一种用于夹持石英腔体的安装装置

    公开(公告)号:CN205188475U

    公开(公告)日:2016-04-27

    申请号:CN201521002074.5

    申请日:2015-12-05

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于夹持石英腔体的安装装置,它主要由一对半环柱弧面形夹持支架和紧固装置构成;在夹持支架两端设有紧固用侧面板,在夹持支架中段上部设有抓手,两个半环柱弧面形夹持支架内面,紧贴着半环柱弧面形缓冲垫;通过螺栓、螺母、弹簧,调节位于夹持支架两侧相对应的侧面板间距,使半环柱弧面形夹持支架,或夹持石英腔体或与石英腔体分离。本实用新型安装装置,其特点是结构简单,装拆方便,成本低,较实用。

    一种石英管与金属体连接结构

    公开(公告)号:CN202274230U

    公开(公告)日:2012-06-13

    申请号:CN201120355244.3

    申请日:2011-09-21

    Abstract: 本实用新型公开了一种石英管与金属体连接结构,其安全性高、密封性好、能够承受较大载荷。本实用新型包含有金属体、石英管,金属体内腔设有石英管,石英管外侧设有石英管凸缘,石英管凸缘外侧设有中空外螺纹螺母,中空外螺纹螺母的顶部与石英管凸缘的凸出部之间设有B胶圈,石英管凸缘的凸出部与金属体的内腔壁之间设有A胶圈。本实用新型设计的凸缘型石英管连接方式,不仅实现石英管与金属体间连接,还能够承受较大载荷,使石英管不会从金属体上脱落,从而提高了连接和使用时的安全性,也利于降低整体成本。

    一种提高氯化氢转化为氯化镓效率的装置

    公开(公告)号:CN205893458U

    公开(公告)日:2017-01-18

    申请号:CN201620797442.8

    申请日:2016-07-27

    Abstract: 一种提高氯化氢转化为氯化镓效率的装置,用于氢化物气相外延生长材料,包括反应器、风车以及盛装容器,反应器内设置有容纳液体镓源的反应室,进气孔以及出气孔,风车安装在反应器内,盛液容器安装在风车上。本实用新型中,利用空气动力学原理,从进气孔进入的含有氯化氢的混合气体,通过液体镓源上方时带动风车及盛装容器做圆周运动,盛装容器运动时将液体镓源舀起,然后液体镓源通过盛装容器撒漏或者渗漏出来,撒漏或者渗漏出来的液体镓源将与混合气体中氯化氢发生反应,加大了氯化氢与镓源的接触面积,提高氯化氢生成氯化镓的转化率,提高了氮化镓单晶生长过程中氯化氢气体利用率。

    一种使气体快速加热至高温的装置

    公开(公告)号:CN202792515U

    公开(公告)日:2013-03-13

    申请号:CN201220320305.7

    申请日:2012-07-04

    Abstract: 本实用新型公开了一种使气体快速加热至高温的装置,其结构简单,且无污染物。本实用新型包含有热装置的外壳、中频感应加热电源、感应线圈、热交换导板,外壳远离气体入口的另一端设有气体出口,外壳内气体入口与气体出口之间设有复数热交换导板,热交换导板连接端设置在外壳的内侧壁上,热交换导板另一端的悬空端与相对应的外壳内侧壁之间设有缺口,相邻热交换导板前的缺口上下相互交叉,复数热交换导板之间平行的间隔排布。本实用新型有效提高热交换效率,保证使气体快速加热至高温,而且由于采用电磁感应的加热方式加热热交换导板内的黑体材料,节能、无污染。

    一种用多管道液体冷却及温度控制的法兰装置

    公开(公告)号:CN202275604U

    公开(公告)日:2012-06-13

    申请号:CN201120349715.X

    申请日:2011-09-19

    Abstract: 本实用新型公开一种用多管道液体冷却及温度控制的法兰装置,使冷却液体通过部件,带走热量,通过调节冷却液体与部件热交换面积,从而控制法兰部件温度。本实用新型包括法兰部件,法兰部件内部设有复数条独立的密封管道,密封管道首端连接进液管道,密封管道尾端连接出液管道,进液管道上设有进液开关,进液开关与密封管道之间设有液体过滤芯,法兰部件上设有温度探测器。本实用新型通过多管道调节热交换面积从而控制法兰部件温度,在部件内部制作多条独立的密封管道,外接进液管道和出液管道,通入冷却液,使其在管道中流动来带走两个接触面上的热量,对部件进行冷却,保护其不会因为温度过高而损坏。

    一种晶片托盘
    69.
    实用新型

    公开(公告)号:CN202796894U

    公开(公告)日:2013-03-13

    申请号:CN201220320302.3

    申请日:2012-07-04

    Abstract: 本实用新型公开了一种晶片托盘,可连续运用于晶片的生产和清洗工序。本实用新型包含托盘本体,托盘本体包含一上表面和一下表面,上表面包含晶片槽、流通孔、晶片支撑架、晶片取放槽、编码数字、小连接槽,下表面包含连接柱,上表面设有一个以上凹形的晶片槽,晶片槽内壁设有三条以上的晶片支撑架,晶片槽底部设有一个以上流通孔,晶片槽周边处设有一个以上晶片取放槽。本实用新型的晶片托盘在整套生产流程只需要发放晶片的操作员记录晶片编号,后续程序只需记录晶片对应的编码数字,达到晶片便于统筹管理,便于取放,便于计数的目的。

    一种气相外延设备进行材料生长的控制系统

    公开(公告)号:CN202717874U

    公开(公告)日:2013-02-06

    申请号:CN201220221883.5

    申请日:2012-05-16

    Abstract: 本实用新型公开了一种气相外延设备进行材料生长的控制系统,属于半导体技术领域。本系统包括一工控机和一可编程控制器,所述工控机通过工业通信总线分别与气相外延设备的可编程控制器、气体流量计、和/或压力控制器、和/或加热器、和/或转动盘连接。设置多个温区加热器进行动态补偿衬底温度。在气动阀控制方面取消逐个控制,设置联动自动控制开关,根据各路源气的设定值,联动打开气动阀和设定MFC。在压力控制方面,增加限制蝶阀角度控制,控制范围在大于5°小于40°之间,达到压力平稳控制和保证气体一直往下流。在材料生长控制方面,除了能实现自动运行菜单外,创造实行跳步生长、无缝更新菜单和中途指定步生长。

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