公开(公告)号：WO2006004169A1

公开(公告)日：2006-01-12

申请号：PCT/JP2005/012519

申请日：2005-06-30

Applicant: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED ,  KOIKE, Akio ,  IWAHASHI, Yasutomi ,  TAKIMOTO, Yasuyuki ,  KIKUGAWA, Shinya

Inventor： KOIKE, Akio ,  IWAHASHI, Yasutomi ,  TAKIMOTO, Yasuyuki ,  KIKUGAWA, Shinya

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42

Abstract: It is to provide a silica glass containing TiO 2 , having a wide temperature range where wherein the coefficient of thermal expansion becomes is substantially zero. A silica glass containing TiO 2 , which has a TiO 2 concentration of from 3 to 10 mass%, a OH group concentration of at most 600 mass ppm and a Ti 3+ concentration of at most 70 mass ppm, characterized by having a fictive temperature of at most 1,200°C, a coefficient of thermal expansion from 0 to 100°C of 0±150 ppb/°C , and an internal transmittance T 400-700 per 1 mm thickness in a wavelength range of from 400 to 700 nm of at least 80%. A process for producing a silica glass containing TiO 2 , which comprises porous glass body formation step, F-doping step, oxygen treatment step, densification step and vitrification step.

Abstract translation: 提供含有TiO 2的二氧化硅玻璃

公开(公告)号：WO2005066090A1

公开(公告)日：2005-07-21

申请号：PCT/JP2004/019834

申请日：2004-12-28

Applicant: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED ,  IWAHASHI, Yasutomi ,  KOIKE, Akio

Inventor： IWAHASHI, Yasutomi ,  KOIKE, Akio

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/30 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/50 ,  C03C2203/54

Abstract: A silica glass containing from 3 to 10 mass% of TiO 2 , which has a coefficient of thermal expansion from 0 to 100 °C, i.e. CTE 0 to 100 , of 0 ± 300 ppb/ °C and an internal transmittance per mm in thickness within a wavelength region of from 200 to 700 nm, i.e. T 200 to 700 , of at most 80%.

Abstract translation: 含有3〜10质量％的TiO 2的二氧化硅玻璃，其热膨胀系数为0〜100℃，即CTE0〜100，为0±300ppb /℃，内部透射率为每1mm厚度 波长范围为200至700nm，即T 200至700，最多为80％。

公开(公告)号：WO2004092082A1

公开(公告)日：2004-10-28

申请号：PCT/JP2004/005204

申请日：2004-04-12

Applicant: 株式会社ニコン ,  藤原 誠志

Inventor： 藤原 誠志

IPC: C03B8/04

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  G03F1/60

Abstract: 　SiO ２ -TiO ２ 系ガラスを火炎加水分解法により製造する方法であって、SiO ２ のガス状前駆体とTiO ２ のガス状前駆体を乱流状態で混合してバーナの中心管から層流状態で供給し、その周りの管から酸素又は酸素含有気体と水素又は水素含有気体とを供給して燃焼させ、加熱された前記SiO ２ のガス状前駆体とTiO ２ のガス状前駆体とを、平板状の耐熱性基体からなるターゲットに当てて、堆積・溶融せしめてSiO ２ -TiO ２ 系ガラスを得るガラス成長工程を含む、SiO ２ -TiO ２ 系ガラスの製造方法。

Abstract translation: 通过火焰水解法制备SiO 2 -TiO 2基玻璃的方法，其包括玻璃生长方法，其中将SiO 2的气体前体和TiO 2的气态前体以湍流状态混合，所得混合物从中心 在层流中的燃烧器管，氧气或含有氧气和氢气的气体或含有氢气的气体从其周围的管道供应并被燃烧，被加热的SiO 2气态前体和TiO 2的气体前体被撞击到 平面和耐热基底，通过沉积和熔融在靶上形成SiO 2 -TiO 2基玻璃。

公开(公告)号：WO2016206308A1

公开(公告)日：2016-12-29

申请号：PCT/CN2015/096108

申请日：2015-12-01

Applicant: 长飞光纤光缆股份有限公司

Inventor： 张磊 ,  龙胜亚 ,  朱继红 ,  吴俊 ,  王瑞春

IPC: G02B6/028 ,  G02B6/036

CPC classification number: G02B6/03683 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C13/046 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/31 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  C03C2213/00 ,  G02B6/02009

Abstract: 一种掺杂优化超低衰减单模光纤，包括芯层，芯层从里向外依次包覆内包层，下陷内包层，辅助外包层和外包层，芯层中氟含量小于或等于0.5wt％，锗的相对折射率贡献量小于或等于0.12％，Δn1小于或等于0.12％，内包层中氟的含量为0.5－1.5wt％，Δn2小于或等于-0.14％，下陷内包层中氟的含量为1－3wt％，Δn3小于或等于-0.25％，辅助外包层中氟的含量为0.5－2wt％，Δn4小于或等于-0.14％，外包层为纯二氧化硅玻璃层和/或金属掺杂的二氧化硅玻璃层。光纤降低了芯层粘度，使芯层与内包层和下陷包层更好地匹配，并结合金属掺杂的匹配粘度外包层，整体降低光纤虚拟温度，同时通过下陷包层设计，抑制了基模泄漏，实现了超低衰减。

公开(公告)号：WO2015116758A1

公开(公告)日：2015-08-06

申请号：PCT/US2015/013417

申请日：2015-01-29

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： ANGELL, William R, IV ,  ANNAMALAI, Sezhian ,  DURAN, Carlos Alberto ,  MAXON, John Edward

IPC: C03C3/06 ,  C03C3/062 ,  C03B19/14 ,  G03F1/24

CPC classification number: C03C3/076 ,  C03B19/09 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/50 ,  C03C3/06 ,  C03C3/062 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/10 ,  C03C2203/40 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60

Abstract: A glass article for use in Extreme Ultra Violet Lithography (EUVL) is provided. The glass article includes a silica-titania glass having a compositional gradient through the glass article, the compositional gradient being defined by the functions: [TiO 2 ] = (c + f(x,y,z)), and [SiO 2 ] = (100 - {c + f(x,y,z)} - δ(x,y,z) ) wherein [TiO 2 ] is the concentration of titania in wt.%, [SiO 2 ] is the concentration of silica in wt.%, c is the titania concentration in wt.% for a predetermined zero crossover temperature (T zc ), f(x,y,z) is a function in three-dimensional space that defines the difference in average composition of a volume element centered at the coordinates (x,y,z) with respect to c, and δ(x,y,z) is a function in three-dimensional space that defines the sum of all other components of a volume element centered at the coordinates (x,y,z).

Abstract translation: 提供了用于极光紫外光刻（EUVL）的玻璃制品。 玻璃制品包括通过玻璃制品具有组成梯度的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃，组成梯度由以下功能定义：[TiO 2] =（c + f（x，y，z））和[SiO 2] =（ 100 - {c + f（x，y，z）} - δ（x，y，z））其中[TiO 2]是二氧化钛的重量百分比浓度，[SiO2]是二氧化硅的重量百分比 ，c是对于预定的零交叉温度（Tzc），二氧化钛浓度以重量％计，f（x，y，z）是三维空间中的函数，其定义以中心为中心的体积元素的平均组成的差异 坐标（x，y，z）相对于c，δ（x，y，z）是三维空间中的函数，其定义以坐标（x，y）为中心的体元素的所有其他分量的和 ，Z）。

公开(公告)号：WO2015038733A1

公开(公告)日：2015-03-19

申请号：PCT/US2014/055126

申请日：2014-09-11

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： DURAN, Carlos Alberto

IPC: C03B25/08

CPC classification number: C03B25/00 ,  C03B25/02 ,  C03B25/08 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C2201/00 ,  C03C2201/42 ,  Y02P40/57

Abstract: Silica-titania glasses with small temperature variations in coefficient of thermal expansion over a wide range of zero-crossover temperatures and methods for making the glasses. The method includes a cooling protocol with controlled anneals over two different temperature regimes. A higher temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 750°C - 950°C or a sub-interval thereof. A lower temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 650°C - 875°C or a sub-interval thereof. The controlled anneals permit independent control over CTE slope and Tzc of silica-titania glasses. The independent control provides CTE slope and Tzc values for silica-titania glasses of fixed composition over ranges heretofore possible only through variations in composition.

Abstract translation: 在宽范围的零交叉温度下具有小的温度变化系数的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃以及用于制造眼镜的方法。 该方法包括在两种不同温度方案下具有受控退火的冷却方案。 较高的温度控制退火可以在750℃至950℃的温度间隔或其子间隔内进行。 较低的温度控制退火可以在650℃-875℃的温度间隔或其子间隔内进行。 受控退火允许独立控制二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc。 独立控制提供固体组合物的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc值，迄今为止只能通过组成变化来实现。

公开(公告)号：WO2014122111A3

公开(公告)日：2014-10-23

申请号：PCT/EP2014052106

申请日：2014-02-04

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS ,  SHINETSU QUARTZ PROD

Inventor： THOMAS STEPHAN ,  BECKER KLAUS ,  OCHS STEFAN

IPC: G03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  G02B5/08 ,  G03F7/20

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B25/02 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/52 ,  G02B5/0891 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958

Abstract: To provide a blank of TiO2-SiO2 glass for a mirror substrate for use in EUV lithography, in which the need for adaptation to optimize the progression of the coefficient of thermal expansion, and consequently also the progression of the zero crossing temperature Tzc, is low, the TiO2-SiO2 glass has at a mean value of the fictive temperature Tf in the range between 920°C and 970°C a dependence of its zero crossing temperature Tzc on the fictive temperature Tf which, expressed as the differential quotient dTzc/dTf, is less than 0.3.

Abstract translation: 为了提供用于镜基板制成的TiO 2 -SiO 2玻璃的在EUV光刻中使用的空白，其中需要进行调整，以优化的热膨胀系数的过程中和过零点温度因而也过程TZC小，TiO2-SiO2的 与假想温度Tf的在920℃，970℃，其过零点温度假想温度Tf，它表示为一个微商dTzc / DTF的TZC的函数之间的范围内的平均值为小于0.3的玻璃。

公开(公告)号：WO2014045990A1

公开(公告)日：2014-03-27

申请号：PCT/JP2013/074643

申请日：2013-09-12

Applicant: 株式会社ニコン

Inventor： 吉成　俊雄

IPC: C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  G03F1/60

CPC classification number: C03B19/1415 ,  C03B11/08 ,  C03B19/1469 ,  C03B23/0493 ,  C03B32/005 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/70 ,  C03B2207/80 ,  C03B2215/44 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  G03F1/60

Abstract: 　ＳｉＯ 2 －ＴｉＯ 2 系ガラスの製造方法は、直接法によりターゲット上にＳｉＯ 2 －ＴｉＯ 2 系ガラスを製造する方法であって、ケイ素化合物およびチタン化合物を酸水素火炎中に供給して火炎加水分解することにより、ターゲット上に所定の長さのＳｉＯ 2 －ＴｉＯ 2 系ガラスインゴットを成長させるインゴット成長工程を含み、インゴット成長工程は、ケイ素化合物の供給量に対するチタン化合物の供給量の比率を所定の値に達するまでＳｉＯ 2 －ＴｉＯ 2 系ガラスインゴットの成長に伴って徐々に増加させる第１の工程と、第１の工程において比率が所定の値に達した後、比率を一定に保持したままＳｉＯ 2 －ＴｉＯ 2 系ガラスインゴットを成長させる第２の工程と、を有する。

Abstract translation: 本发明提供了使用直接法在靶上制造SiO 2 -TiO 2玻璃的SiO 2 -TiO 2玻璃的制造方法。 SiO 2 -TiO 2玻璃的制备方法包括锭生长步骤，其中通过将硅化合物和钛化合物供应到氢氧焰并进行火焰水解，在靶上生长预定长度的SiO 2 -TiO 2玻璃锭。 锭生长步骤包括：第一步骤，其中钛化合物的供应量与硅化合物的供应量的比例随着SiO 2 -TiO 2玻璃锭的生长而逐渐增加，直到所述比例达到预定的 值; 第二步，在比率达到第一步骤的预定值之后，生长SiO 2 -TiO 2玻璃锭，同时比率保持不变。

公开(公告)号：WO2013146990A1

公开(公告)日：2013-10-03

申请号：PCT/JP2013/059199

申请日：2013-03-28

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 折原　敏彦 ,  浜本　和宏 ,  小坂井　弘文 ,  臼井　洋一 ,  笑喜　勉 ,  堀川　順一

IPC: H01L21/027 ,  C03C17/34 ,  C03C17/36 ,  C03C19/00 ,  G02B5/08 ,  G03F1/22

CPC classification number: G03F1/48 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C3/06 ,  C03C17/3435 ,  C03C17/3626 ,  C03C17/3636 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3649 ,  C03C17/3665 ,  C03C23/0075 ,  C03C2201/42 ,  C03C2218/33 ,  G02B5/08 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G03F1/22 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/70733 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/3085

Abstract: 　リソグラフィーに使用されるマスクブランク用基板であって前記基板の転写パターンが形成される側の主表面は、１μｍ×１μｍの領域を原子間力顕微鏡で測定して得られる二乗平均平方根粗さ（Ｒｍｓ）が０．１５ｎｍ以下であり、且つ、空間周波数１μｍ －１ 以上のパワースペクトル密度が１０ｎｍ ４ 以下であることを特徴とするマスクブランク用基板である。

Abstract translation: 提供了一种掩模空白基板，其用于光刻中，其中形成掩模图案的基板的一侧的主表面具有均方根粗糙度（Rms），该均方根粗糙度（Rms）通过用1μm 原子力显微镜，0.15nm以下，空间频率为1μm-1以上的功率谱密度为10nm以下。

公开(公告)号：WO2012072396A1

公开(公告)日：2012-06-07

申请号：PCT/EP2011/069832

申请日：2011-11-10

Applicant: OSRAM AG ,  BENTEN, Wolfgang ,  BÜTTNER, Wolfgang ,  DEISENHOFER, Manfred ,  MURPHY, Thomas

Inventor： BENTEN, Wolfgang ,  BÜTTNER, Wolfgang ,  DEISENHOFER, Manfred ,  MURPHY, Thomas

IPC: C03C3/06 ,  C03C1/10 ,  C03C4/02 ,  C03C4/08

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03C1/10 ,  C03C4/02 ,  C03C4/085 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/3423 ,  C03C2201/3435 ,  C03C2201/3447 ,  C03C2201/36 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/54 ,  C03C2203/10

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von dotiertem Quarzglas, das aus Quarzsand oder Bergkristall zusammen mit Zusatzstoffen erschmolzen wird, wobei als Zusatzstoff zumindest Neodymaluminat (NdAlO 3 ) zugesetzt wird.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造掺杂的石英玻璃，它是由与添加剂一起石英砂或石晶体熔融，作为添加剂，至少加入Neodymaluminat（NdAlO3）。