配线电路基板
    122.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1976556A

    公开(公告)日:2007-06-06

    申请号:CN200610163957.3

    申请日:2006-11-30

    Abstract: 为了提供通过简易的层结构可减小传输损失、并可以防止在金属箔和绝缘层之间出现离子迁移现象、使金属箔与绝缘层的粘合性以及导体的导电性提高、长期可靠性优良的配线电路基板,准备金属支持基板,在该金属支持基板上通过溅射或电解镀形成第1金属薄膜,在该第1金属薄膜上通过电解镀形成金属箔,在金属箔以及金属支持基板上通过化学镀或者溅射形成第2金属薄膜,在该第2金属薄膜上形成绝缘基底层,在绝缘基底层上形成作为配线电路图案的导体图案,为覆盖导体图案,在绝缘基底层上形成覆盖绝缘层。

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