚合物，或使用曝光的光聚合物来掩蔽基板，蚀刻基板，然后去除曝光的光聚合物来形成图案。在另一方面中，提供了一种方法1100，包括将可光固化材料的层施加到外表面的步骤1102，用包括预定照射强度分布的辐射照射可光固化材料的步骤1104，以及去除未固化的可光固化材料以形成微结构图案的步骤1106。照射引发照射的可光固化材料的固化，导致跨越可光固化材料的层的固化深度分布对应于选择的强度分布。

公开(公告)号：CN104395831B

公开(公告)日：2018-07-06

申请号：CN201380034890.1

申请日：2013-03-29

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 桥本和重 ,  新井敏成 ,  富冢吉博

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/201 ,  G03F7/2004

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其使用多个短尺寸灯作为光源，并能够以简单的结构进行照度不均较低的曝光。提供一种可轻松更换灯的曝光装置。曝光装置(100)具有：搬送部(2)，向搬送方向搬送被曝光体(11)；及光照射部(3)，在水平面内以规定间隔排列配置有具备长边方向的长度比被曝光体(11)短的棒状光源(32)及配置于光源(32)与被曝光体(11)之间的偏光器(34)的多个光照射单元(31)，光照射单元(31)配置成光源(32)及偏光器(34)相对于被曝光体(11)平行，且各偏光器(34)的偏振轴的方向相对于搬送方向设定为规定方向，各光源(32)配置成光源(32)的长边方向相对于搬送方向平行或成为倾斜方向。曝光装置(100)具有摆动机构(56b)，所述摆动机构使被曝光体(11)或光照射部(3)向相对于搬送方向交叉的方向摆动。

公开(公告)号：CN108091550A

公开(公告)日：2018-05-29

申请号：CN201711168476.6

申请日：2017-11-21

Applicant: 马维尔国际贸易有限公司

Inventor： 常润滋 ,  W·李

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/033

CPC classification number: H01L21/26586 ,  G03F7/11 ,  G03F7/201 ,  H01L21/02126 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/3086 ,  H01L21/31055 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32139 ,  H01L21/56 ,  H01L24/06 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337

Abstract: 本公开描述了用于利用倾斜图案化制造集成电路(IC)管芯的方法和装置。在一些方面中，在材料堆叠件上制造芯轴，并且遮挡材料层的部分不受能量场的影响，相对于芯轴以入射角辐射该能量场。材料层的遮挡部分可用于掩蔽下面的膜，以在IC管芯的衬底上创建膜图案。这些方法和装置能够制造部件尺寸小于由传统光刻工艺提供的部件尺寸的IC管芯。

公开(公告)号：CN105637419B

公开(公告)日：2018-03-09

申请号：CN201480053766.4

申请日：2014-09-30

Applicant: 富林特集团德国有限公司

Inventor： U·斯特巴尼 ,  G·迪茨

IPC: G03F7/20

CPC classification number: B41C1/055 ,  G03F7/201 ,  G03F7/202 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/36

Abstract: 一种用于自动执行后面预曝光过程和主曝光过程，以及用于显影可数字成像的柔性版印刷元件的装置，以及一种用于使用该装置基于数字可成像柔性版印刷元件而生成柔性版印刷版的方法。

公开(公告)号：CN104395832B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201380034909.2

申请日：2013-03-29

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  桥本和重 ,  新井敏成

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/1337

CPC classification number: G02F1/133788 ,  G02F1/1303 ,  G02F1/133753 ,  G02F2001/133757 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70325 ,  G03F7/70358

Abstract: 本发明提供一种光取向曝光装置及光取向曝光方法。将取向曝光方式适用于多域法时，消除单位图像区域的分割区域中的边界附近的取向混乱。一种光取向曝光装置(100)，其将液晶显示元件的各单位图像区域分割为多个分割区域，并分别向不同方向对各分割区域的取向材料膜进行光取向，所述光取向曝光装置具备：第1掩模(M1)及第1曝光装置(11)，用于单独接近式曝光第1分割区域(Da1)；第2掩模(M2)及第2曝光装置(12)，用于单独接近式曝光与第1分割区域(Da1)相邻的第2分割区域(Da2)；及第3掩模(M3)及第3曝光装置(13)，用于曝光第1分割区域(Da1)与第2分割区域(Da2)的边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域，第3曝光装置(13)相对于被曝光面Bs具备与第1曝光装置(11)或第2曝光装置(12)相同的光照射角度，在第3掩模(M3)的掩模开口与被曝光面(Bs)之间具备聚光机构(20)，其使掩模透射光聚光于边界附近的第1分割区域(Da1)侧的区域。

公开(公告)号：CN103459995B

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201280001300.0

申请日：2012-09-07

Applicant: 柯正浩

Inventor： 柯正浩

IPC: G01J3/18 ,  G02B6/13

CPC classification number: G01J3/04 ,  G01J3/02 ,  G02B6/12007 ,  G02B6/138 ,  G02B6/29307 ,  G02B6/29308 ,  G02B6/2931 ,  G02B2006/12107 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2024 ,  G03F7/203 ,  G03F7/2039 ,  G03F7/30

Abstract: 一种光学波长分光装置（10）包括一第一基板（11）；一输入单元（12），形成于该第一基板（11）上，并具有一狭缝（121）以接收一光学讯号；一光栅（13），形成于该第一基板（11）上，用于从该光学讯号产生一第一光束用于输出；以及一第二基板（15），覆盖在该输入单元（12）和该光栅（13）的顶部上。其中，该输入单元（12）以及该光栅（13）系利用高能量光源曝光从一光阻层形成。

公开(公告)号：CN103052917B

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201180040182.X

申请日：2011-07-22

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/2002 ,  G03F7/201 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70358

Abstract: 本发明提供一种使用了微透镜阵列的扫描曝光装置，即使起因于曝光装置特性和温度条件等制造条件的变动而使得被曝光基板的大小产生变动，也能够使掩模图案的像对准规定位置。在扫描曝光装置中，多个微透镜阵列2在要曝光的基板1的上方排列在与扫描方向垂直的方向上并被支承基板支承。而且，各微透镜阵列以能够相对于其排列方向从平行于曝光基板的方向倾斜的方式被支承基板支承。这些微透镜阵列的倾斜角度构成为关于上述排列方向逐渐变大或变小。

公开(公告)号：CN103543602B

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：CN201310495547.9

申请日：2006-12-20

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： S·F·伍伊斯特 ,  J·F·迪克斯曼 ,  Y·W·克鲁特-斯特格曼

IPC: G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/11 ,  G03F7/201

Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。