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公开(公告)号：CN107267805A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710206398.8
申请日：2017-03-31
Applicant: 捷客斯金属株式会社
Abstract: 提供在强度提高的同时，蚀刻后的表面凹凸降低的Cu-Ni-Si系铜合金条及其制备方法。含有Ni：1.5~4.5质量%、Si：0.4~1.1质量%的Cu-Ni-Si系铜合金条，电导率为30%IACS以上，拉伸强度为800MPa以上，在将以与包含晶体的[001]取向和材料的ND方向的面垂直的方向为轴的旋转角标记为Φ，将以ND方向为轴的旋转角标记为φ1，将以[001]方向为轴的旋转角标记为φ2的情况下，对于作为通过以ND轴为旋转轴只旋转φ1后，为了使ND轴和z轴一致而只旋转Φ，最后围绕[001]轴只旋转φ2，由此材料的ND、TD、RD与晶体的[001]、[010]、[100]一致的角度的组的欧拉角(φ1，Φ，φ2)，所有欧拉角的晶体取向的极密度均为12以下。
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公开(公告)号：CN107207356A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680006701.3
申请日：2016-02-25
Applicant: 捷客斯金属株式会社
IPC: C04B35/453 , C04B35/00 , C23C14/08 , C23C14/34 , H01B5/14
Abstract: 一种烧结体，其特征在于，包含锌(Zn)、镓(Ga)、硅(Si)和氧(O)，Zn含量按ZnO换算为5～60摩尔％，Ga含量按Ga2O3换算为8.5～90摩尔％，Si含量按SiO2换算为0～45摩尔％，在将按ZnO换算的Zn含量设为A(摩尔％)、将按Ga2O3换算的Ga含量设为B(摩尔％)、将按SiO2换算的Si含量设为C(摩尔％)时，满足A≤(B+2C)的条件，且相对密度为90％以上。本发明的课题在于即使在通过DC溅射进行成膜时不向气氛中引入氧气，也有效地得到高透射率且低折射率的非晶膜。
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公开(公告)号：CN107109634A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201680004783.8
申请日：2016-05-17
Applicant: 捷客斯金属株式会社
Abstract: 一种钽溅射靶，其中，使用背散射电子衍射法观察作为与靶的溅射面垂直的截面的轧制面法线方向ND时，{100}面沿ND取向的晶粒的面积率为30％以上。本发明的课题在于提供在高功率溅射情况下能够适当控制成膜速度的钽溅射靶。在使用这样的溅射靶进行溅射成膜时，即使对于微细布线而言，也能够形成膜厚均匀性优良的薄膜，并且能够提高薄膜形成工艺的生产率。
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公开(公告)号：CN107075666A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580052685.7
申请日：2015-09-28
Applicant: 捷客斯金属株式会社
IPC: C23C14/34 , C22C5/04 , C22C14/00 , C22C19/03 , C22C19/07 , C22C22/00 , C22C27/00 , C22C27/02 , C22C27/04 , C22C27/06
CPC classification number: C23C14/3414 , C22C1/045 , C22C5/04 , C22C14/00 , C22C19/03 , C22C19/07 , C22C22/00 , C22C27/00 , C22C27/02 , C22C27/04 , C22C27/06 , C23C14/165 , H01J37/3426
Abstract: 本发明提供一种溅射靶用母合金，其为用于溅射靶的母合金，其特征在于，将构成母合金的元素设为以下的X1、X2、Y1、Y2、Y3时，X1：Ta或W中的一种或两种，X2：Ru、Mo、Nb或Hf中的一种以上，Y1：Cr或Mn中的一种或两种，Y2：Co或Ni中的一种或两种，Y3：Ti或V中的一种或两种，所述母合金包含上述构成元素的X1‑Y1、X1‑Y2、X1‑Y3、X2‑Y1、X2‑Y2中的任一种组合。由此具有下述优良效果：能够得到缺陷少、高密度且均匀的合金组成的靶，并且通过使用该靶，可以提供能够以高速进行均质且粉粒少的合金阻挡膜的成膜的烧结体溅射靶。
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公开(公告)号：CN106536787A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201580038825.5
申请日：2015-07-16
Applicant: 捷客斯金属株式会社
CPC classification number: H01J37/3435 , C22C27/04 , C23C14/3407 , H01J37/3417
Abstract: 本发明提供一种背衬板，其为将防腐蚀性的金属与Mo或Mo合金接合而得到的背衬板，其中，在该Mo或Mo合金制背衬板的将要冷却的一侧(冷却面侧)的表面具备具有背衬板的总厚度的1/40～1/8的厚度的、通过接合选自Cu、Al或Ti中的一种以上金属或它们的合金而得到的包含防腐蚀性金属的层。本发明还提供将该Mo或Mo合金制背衬板与包含低热膨胀材料的靶接合而得到的溅射靶-背衬板组件。特别是，在半导体用途中，推进微细化，溅射时的粉粒的控制变得非常严格。本申请发明的课题在于，解决在包含低热膨胀材料的溅射靶的翘曲和Mo或Mo合金制背衬板的耐腐蚀性方面产生的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106133185A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201580016385.3
申请日：2015-03-12
Applicant: 捷客斯金属株式会社
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F1/0003 , B22F3/15 , B22F5/003 , B22F9/082 , B22F2301/15 , B22F2998/10 , C22C1/0433 , C22C19/03 , C23C14/14 , G11B5/647 , G11B5/851 , H01J37/3426 , H01J37/3429 , H01J37/3491 , B22F3/14
Abstract: 一种Ni‑P合金溅射靶的制造方法，其特征在于，将P含量为15重量％～21重量％、剩余部分包含Ni和不可避免的杂质的Ni‑P合金熔化，并进行雾化加工，从而制造平均粒径100μm以下的Ni‑P合金雾化加工粉，然后将纯Ni雾化粉与该Ni‑P合金雾化加工粉混合，并对其进行热压。本发明的课题在于提供一种与目标组成的偏离小的Ni‑P合金溅射靶的制造方法。
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公开(公告)号：CN114765968B
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202180006563.X
申请日：2021-06-25
Applicant: 捷客斯金属株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种铜合金粉末及其制造方法，该铜合金粉末为用于基于激光束方式的增材制造的金属粉末，并且该铜合金粉末能够进一步提高激光吸收率，并且能够抑制通过颈缩进行的热传导。一种铜合金粉末，所述铜合金粉末含有合计15重量％以下的Cr、Zr和Nb中的任意一种以上元素，并且剩余部分包含Cu和不可避免的杂质，其特征在于，在所述铜合金粉末上形成有含有Si原子的覆膜，并且在形成有所述覆膜的铜合金粉末中，Si浓度为5重量ppm以上且700重量ppm以下。
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公开(公告)号：CN112955932B
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN201980071637.0
申请日：2019-10-30
Applicant: 捷客斯金属株式会社
Abstract: 本发明提供一种可在短时间内判别电子/电气设备部件屑中的部件屑的组成的电子/电气设备部件屑的组成解析装置、电子/电气设备部件屑的组成解析方法及使用它们的电子/电气设备部件屑的处理方法。电子/电气设备部件屑的组成解析装置，具备：分类数据存储单元(111)，其存储用于从拍摄由多个部件种类构成的电子/电气设备部件屑而得的图像中提取多个部件种类的图像并按照多个部件种类的每种进行分类的分类数据；分类单元(101)，其基于分类数据从拍摄电子/电气设备部件屑而得的图像中提取多个部件种类的图像并按照多个部件种类的每种进行分类；及解析单元(103)，其对由分类单元
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公开(公告)号：CN115433826A
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202211079551.2
申请日：2018-08-01
Applicant: 捷客斯金属株式会社
Abstract: 本发明的锂化合物的溶解方法中，使锂化合物接触水或酸性溶液，并且与上述锂化合物分开地另行向上述水或酸性溶液中供给碳酸根离子而产生碳酸，使锂化合物与上述碳酸反应而生成碳酸氢锂。
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公开(公告)号：CN111886350B
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN201980019391.2
申请日：2019-03-18
Applicant: 捷客斯金属株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够增大在冶炼工序中处理的电子电气设备部件屑的处理量、且能够高效地回收贵重金属的电子电气设备部件屑的处理方法。电子电气设备部件屑的处理方法包括：从电子电气设备部件屑去除粉状物和薄膜状部件屑的工序1；从去除了粉状物和薄膜状部件屑的电子电气设备部件屑浓缩合成树脂类及基板的工序2；以及从在工序2中得到的浓缩物浓缩含有贵重金属的基板的工序3。
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