一种大尺寸芯片烧焊质量检验装置

    公开(公告)号:CN116952745A

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202310556141.0

    申请日:2023-05-17

    Abstract: 本发明提供的一种大尺寸芯片烧焊质量检验装置,包括底座、安装板、夹具、折弯组件;所述安装板固定在底座上,夹具固定在安装板上,折弯组件铰接在夹具上,所述夹具包括装夹块,装夹块内加工有装夹槽,装夹槽内安装有推板,推板与螺纹推杆垂直连接,螺纹推杆通过螺纹装配在装夹块上,所述折弯组件包括连杆,连杆的一端通过转轴铰接在装夹块上,转轴上安装有第二滚筒,连杆上相邻于第二滚筒处安装有第一滚筒。本发明通过两个滚筒对芯片进行完全,使芯片在完全过程中均匀受力,所以能够对大于10mm2的芯片进行测试;通过推板可以调节芯片的高度,可以调节覆铜板的弯曲度和弯曲起始点,使装置能够适应多种规格的芯片。

    一种陶瓷贴片封装理想二极管
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118866862A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202411201352.3

    申请日:2024-08-29

    Abstract: 本发明提供了一种陶瓷贴片封装理想二极管,包括管座;所述管座的端面上加工有凹槽,凹槽内加工有三个通孔,三个通孔内分别固定有两端均突出管座两端面的接地电极、输入电极、输出电极,所述输出电极上安装有控制芯片和MOS芯片;本发明通过使用氧化铝化银底板作为控制芯片的承载部件,将MOS管和控制芯片集成在一个封装内,实现了具有功率输入、功率输出和公共地三个端口的肖特基二极管的替代,相比于肖特基二极管和现有的二极管控制器的方案,在能够在降低导通损耗的同时,进一步降低系统或PCB面积,达到更高的功率密度。

    一种沟槽型半导体桥芯片及其制备方法

    公开(公告)号:CN118729871A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202410956445.0

    申请日:2024-07-17

    Abstract: 一种沟槽型半导体桥芯片及其制备方法,属于火工品技术领域。包括N型硅衬底、二氧化硅层、正面图形多晶硅层、正面图形金属电极层。二氧化硅层的厚度为2000埃~20000埃,正面图形多晶硅层的厚度为10000埃~50000埃,正面图形金属电极层的厚度为10000埃~50000埃。在桥区的两侧边制作尖角形边缘缺口,在桥区两侧边除尖角形边缘缺口外的区域制作成蜂窝沟槽结构,通电后尖角形边缘缺口处及蜂窝沟槽结构的电流密度大大提高,快速形成焦耳热,快速形成等离子体放电。解决了半导体桥火工品发火时间及发火能量很难进一步降低,难以提升半导体桥火工品系统精确性、迅速性的问题。广泛于SCB火工品半导体桥芯片技术领域。

    一种碳化硅二极管芯片结构及其制作方法

    公开(公告)号:CN118231480A

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202410525748.7

    申请日:2024-04-29

    Abstract: 一种碳化硅二极管芯片结构及其制作方法,属于半导体二极管芯片技术领域。包括:N型碳化硅衬底,N型外延层,P型场限环区掺杂区,掺氧多晶硅保护层,硼磷硅玻璃保护层,氮化硅保护层,聚酰亚胺保护层,N型外延层P+型掺杂区,N型外延层表面铝硅化合物合金层,N电极层,P电极层。复合钝化层结构从内层到外层依次为:掺氧多晶硅钝化层、硼磷硅玻璃钝化层、氮化硅钝化层、聚酰亚胺钝化层。综合采用外延、光刻、多次高温高能铝离子注入、CVD淀积、掺杂、高温退火、涂覆、减薄、溅射、划片等工艺进行制造。解决现有碳化硅二极管器件在高耐压下场限环区域易发生烧蚀导致器件失效的问题。广泛应用于碳化硅二极管及其他高压器件钝化层技术领域。

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