公开(公告)号：US20030024276A1

公开(公告)日：2003-02-06

申请号：US09934361

申请日：2001-08-21

Applicant: 3M Innovative Properties Company

Inventor： Mark T. Anderson ,  Craig R. Schardt ,  James R. Onstott ,  Lawrence J. Donalds ,  Alessandra O. Chiareli

IPC: C03B037/075 ,  C03B037/016

CPC classification number: G02B6/03694 ,  C03B37/01807 ,  C03B37/01853 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/36 ,  C03C13/046 ,  C03C23/0095 ,  C03C25/608 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/3417 ,  C03C2201/3476 ,  C03C2201/36 ,  C03C2203/52 ,  G02B6/03627 ,  G02B6/03633 ,  G02B6/0365 ,  G02B6/03655 ,  H01S3/06716 ,  H01S3/173

Abstract: A method for manufacturing an optical article including the steps of providing a substrate tube; forming one or more cladding layers inside the substrate tube, the one or more cladding layers including an innermost cladding layer; forming a concentric fluorine reservoir adjacent to the innermost cladding layer; and forming a core adjacent to the fluorine reservoir and concentric with the one or more outer cladding layers. The fluorine concentration in the fluorine reservoir is higher than the fluorine concentration in either the core or the innermost cladding layer.

Abstract translation: 一种光学制品的制造方法，包括以下步骤：提供衬底管; 在所述衬底管内形成一个或多个包覆层，所述一个或多个包覆层包括最内包层; 形成与最内层包层相邻的同心氟储层; 并且形成与所述氟储存器相邻并且与所述一个或多个外包层同心的芯。 氟储存器中的氟浓度高于芯层或最内层包层中的氟浓度。

公开(公告)号：US6087283A

公开(公告)日：2000-07-11

申请号：US581017

申请日：1996-01-03

Applicant: Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

Inventor： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y02P40/57

Abstract: A silica glass has a structure determination temperature of 1200 K or lower and an OH group concentration of at least 1,000 ppm. The silica glass is used for photolithography together with light in a wavelength region of 400 nm or shorter.

Abstract translation: 石英玻璃的结构测定温度为1200K以下，OH基浓度为1000ppm以上。 石英玻璃与波长400nm以下的光一起用于光刻。

公开(公告)号：US5707908A

公开(公告)日：1998-01-13

申请号：US582266

申请日：1996-01-03

Applicant: Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

Inventor： Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F7/20 ,  C03C3/04

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y02P40/57

Abstract: A silica glass has a structure determination temperature of 1200 K or lower and a hydrogen molecule concentration of 1.times.10.sup.17 molecules/cm.sup.3 or more. The silica glass is used together with light in a wavelength region of 400 nm or shorter.

Abstract translation: 石英玻璃的结构测定温度为1200K以下，氢分子浓度为1×10 17分子/ cm 3以上。 石英玻璃与波长400nm以下的光一起使用。

公开(公告)号：KR101363182B1

公开(公告)日：2014-02-13

申请号：KR1020087013869

申请日：2006-11-01

Applicant: 코닝 인코포레이티드

Inventor： 북바인더,다나,씨. ,  피아코,리차드,엠. ,  노이키르히,울리히

IPC: C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03B19/06 ,  C03B19/14

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B19/12 ,  C03B19/14 ,  C03B19/1453 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/42 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/22 ,  C03C2201/23

Abstract: 개시되는 내용은 약 300nm 미만의 파장에서 작동하는 리소그래피 장치의 리소그래피 조사의 광 경로에 사용될 수 있는 OD-도핑 합성 실리카 유리를 포함한다. OD-도핑된 합성 실리카 유리는 동등한 OH 농도를 갖는 비-OD-도핑된 실리카 유리에 비하여 현저히 낮은 편파-유발 복굴절을 갖는다는 것이 확인되었다. 또한 OD-도핑된 합성 실리카 유리를 제조하는 방법이 개시되며, 그러한 유리를 포함하는 광학 부재, 그러한 광학 부재를 포함하는 리소그래피 시스템이 개시된다. 상기유리는 특히, 약 193nm에서의 현저히 낮은 편파-유발 복굴절 값 때문에 이머젼 리소그래피 시스템에 적합하다.
리소그래피, 복굴절, 광학부재, 실리카 유리, 도핑

公开(公告)号：KR1020100099208A

公开(公告)日：2010-09-10

申请号：KR1020107014072

申请日：2008-09-30

Applicant: 아사히 가라스 가부시키가이샤

Inventor： 고이께아끼오 ,  이와하시야스또미 ,  기꾸가와신야 ,  오까무라겐지

IPC: G03F1/22 ,  G03F1/80 ,  G03F1/00

CPC classification number: G03F1/24 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C3/06 ,  C03C15/02 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/08 ,  G03F7/70958 ,  H01J2237/0812

Abstract: 본 발명은 극초자외광 리소그래피(Extreme Ultra-Violet Lithography; EUVL)용 반사형 마스크, 미러 등에 사용되고, 그의 광학면의 평탄도 및 표면 거칠기가 매우 우수하며, 면취부가 칩핑되는 것이 억제되는 EUVL용 광학 부재를 제공하는 것이다. 본 발명은 EUVL용 광학 부재의 광학면에 불소 및 염소 중 1종 이상을 함유하는 소스 가스(source gas)를 사용하여 가스 클러스터 이온 빔(Gas Cluster Ion Beam) 에칭을 실시하는 것을 포함하는 EUVL용 광학 부재의 표면 처리 방법에 관한 것이며, 여기서 상기 광학 부재는 OH 농도가 100 ppm 이상이고 TiO
2 를 함유하고 SiO
2 를 주성분으로 함유하는 실리카 유리 재료로 제조된다.

公开(公告)号：KR100165695B1

公开(公告)日：1998-12-15

申请号：KR1019930700573

申请日：1992-06-29

Applicant: 신에쯔 세끼에이 가부시키가이샤

Inventor： 니시무라히로유끼 ,  후지노끼아키라 ,  마츠야토시카츠 ,  이나끼고이찌 ,  카토토시유끼 ,  시마다아츠시

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03B37/014 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/32 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  G03F7/70958 ,  Y02P40/57 ,  Y10S65/08 ,  Y10S501/90

Abstract: 합성석영유리가, 10 내지 100ppm의 OH기 함량, 200ppm이하의 염소 함량, 1×10
16 분자수/㎤이하의 수소분자 함량, △n으로 나타내는 굴절율분포가 5×10
-6 이하의 균일성, 5㎚/㎝이하의 복굴절을 가지는 자외선 레이저용 합성석영유리 광학부재는, 엑시머레이저광을 사용하는 리소그래피장치의 스텝퍼렌즈 및 기타 광학부재에 유용하게 사용될 수 있고, 또 휘발발성 실리콘화합물을, 옥시하이드로겐 불꽃가수분해하여, 생성하는 미립자 실리카를 내열성 기판상에 증착시켜 다공질 실리카모재를 제공하고, 생성된 다공질 실리카모재를 1×
-2 Torr이상의 고진공도하에서 1400℃이상의 온도로 가열하고, 탈수 및 탈기를 행하고, 이어서 탈수 및 탈기된 투명한 석영유리를 균질화처리함에 의해, 적어도 한방향은 줄을 가지지 않은 고균질 석영유리를 형성하고, 이어서 생 성된 고균질 석영유리를 성형하여, 성형된 고균질 석영유리를 어니일링처리함으로써 제조할 수 있다.

公开(公告)号：WO2015034991A2

公开(公告)日：2015-03-12

申请号：PCT/US2014/054001

申请日：2014-09-04

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： HARPER, Brian Lee ,  KHRAPKO, Rostislav Radiyevich ,  MISHRA, Snigdharaj Kumar ,  RANEY, Sonya Marie ,  TANDON, Pushkar

IPC: C03C13/04

CPC classification number: C03B37/01446 ,  C03B37/014 ,  C03B37/01453 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/23 ,  C03B2203/26 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/20

Abstract: One embodiment of the disclosure relates to a method of making an optical fiber comprising the steps of: (i) exposing a silica based preform with at least one porous glass region having soot density of r to a gas mixture comprising SiCl 4 having SiCl 4 mole fraction y SiCl4 (preferably of less than 0.03) at a doping temperature T dop such that parameter X is larger than 0.03 to form the chlorine treated preform, wherein X is defined as a function of density r, doping temperature T dop , SiCl4 mole fraction y SiCl4 , and the density p s of the fully densified soot layer; and (ii) exposing the chlorine treated preform to temperatures above 1400 °C to completely sinter the preform to produce sintered optical fiber preform with a chlorine doped region; and (iii) drawing an optical fiber from the sintered optical preform.

Abstract translation: 本公开的一个实施方案涉及一种制造光纤的方法，包括以下步骤：（i）将具有烟灰密度为r的至少一个多孔玻璃区域的二氧化硅基预型体暴露于包含具有SiCl 4摩尔分数ySiCl 4的SiCl 4的气体混合物 （优选小于0.03），使得参数X大于0.03以形成经氯处理的预制件，其中X定义为密度r，掺杂温度Tdop，SiCl4摩尔分数ySiCl4和密度的函数 ps的完全致密的烟灰层; 和（ii）将经氯处理的预制件暴露于高于1400℃的温度以完全烧结预成型件，以制备具有氯掺杂区域的烧结光纤预制件; 和（iii）从烧结的光学预型件拉制光纤。

公开(公告)号：WO2008029571A1

公开(公告)日：2008-03-13

申请号：PCT/JP2007/065109

申请日：2007-07-26

Applicant: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED ,  IKUTA, Yoshiaki ,  KIKUGAWA, Shinya

Inventor： IKUTA, Yoshiaki ,  KIKUGAWA, Shinya

IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/12 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  Y10T428/166 ,  Y10T428/249969 ,  Y10T428/252

Abstract: For a substrate having fine convexoconcave patterns on its surface, the dimensions of the convexoconcave patterns in a vertical direction of a quartz glass substrate are controlled to be uniform with extreme accuracy and over the entire substrate surface. The quartz glass substrate is made to have a fictive temperature distribution of at most 4O°C and a halogen concentration of less than 400 ppm, or a fictive temperature distribution of at most 4O°C, a halogen concentration of at least 400ppm and a halogen concentration distribution of at most 400ppm and the etching rate of the surface of the quartz glass substrate is made uniform, whereby the dimensions of the convexoconcave patterns in a vertical direction of the quartz glass substrate are controlled to be uniform with good accuracy and over the entire substrate surface.

Abstract translation: 对于在其表面上具有细凹凸图案的基板，石英玻璃基板的垂直方向上的凸凹图案的尺寸被控制为具有极高的精度和整个基板表面的均匀。 使石英玻璃基板具有至多40℃的虚拟温度分布和小于400ppm的卤素浓度或至多40℃的假想温度分布，至少400ppm的卤素浓度和卤素 浓度分布至多为400ppm，并且石英玻璃基板的表面的蚀刻速率均匀，从而将石英玻璃基板的垂直方向的凸凹图案的尺寸控制为均匀，精度高，整个 基材表面。

公开(公告)号：WO2004050570A1

公开(公告)日：2004-06-17

申请号：PCT/JP2003/015272

申请日：2003-11-28

Applicant: 信越石英株式会社 ,  佐藤 龍弘 ,  垣内 孝宏 ,  藤ノ木 朗 ,  加藤 俊幸 ,  瀬川 徹 ,  吉田 宜正

Inventor： 佐藤 龍弘 ,  垣内 孝宏 ,  藤ノ木 朗 ,  加藤 俊幸 ,  瀬川 徹 ,  吉田 宜正

IPC: C03B20/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/24 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/26

Abstract: 第一に、不純物が少なく且つ天然石英ガラスと同等以上の高温粘度特性を有し、高温環境下にあっても変形し難い合成石英ガラスの製造方法、特に発泡が無く緻密な高耐熱性合成石英ガラスの製造方法を提供する。第二に、本発明の製造方法により容易に得られる高耐熱性合成石英ガラス体、特に、発泡が無く緻密、赤外線吸収率及び放出率が高い、またアルカリ金属拡散防止効果が極めて高い透明又は黒色石英ガラス体を提供する。　２４５ｎｍの吸収係数が０．０５ｃｍ −１ 以上である高耐熱性石英ガラス体を製造する方法であって、シリカ多孔質体を、還元処理した後、焼成して緻密なガラス体とするようにした。

Abstract translation: 一种制造在245nm以上的吸收系数为0.05cm -1以上的合成石英玻璃的制造方法，其特征在于，对多孔二氧化硅材料进行还原处理，然后烧成所得产物，从而形成致密的玻璃 文章; 和具有降低的杂质含量的透明或黑色合成石英玻璃，显示与天然石英玻璃相同或优于其的高温粘度特性即使在高温气氛中也不易变形，显示出高的 对于红外线的吸光度和高发射率，并且对于防止碱金属的扩散，特别是不含气泡的致密且高耐热的合成石英玻璃的扩散具有极高的效果。 该方法容易地生产上述合成石英玻璃。

公开(公告)号：WO2004020357A2

公开(公告)日：2004-03-11

申请号：PCT/US2003/024477

申请日：2003-08-05

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： MOORE, Lisa, A. ,  BOOKBINDER, Dana, C. ,  HOUSE, Keith, L. ,  SCHIEFELBEIN, Susan, L. ,  BALL, Laura, J. ,  BANEY, Bruno, Paul, Marc ,  KHRAPKO, Rostislav, R.

IPC: C03C25/60

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/01228 ,  C03B37/01426 ,  C03B37/01807 ,  C03B37/01861 ,  C03B37/01892 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03B2203/26 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/90 ,  C03C25/602 ,  C03C25/607 ,  C03C25/68 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/50 ,  G02B6/02

Abstract: A method of forming an alkali metal oxide-doped optical fiber by diffusing an alkali metal into a surface of a glass article is disclosed. The silica glass article may be in the form of a tube or a rod, or a collection of tubes or rods. The silica glass article containing the alkali metal, and impurities that may have been unintentionally diffused into the glass article, is etched to a depth sufficient to remove the impurities. The silica glass article may be further processed to form a complete optical fiber preform. The preform, when drawn into an optical fiber, exhibits a low attenuation.

Abstract translation: 公开了一种通过将碱金属扩散到玻璃制品的表面中形成掺杂碱金属氧化物的光纤的方法。 石英玻璃制品可以是管或棒的形式，或者是管或棒的集合。 含有碱金属的二氧化硅玻璃制品和可能已经无意地扩散到玻璃制品中的杂质被蚀刻到足以除去杂质的深度。 石英玻璃制品可以进一步加工以形成完整的光纤预型件。 当预成型件被拉入光纤时，表现出低的衰减。