粒子源及其制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102842474A

    公开(公告)日:2012-12-26

    申请号:CN201110175692.X

    申请日:2011-06-22

    Inventor: 刘华荣

    Abstract: 本发明提供了一种用于制造粒子源的方法,包括:将金属丝置于真空环境中并通入活性气体和催化气体,对金属丝的温度进行调节,并对金属丝施加正高压V,使得金属丝表面的活性气体离解,在金属丝头部侧面产生刻蚀带,在该刻蚀带内发生场致刻蚀;场致刻蚀使得金属丝头部顶端处表面电场增强,直到大于金属丝材料的场致蒸发电场,使得此处的金属原子被蒸发出去;在场致刻蚀触发了场致蒸发之后,场致刻蚀和场致蒸发这两种机制相互调节直到金属丝头部形状变成了由底座和底座上的针尖组成,其中场致刻蚀发生在侧面,形成了底座,而场致蒸发发生在顶端,形成了针尖;以及当获得具有预定形状的金属丝头部时,停止场致刻蚀和场致蒸发。

    粒子源及其制造方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102842474B

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201110175692.X

    申请日:2011-06-22

    Inventor: 刘华荣

    Abstract: 本发明提供了一种用于制造粒子源的方法,包括:将金属丝置于真空环境中并通入活性气体和催化气体,对金属丝的温度进行调节,并对金属丝施加正高压V,使得金属丝表面的活性气体离解,在金属丝头部侧面产生刻蚀带,在该刻蚀带内发生场致刻蚀;场致刻蚀使得金属丝头部顶端处表面电场增强,直到大于金属丝材料的场致蒸发电场,使得此处的金属原子被蒸发出去;在场致刻蚀触发了场致蒸发之后,场致刻蚀和场致蒸发这两种机制相互调节直到金属丝头部形状变成了由底座和底座上的针尖组成,其中场致刻蚀发生在侧面,形成了底座,而场致蒸发发生在顶端,形成了针尖;以及当获得具有预定形状的金属丝头部时,停止场致刻蚀和场致蒸发。

    Two-wafer MEMS ionization device
    10.
    发明授权
    Two-wafer MEMS ionization device 有权
    双晶片MEMS电离装置

    公开(公告)号:US08779531B2

    公开(公告)日:2014-07-15

    申请号:US13338425

    申请日:2011-12-28

    Abstract: A microelectromechanical system (MEMS) assembly includes at least one emission source; a top wafer having a plurality of side walls and a generally horizontal portion, the horizontal portion having a thickness between a first side and a directly opposed second side, at least one window in the horizontal portion extending between the first and second sides and a transmission membrane across the at least one window; and a bottom wafer having a first portion with a first substantially planar surface, an intermediate surface directly opposed to the first substantially planar surface, a second portion with a second substantially planar surface, the at least one emission source provided on the second substantially planar surface; where the top wafer bonds to the bottom wafer at the intermediate surface and encloses a cavity within the top wafer and the bottom wafer.

    Abstract translation: 微机电系统(MEMS)组件包括至少一个发射源; 具有多个侧壁和大致水平部分的顶部晶片,所述水平部分具有在第一侧和直接相对的第二侧之间的厚度,所述水平部分中的至少一个窗口在所述第一侧和第二侧之间延伸, 膜穿过至少一个窗口; 以及底部晶片,其具有第一部分和第二基本上平坦的表面,与所述第一基本上平坦的表面直接相对的中间表面,具有第二基本平坦表面的第二部分,所述至少一个发射源设置在所述第二基本上平坦的表面上 ; 其中顶部晶片在中间表面处接合到底部晶片并且在顶部晶片和底部晶片内包围空腔。

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