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公开(公告)号：CN101872116A
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN201010153353.7
申请日：2010-04-21
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0035 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供一种产生光刻胶图案的方法，包括下列步骤：在衬底上施加第一光刻胶组合物然后进行干燥以形成第一光刻胶膜；预烘第一光刻胶膜；将预烘过的第一光刻胶膜曝露于辐射；烘焙曝露过的第一光刻胶膜；用第一碱性显影剂使烘焙过的第一光刻胶膜显影以形成第一光刻胶图案；使形成的第一光刻胶图案对下述步骤中的辐射无活性、不溶于碱性显影剂或者不溶于第二光刻胶组合物；在其上已经形成有第一光刻胶图案的衬底上施加第二光刻胶组合物，然后进行干燥以形成第二光刻胶膜；预烘第二光刻胶膜；使预烘过的第二光刻胶膜曝露于辐射；烘焙曝露过的第二光刻胶膜；和用第二碱性显影剂使烘焙过的第二光刻胶膜显影以形成第二光刻胶图案。
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公开(公告)号：CN101624397A
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200910142678.2
申请日：2004-05-11
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07F5/02 , C07D213/20 , C07C25/18 , C07C381/12 , C07F15/04 , C07D487/04 , C07D213/38 , C07F17/02 , C07C211/63 , C09K11/06
Abstract: 一种包含发光聚合物和离子对的发光聚合物组合物，其中每个离子对含有具体结构的阴离子，所述的阴离子具有一个第13族元素的原子并且与含有吸电子基的芳基，或含有吸电子基的杂环基直接连接，或通过连接基团连接；或所述的阴离子具有两个或多个第13族元素的原子并且所有这些原子每个分别与含有吸电子基团的芳基，或含有吸电子基的杂环基直接连接，或通过连接基团连接。
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公开(公告)号：CN1788068A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200480013076.2
申请日：2004-05-11
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C09K11/06 , H05B33/14 , H05B33/22 , C07D471/22 , C07F15/00
Abstract: 一种包含发光聚合物和离子对的发光聚合物组合物，其中每个离子对含有具体结构的阴离子，所述的阴离子具有一个第13族元素的原子并且与含有吸电子基的芳基，或含有吸电子基的杂环基直接连接，或通过连接基团连接；或所述的阴离子具有两个或多个第13族元素的原子并且所有这些原子每个分别与含有吸电子基团的芳基，或含有吸电子基的杂环基直接连接，或通过连接基团连接。
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公开(公告)号：CN102023479A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN201010276810.1
申请日：2010-09-07
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/00 , C07C211/63 , C07C62/06 , H01L21/027
CPC classification number: C07C61/135 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供一种光刻胶组合物，包含：树脂，其含有衍生自具有酸敏基团的化合物的结构单元，且其不溶或难溶于碱性水溶液但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液，产酸剂，和式(I′)表示的化合物：其中R51、R52、R53和R54各自独立地代表C1-C8烷基，A11代表可含有1个或更多个杂原子且具有1个或更多个取代基的C3-C36二价饱和环烃基，或者可含有1个或更多个杂原子且具有1个或更多个取代基的C6-C20二价芳烃基。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100516165C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200480013076.2
申请日：2004-05-11
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C09K11/06 , H05B33/14 , H05B33/22 , C07D471/22 , C07F15/00
Abstract: 一种包含发光聚合物和离子对的发光聚合物组合物，其中每个离子对含有具体结构的阴离子，所述的阴离子具有一个第13族元素的原子并且与含有吸电子基的芳基，或含有吸电子基的杂环基直接连接，或通过连接基团连接；或所述的阴离子具有两个或多个第13族元素的原子并且所有这些原子每个分别与含有吸电子基团的芳基，或含有吸电子基的杂环基直接连接，或通过连接基团连接。
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公开(公告)号：CN102890408A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201210250668.2
申请日：2012-07-19
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明公开了抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法。所述抗蚀剂组合物具有：树脂(A1)，其具有由式(I)表示的结构单元的；树脂(A2)，其具有由式(II)表示的结构单元并且在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元，和(B)酸生成剂，其中R1、A1、A13、X12、A14、R3和环X1如说明书中限定。
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公开(公告)号：CN102002121A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN201010269819.X
申请日：2010-08-31
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08F20/52 , C08F220/32 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/52 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/60 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供一种树脂，所述树脂包含衍生自由式(I)表示的化合物的结构单元，其中R1表示氢原子，卤素原子或任选具有一个或多个卤素原子的C1至C6烷基；X1表示C2至C36杂环基，包含在所述杂环基中的一个或多个氢原子可以被卤素原子，羟基，C1至C24烃，C1至C12烷氧基，C2至C4酰基，C2至C4酰氧基代替，并且包含在所述杂环基中的一个或多个-CH2-可以被-CO-或-O-代替。
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公开(公告)号：CN101614958A
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：CN200910139499.3
申请日：2009-06-24
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0046
Abstract: 本发明提供一种化学放大型正性抗蚀剂组合物，其包含：树脂(A)，所述树脂(A)本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，并且所述树脂(A)包含在侧链中具有酸不稳定基团的结构单元，以及由式(I)表示的结构单元，其中R1表示氢原子或甲基，环X1表示具有－COO－的未取代或取代的C3－C30环烃基，并且k表示1至4的整数；树脂(B)，所述树脂(B)包含由式(II)表示的结构单元，其中R2表示氢原子、甲基或三氟甲基；以及酸生成剂。
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公开(公告)号：CN101581882A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200910140907.7
申请日：2009-05-12
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G03F7/039
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046
Abstract: 本发明提供一种化学放大型正性抗蚀剂组合物，所述化学放大型正性抗蚀剂组合物包含树脂和酸生成剂，所述树脂包含侧链具有酸－不稳定基团的结构单元以及由式(I)表示的结构单元，在式(I)中，R1表示氢原子等，R’和R”独立地为氢原子等，k表示1至12的整数，R独立地为C1－C6烷基等，并且x表示0至7的整数；所述酸生成剂由式(V)表示，在所述式(V)中，Y1和Y2各自独立表示氟原子等，R12表示可以被取代的C1－C30直链、支链或环状烃基，并且A+表示有机抗衡离子。
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