基于Fabry-Perot谐振腔的高光谱滤光片阵列及其制作方法

    公开(公告)号:CN118131381A

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202410551966.8

    申请日:2024-05-07

    Abstract: 本申请涉及一种基于Fabry‑Perot谐振腔的高光谱滤光片阵列及其制作方法,所述方法包括:通过薄膜沉积方式在N个硬质透明衬底上沉积透射峰值波长为λ1、λ2,…、λN的Fabry‑Perot谐振腔的多层膜系形成N个分立滤光片,λ为波长,N为波长的数量;根据滤光片阵列上的像素块大小对各个分立滤光片进行裁切得到微单元阵列;根据滤光片阵列上的数据点排列信息分别从分立滤光片中提取微单元,将所提取的微单元转移至透明基底上并按照透射峰值波长进行排列;将各个微单元拼装到透明基底上形成单片集成式的高光谱滤光片阵列;该技术方案,便于工业上大规模生产,降低高光谱滤光片阵列的制造难度和成本。

    单片集成式滤光片器件及其制造设备系统

    公开(公告)号:CN118131382A

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202410555009.2

    申请日:2024-05-07

    Abstract: 本申请涉及一种单片集成式滤光片器件及其制造设备系统,其中,所述单片集成式滤光片器件包括:透明基底,以及设于透明基底上的微镜片阵列;透明基底设计为单片集成滤光片结构;微镜片阵列包括多个排列在所述透明基底上的微镜片,每个微镜片对应于滤光片上的数据点的像素块,包括硬质透明衬底以及沉积在硬质透明衬底上的多层膜系,多层膜系构成Fabry‑Perot谐振腔;微镜片阵列中的微镜片按照透射峰值波长顺序排列;微镜片阵列的硬质透明衬底一侧固定拼装在透明基底上,形成单片集成式滤光片阵列;该技术方案,有利于单片集成式滤光片器件的大规模生产,降低了制造难度和成本,可以精准控制干涉层的厚度,提升高光谱探测的精准度。

    真空设备的旋转工件台的控制方法、装置及真空设备

    公开(公告)号:CN119536375B

    公开(公告)日:2025-04-18

    申请号:CN202510106651.7

    申请日:2025-01-23

    Abstract: 本申请涉及一种真空设备的旋转工件台的控制方法、装置及真空设备;所述方法包括:获取真空腔体内部的各种部件的第一位置参数,并根据所述第一位置参数确定所述旋转工件台在真空腔体内的最大运动范围;根据当前的应用工艺确定所述旋转工件台在真空腔体内的目标位置;根据所述目标位置及所述最大运动范围计算所述旋转工件台摆动的目标角度范围;根据所述目标位置及旋转工件台的起始位置的第二位置参数计算所述旋转工件台的运动位移量;根据所述运动位移量控制所述旋转工件台移动至所述目标位置,并控制所述旋转工件台以所述目标角度范围进行摆动;该技术方案,可以最大限度利用了真空腔体的内部空间,降低应用工艺的限制,提升应用工艺效果。

    直流阴极中和器
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112908818B

    公开(公告)日:2023-07-04

    申请号:CN202110085601.7

    申请日:2021-01-22

    Abstract: 本申请涉及一种直流阴极中和器,包括:电离腔室,阴极靶材,维持极以及磁铁组件;其中,维持极设于电离腔室上部,连接维持电源;阴极靶材设于电离腔室底部,连接电离电源,且阴极靶材与维持极保持绝缘隔离;磁铁组件设于阴极靶材底部,用于在电离腔室产生强磁场;在工作中,电离腔室通入工作气体,磁铁组件在电离腔室的电离区域产生强磁场,电离区域在强磁场和电场的共同作用下对工作气体进行电离产生等离子体;等离子体中的负电子在维持极的作用下,通过设置在电离腔室的电子输出口进行输出;该技术方案,结构简单,维护方便,使用强磁场提高了电离效率;而且阴极靶材可以使用多种金属,可以使用耐高温稀有金属,对产品不产生污染等不利影响。

    调速阀门结构、真空腔室及真空镀膜机

    公开(公告)号:CN116288230A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202211600718.5

    申请日:2022-12-12

    Abstract: 本申请涉及一种调速阀门结构、真空腔室及真空镀膜机,调速阀门结构包括:真空密封的阀门腔体,设于阀门腔体内的真空阀板,以及设于阀门腔体外部的驱动机构和间接传动装置;阀门腔体上设有抽气口,其中,抽气口两侧面上设有上连接件和下连接件;上连接件用于与真空腔室密封连接,下连接件用于与分子泵密封连接;驱动机构连接间接传动装置,间接传动装置与真空阀板通过非接触方式连接;驱动机构驱动间接传动装置进行运动,间接传动装置以非接触方式驱动真空阀板进行移动,调整抽气口的开度大小;该技术方案具有更高的真空度调整速度,减少了需要真空密封的部件,降低了整体设备的成本,并提升了真空腔室的真空密封效果。

    离子束修形离子源及其启动方法、真空腔室

    公开(公告)号:CN113793791A

    公开(公告)日:2021-12-14

    申请号:CN202111083180.0

    申请日:2021-09-15

    Abstract: 本申请涉及一种离子束修形离子源及其启动方法、真空腔室,所述离子源包括:包括设于腔体两侧的阳极和磁场,以及设于腔体前端的栅网;还包括设于腔体后端的中空阴极,以及设置在中空阴极前的电子均匀板;其中,所述中空阴极从腔体后端套入腔体内;所述中空阴极用于向腔体内注入电子束流;所述电子均匀板将所述电子束流均匀分散进入到阳极区域内;所述电子束流中的电子在阳极的电场和磁场的作用下电离,并在所述栅网的电场作用下引出离子束流;采用中空阴极结构为阳极提供离子供体的中空阴极直流源结构,结构轻巧,性能稳定,实现了小束斑、大能量的离子束流输出,并可以控制离子束的能量和停留时间,在离子束修形中具有良好的使用效果。

    等离子体源及其启动方法

    公开(公告)号:CN113764252A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202111081910.3

    申请日:2021-09-15

    Abstract: 本申请涉及一种等离子体源及其启动方法,所述等离子体源包括:射频线圈及其对应的第一电离室,至少一个感应线圈及其对应的第二电离室,以及供气管路;其中,感应线圈串接在射频线圈前端,第一电离室与第二电离室串联连接;供气管路导入气体进入第一电离室,由射频线圈进行电离,未电离的气体进入第二电离室,由感应线圈进行二级电离后,输出等离子体;射频线圈产生磁场对进入第一电离室的气体进行电离,同时感应线圈通过感应射频线圈产生的磁场而产生电感,对进入第二电离室的气体进行电离;该技术方案,实现了多级射频电离效果,极大地提高了电离效率,可以在真空低气压下实现稳定的气体电离,增强了真空沉积过程的有效反应。

    离子源的电源控制方法、系统及离子源装置

    公开(公告)号:CN111933503B

    公开(公告)日:2021-07-06

    申请号:CN202010802515.9

    申请日:2020-08-11

    Abstract: 本申请涉及一种离子源的电源控制方法、系统及离子源装置,所述方法包括:根据电源系统输出的总电流值确定各个霍尔离子源的分支电流值;在各个所述霍尔离子源和中空阴极运行中,分别检测各个所述霍尔离子源的电流传感器反馈的实际电流值;将各个所述霍尔离子源对应的实际电流值与其设定的分支电流值的进行比对并计算气体流量控制参数;依据所述气体流量控制参数调整输入霍尔离子源的气体流量,以控制相应霍尔离子源的实际电流值与其设定的分支电流值相匹配。本申请实现了对多霍尔离子源工作时电流控制,能够对各个霍尔离子源的电流进行精确分配,优化了电源控制效果,提升了各个霍尔离子源的工作效果。

    靶材安装结构及真空镀膜机

    公开(公告)号:CN115976477B

    公开(公告)日:2024-11-26

    申请号:CN202211601128.4

    申请日:2022-12-12

    Abstract: 本申请涉及一种靶材安装结构及真空镀膜机,靶材安装结构包括背板结构和固定装置,背板结构通过活动式的连接组件与固定装置进行连接;背板结构包括多块拼接的子背板;每个子背板的正面用于焊接对应形状的靶材;固定装置包括:支撑轴以及第一旋转结构,第一旋转结构设于支撑轴的一端,使得连接组件绕支撑轴进行转动;各个子背板的背面中心位置连接有第二旋转结构,使得子背板绕该中心位置在背板平面上进行转动;各个子背板上的第二旋转结构的连接组件通过连接到第一旋转结构上;其中,各个子背板的第二旋转结构通过所述连接组件在背板平面上进行扩张和收缩移动。该技术方案,提升了调整效率以及更换靶材的效率。

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