公开(公告)号：WO2015187219A8

公开(公告)日：2017-01-05

申请号：PCT/US2015018553

申请日：2015-03-03

Applicant: SIGRAY INC

Inventor： LEWIS SYLVIA JIA YUN ,  YUN WENBING ,  KIRZ JANOS ,  LYON ALAN FRANCIS

IPC: G01N23/083 ,  G01T1/16

CPC classification number: G01N23/063 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064 ,  H01J35/08 ,  H01J2235/086 ,  H01J2235/087

Abstract: This disclosure presents systems for x-ray absorption fine structure (XAFS) measurements that have x-ray flux and flux density several orders of magnitude greater than existing compact systems; for applications of x-ray absorption near-edge spectroscopy (XANES) or extended x-ray fine absorption structure (EXFAS) spectroscopy. The higher brightness is achieved using designs for x-ray targets that comprise aligned microstructures of x-ray generating materials fabricated in close thermal contact with a substrate having high thermal conductivity. This allows for bombardment with higher electron density and/or higher energy electrons, leading to greater x-ray brightness and high flux. The high brightness x-ray source is coupled to an x-ray reflecting optical system to collimate the x-rays, and a monochromator, which selects the exposure energy. Absorption spectra of samples using the high flux monochromatic x-rays can be made using standard detection techniques.

Abstract translation: 本公开提供了具有比现有紧凑系统大几个数量级的x射线通量和通量密度的x射线吸收精细结构（XAFS）测量系统; 用于X射线吸收近边缘光谱（XANES）或扩展X射线精细吸收结构（EXFAS）光谱学的应用。 使用包括与具有高导热性的基板紧密热接触制造的x射线产生材料的对准微结构的x射线靶的设计来实现更高的亮度。 这允许用更高电子密度和/或更高能量的电子进行轰击，导致更大的x射线亮度和高通量。 高亮度x射线源耦合到x射线反射光学系统以准直x射线，以及选择曝光能量的单色仪。 使用高通量单色x射线的样品的吸收光谱可以使用标准检测技术进行。

公开(公告)号：WO2016166721A1

公开(公告)日：2016-10-20

申请号：PCT/IB2016/052165

申请日：2016-04-15

Applicant: ISTITUTO NAZIONALE DI ASTROFISICA

Inventor： BASSO, Stefano ,  CIVITANI, Marta Maria ,  PARESCHI, Giovanni

IPC: C03B23/035 ,  C03B40/00 ,  G21K1/06

CPC classification number: G02B17/006 ,  C03B23/0357 ,  C03B40/005 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/10 ,  G02B17/06 ,  G21K1/06 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/064

Abstract: Method for manufacturing an optical unit (1) comprising a plurality of glass-sheets (2) having an aspherical shape, arranged superimposed and spaced apart to form a stack (10), comprising the steps of: - arranging either a pre-bent or a flat glass-sheet (2) on a reference surface (5) having the geometry desired to be reproduced; - cold-deforming said glass-sheet (2) so as to adhere it onto the reference surface (5); - integrating said glass-sheet (2) with a preceding element (4, 2) of said stack (10) in a predetermined relative position; and - repeating the preceding steps till stack completion. The integration step comprises fastening said glass-sheet (2) in a position spaced from the preceding element (4, 12) of the stack (10) by means of bars (3) arranged spaced apart from one another.

Abstract translation: 一种用于制造光学单元（1）的方法，包括多个玻璃板（2），该玻璃板（2）具有非球面形状，被重叠并间隔布置以形成叠层（10），包括以下步骤： - 将预弯曲或 在具有希望再现的几何形状的基准表面（5）上的平板玻璃板（2）; - 将所述玻璃板（2）冷变形以将其粘附到所述参考表面（5）上; - 将所述玻璃板（2）与所述堆叠（10）的先前元件（4,2）预定相对位置一体化; 和 - 重复前述步骤直到堆叠完成。 整合步骤包括通过彼此间隔布置的杆（3）将所述玻璃板（2）紧固在与所述堆叠（10）的先前元件（4,12）间隔开的位置。

公开(公告)号：WO2015026824A1

公开(公告)日：2015-02-26

申请号：PCT/US2014/051688

申请日：2014-08-19

Applicant: REVERA INCORPORATED

Inventor： FANTON, Jeffrey T. ,  SMEDT, Rodney ,  SCHUELER, Bruno W. ,  REED, David A.

IPC: G01N23/22 ,  G01N23/227 ,  H01J49/48 ,  H01J37/256

CPC classification number: G01N23/20 ,  B23Q17/20 ,  G01N23/2273 ,  G21K1/06 ,  G21K2201/064 ,  H01J37/256 ,  Y10T29/49764 ,  Y10T29/49769 ,  Y10T29/49771 ,  Y10T29/53022

Abstract: Methods and systems for fabricating platelets of a monochromator for X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) are disclosed. For example, a method of fabricating a platelet of a monochromator for X-ray photoelectron spectroscopy involves placing a crystal on a stage of an X-ray measuring apparatus, the crystal having a top surface. The method also involves measuring, by X-ray reflection, an orientation of a crystal plane of the crystal, the crystal plane beneath the top surface of the crystal and having a primary axis. The method also involves measuring a surface angle of the top surface of the crystal by measuring a light beam reflected from the top surface of the crystal.

Abstract translation: 公开了用于制造用于X射线光电子能谱（XPS）的单色仪的血小板的方法和系统。 例如，制造用于X射线光电子能谱的单色仪的血小板的方法包括将晶体放置在X射线测量装置的台上，该晶体具有顶面。 该方法还包括通过X射线反射测量晶体的晶面的取向，晶体的顶表面下方的晶面并具有主轴。 该方法还包括通过测量从晶体顶表面反射的光束来测量晶体顶表面的表面角度。

公开(公告)号：WO2014092073A1

公开(公告)日：2014-06-19

申请号：PCT/JP2013/083064

申请日：2013-12-10

Applicant: 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構

Inventor： 松下　正 ,  フォグリ　ヴォルフガング ,  白澤　徹郎 ,  ▲高▼橋　敏男 ,  荒川　悦雄

IPC: G01N23/20

CPC classification number: G01N23/20008 ,  G01N23/20 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

Abstract: 　逆格子空間での散乱強度分布を短時間に測定可能な散乱強度分布の測定方法及び測定装置を提供すること。Ｘ線源（１０１）から放射されるＸ線を、試料（ＳＡ）の表面近傍において集束させるようにＸ線光学素子（１０２）で反射させ、複数の光路を経て集束される単色化されたＸ線の各光路と基準面とがなす角と、基準面の垂線と各光路の中心に位置する光路を含む面とがなす角との間に相関のある状態で、単色化されたＸ線を試料に対して各光路に応じて異なる視射角（ω）で一度に入射させ、試料で散乱される単色化されたＸ線の散乱強度を２次元検出器（１０３）で検出し、２次元検出器で検出される散乱強度分布及び相関に基づいて、逆格子空間での散乱強度分布を算出することを特徴とする。

Abstract translation: 本发明提供一种测量散射强度分布的方法和装置，其能够快速测量互逆格子空间中的散射强度分布。 使用X射线光学元件（102）使从X射线源（101）射出的X射线被聚焦在样本（SA）的表面附近。 在由参考表面形成的角度与通过光路聚焦的单色X射线的多个光路中的每一个之间存在相关性的状态以及由基准表面的法线形成的角度和包括光 路径位于光路的中心，使单色X射线同时以与各个光路不同的扫掠角（ω）撞击在样本上。 使用二维检测器（103）检测从样本散射的单色X射线的散射强度。 基于由二维检测器检测的散射强度分布和相关性计算互逆格子空间中的散射强度分布。

公开(公告)号：WO2014068689A1

公开(公告)日：2014-05-08

申请号：PCT/JP2012/078092

申请日：2012-10-31

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 阿南　義弘 ,  高口　雅成

IPC: G21K1/06 ,  G01N23/225 ,  H01J37/252

CPC classification number: H01J37/244 ,  G01N23/2252 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/064 ,  H01J37/252 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2442 ,  H01J2237/2445

Abstract: 電子顕微鏡に波長分散型Ｘ線分析装置を備えた電子線分析装置において、評価対象の元素に対して高感度且つ高精度な分析を短期間で行う。 各々のＸ線に対してＸ線反射率が最大となる複数パターンを形成した１つの回折格子を電子線分析装置に設け、エネルギー基準となるＸ線および評価対象のＸ線スペクトルを同時に検出する。回折格子の設置・交換によるＸ線エネルギーの位置ズレをエネルギー基準のＸ線スペクトルにより校正し、短期間で高感度且つ高精度な分析が可能となる。

Abstract translation: 为了在电子显微镜中在具有波长色散X射线分析单元的电子束分析装置中，在短时间内以高灵敏度和高精度分析要评估的元件，一个衍射光栅，其中多个图案具有 在电子束分析装置中形成相对于各X射线的最大X射线反射率，同时检测用作能量基准的X射线和待评价的X射线光谱。 通过作为能量基准的X射线光谱校正由于衍射光栅的安装和变化引起的X射线能量的位置偏移，从而能够在短时间内进行高灵敏度和高精度分析。

公开(公告)号：WO2013040582A3

公开(公告)日：2013-05-10

申请号：PCT/US2012055799

申请日：2012-09-17

Applicant: PHOSEON TECHNOLOGY INC ,  CHILDERS DOUG

Inventor： CHILDERS DOUG

IPC: G02B6/44 ,  C03C25/12

CPC classification number: G21K5/00 ,  C03C25/12 ,  F26B3/28 ,  F26B13/00 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/065

Abstract: A device for UV curing a coating or printed ink on an workpiece such as an optical fiber comprises dual elliptical reflectors arranged to have a co-located focus. The workpiece is centered at the co-located focus such that the dual elliptical reflectors are disposed on opposing sides of the workpiece. Two separate light sources are positioned at a second focus of each elliptical reflector, wherein light irradiated from the light sources is substantially concentrated onto the surface of the workpiece at the co-located focus.

Abstract translation: 用于UV固化诸如光纤的工件上的涂层或印刷油墨的装置包括布置成具有共同定焦点的双椭圆形反射器。 工件在同一焦点处居中，使得双椭圆形反射器设置在工件的相对侧上。 两个单独的光源被定位在每个椭圆形反射器的第二焦点处，其中从光源照射的光在共同定位的焦点处基本集中在工件的表面上。

公开(公告)号：WO2013048913A1

公开(公告)日：2013-04-04

申请号：PCT/US2012/056752

申请日：2012-09-21

Applicant: REVERA INCORPORATED ,  SCHUELER, Bruno W. ,  REED, David A. ,  FANTON, Jeffrey Thomas ,  SMEDT, Rodney

Inventor： SCHUELER, Bruno W. ,  REED, David A. ,  FANTON, Jeffrey Thomas ,  SMEDT, Rodney

IPC: G01N23/223 ,  G01N23/225

CPC classification number: G21K1/06 ,  G01N23/223 ,  G01N23/2273 ,  G01N2223/61 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

Abstract: Systems and methods for characterizing films by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) are disclosed. For example, a system for characterizing a film may include an X-ray source for generating an X-ray beam having an energy below the k-edge of silicon. A sample holder may be included for positioning a sample in a pathway of the X-ray beam. A first detector may be included for collecting an XPS signal generated by bombarding the sample with the X-ray beam. A second detector may be included for collecting an X-ray fluorescence (XRF) signal generated by bombarding the sample with the X-ray beam. Monitoring/estimation of the primary X-ray flux at the analysis site may be provided by X-ray flux detectors near and at the analysis site. Both XRF and XPS signals may be normalized to the (estimated) primary X-ray flux to enable film thickness or dose measurement without the need to employ signal intensity ratios.

Abstract translation: 公开了通过X射线光电子能谱（XPS）表征膜的系统和方法。 例如，用于表征胶片的系统可以包括用于产生具有低于硅的k边缘的能量的X射线束的X射线源。 可以包括样品保持器以将样品定位在X射线束的通路中。 可以包括第一检测器以收集通过用X射线束轰击样品而产生的XPS信号。 可以包括第二检测器，用于收集通过用X射线束轰击样品而产生的X射线荧光（XRF）信号。 在分析现场的X射线通量探测器附近和分析现场可以提供监测/估计分析现场的主要X射线通量。 XRF和XPS信号都可以归一化为（估计的）初级X射线通量，以实现膜厚度或剂量测量，而不需要使用信号强度比。

公开(公告)号：WO2012023141A1

公开(公告)日：2012-02-23

申请号：PCT/IL2011/000675

申请日：2011-08-18

Applicant: BURSHTEIN, Zeev ,  BAR-DAVID, Aharon ,  HAREL, Zeev ,  CONVERGENT RADIOTHERAPY, INC

Inventor： BURSHTEIN, Zeev ,  BAR-DAVID, Aharon ,  HAREL, Zeev

IPC: G21K1/06

CPC classification number: G21K1/06 ,  A61N5/1042 ,  A61N5/1084 ,  A61N2005/1091 ,  A61N2005/1095 ,  G21K1/046 ,  G21K5/04 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: An X-ray system is arranged for providing X-ray exposure to a target volume. The aforesaid X-ray system comprises an X-ray source and at least one focusing lens. The provided exposure is distributed over a volume of the target in a substantially uniform manner.

Abstract translation: 布置X射线系统以提供对目标体积的X射线曝光。 上述X射线系统包括X射线源和至少一个聚焦透镜。 所提供的曝光以基本均匀的方式分布在目标体积上。

公开(公告)号：WO2011097115A1

公开(公告)日：2011-08-11

申请号：PCT/US2011/022724

申请日：2011-01-27

Applicant: RIGAKU INNOVATIVE TECHNOLOGIES, INC ,  VERMAN, Boris ,  YOUNG, Michael ,  JIANG, Licai

Inventor： VERMAN, Boris ,  YOUNG, Michael ,  JIANG, Licai

IPC: G21K1/06 ,  H05G1/02

CPC classification number: G21K1/06 ,  B82Y10/00 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

Abstract: A multi-beam x-ray system includes an x-ray source (24) which emits x-rays and a housing with a first part and a second part. The second part is moveable relative to the first part and includes a plurality of optics (20, 22, 120, 122) of different performance characteristics. Each optic, through the movement of the second part relative to the first part, is positioned to a working position so that the optic receives the x-rays from the x-ray source and directs the x-rays with the desired performance attributes to a desired location (30).

Abstract translation: 多光束X射线系统包括发射x射线的X射线源（24）和具有第一部分和第二部分的壳体。 第二部分可相对于第一部分移动，并且包括具有不同性能特征的多个光学器件（20,22，120，122）。 每个光学元件通过第二部分相对于第一部分的移动被定位到工作位置，使得光学器件接收来自x射线源的x射线，并将具有所需性能属性的x射线引导到 所需位置（30）。

公开(公告)号：WO2011081182A1

公开(公告)日：2011-07-07

申请号：PCT/JP2010/073716

申请日：2010-12-28

Applicant: 株式会社ジェイテック ,  国立大学法人大阪大学 ,  山内 和人 ,  木村 隆志 ,  津村 尚史

Inventor： 山内　和人 ,  木村　隆志 ,  津村　尚史

IPC: G21K1/06 ,  G02B5/10

CPC classification number: G21K1/06 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067 ,  Y10T29/42

Abstract: 【課題】　熱膨張係数の異なる材質の積層構造で、ミラー製造時の温度差に起因する歪による表面形状の加工誤差と、ナノ集光作業時の設置環境条件に起因する歪による表面形状の誤差を解消し、ｎｍオーダーの形状精度を実現し、Ｘ線ビームを理想波面に変更し、また焦点距離可変な反射面形状制御ミラー装置を提供する。 【解決手段】　基板１の表面中央部に帯状のＸ線反射面２を形成し、Ｘ線反射面の両側に沿って基準平面３を形成し、基板の両側部で少なくとも表裏一面に複数の圧電素子４をＸ線反射面の長手方向に並べて基板に接合した反射面形状制御ミラーと、各圧電素子に電圧を印加する多チャンネルのコントロールシステムとからなる。

Abstract translation: 提供了一种用于控制反射表面形状的反射镜装置，其具有由具有不同热膨胀系数的材料形成的层压结构; 消除了由于反射镜制造期间的温度差引起的变形而引起的表面形状的处理误差，以及由纳米光聚焦过程中的安装环境条件引起的变形引起的表面形状误差 ; 达到nm阶形状精度; 将X射线束变为理想波前; 并可以改变焦距。 该装置由以下部件构成：用于控制在基板（1）的表面的中心形成带状X射线反射面（2）的反射面的形状的反射镜，基准面（3） 沿着X射线反射面的两侧形成，并且多个压电元件（4）沿着X射线反射器的长度方向接合并布置在基板的正面和背面以及沿着基板的整个边缘 表面; 以及向每个压电元件（4）施加电压的多通道控制系统。