陶瓷结构体、其制法及半导体制造装置用部件

    公开(公告)号:CN107135560B

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN201710073140.5

    申请日:2017-02-10

    Abstract: 本发明涉及一种陶瓷结构体、其制法及半导体制造装置用部件。陶瓷结构体(10)在圆盘状的AlN陶瓷基体(12)的内部内置有加热电极(14)。加热电极(14)是使主成分WC中含有与AlN相比电阻率低且热膨胀系数高的金属填料(例如Ru、RuAl)而得到的。AlN陶瓷基体(12)与加热电极(14)在40~1000℃下的热膨胀系数的差值的绝对值|ΔCTE|为0.35ppm/℃以下。

    半导体制造装置用部件
    59.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102738044B

    公开(公告)日:2016-04-06

    申请号:CN201210071328.3

    申请日:2012-03-16

    CPC classification number: H01L21/6833

    Abstract: 本发明提供一种半导体制造装置用部件,其能降低接合时的残留应力,防止陶瓷基体发生裂纹,即使使用温度为200℃也可获得充分的接合强度,静电吸盘包括:埋设有电极(14)的陶瓷基体(12)、在设于陶瓷基体(12)的背面的凹部(16)的底面露出的电极端子(14a)、用于向电极(14)供电的供电部件(20)、连接供电部件(20)和陶瓷基体(12)的接合层(22)。接合层由AuGe系合金、AuSn系合金、或AuSi系合金形成。对于所述陶瓷基体(12)和所述供电部件(20),从所述供电部件(20)的热膨胀系数减去所述陶瓷基体(12)的热膨胀系数后的热膨胀系数差D选择满足-2.2≤D≤6(单位:ppm/K)的。

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