公开(公告)号：KR101152035B1

公开(公告)日：2012-06-11

申请号：KR1020070010441

申请日：2007-02-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 교오다히데하루 ,  요시하라고오스께 ,  야마모또다로오

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/11 ,  G03F7/38

Abstract: 본 발명의 과제는 레지스트막이 형성된 기판 상에 발수성의 보호막을 형성하고, 그 표면에 액층을 형성하여 액침 노광한 후의 기판에 현상 처리를 행하는 데 있어서, 현상 결함을 저감시키는 동시에 패턴의 선폭의 제어성을 향상시키는 것이다.
우선 레지스트막의 표면에 액층을 형성한 상태에서 노광한 후의 기판으로부터 보호막을 제거한다. 다음에 기판을 가열 처리한 후 기판의 현상 처리를 행한다. 이 태양에 있어서, 상기 보호막을 제거하기 전에 노광 후의 기판의 표면을 세정액에 의해 세정하거나, 혹은 상기 보호막을 제거한 후, 기판을 가열 처리하기 전에 기판의 표면을 세정액에 의해 세정한다.
반도체 웨이퍼, 인터페이스부, 노광 장치, 보호막 형성 유닛, 제어부

公开(公告)号：KR1020150016899A

公开(公告)日：2015-02-13

申请号：KR1020140097311

申请日：2014-07-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스케 ,  교오다히데하루 ,  무타고시 ,  야마모토다로 ,  다키구치야스시 ,  후쿠다마사히로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/3021 ,  B05C5/02 ,  B05C5/027 ,  B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  B05D1/26 ,  G03F7/30 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/0273

Abstract: 노광 후의 기판을 기판 보유 지지부에 수평하게 보유 지지하는 공정과, 기판의 일부에 현상액 노즐로부터 현상액을 공급하여 액 저류부를 형성하는 공정과, 기판을 회전시키는 공정과, 회전하는 상기 기판에 있어서의 현상액의 공급 위치가 당해 기판의 직경 방향을 따라서 이동하도록, 상기 현상액 노즐을 이동시켜서 상기 액 저류부를 기판의 전체면에 확산시키는 공정과, 상기 액 저류부를 기판의 전체면에 확산시키는 공정에 병행하여 행해져, 상기 현상액 노즐과 함께 이동하고, 상기 기판에 대향하는 면이 상기 기판의 표면보다도 작은 접촉부를, 상기 액 저류부에 접촉시키는 공정을 구비하도록 현상을 행한다. 이 방법에 의해 기판 밖으로 떨어지는 액량을 억제할 수 있다. 또한, 기판의 회전수를 낮출 수 있으므로 액 튐이 억제된다. 또한 현상액이 교반됨으로써 처리량을 높일 수 있다.

Abstract translation: 执行的是一种显影方法，其包括：在基板保持支撑部分中水平地支撑暴露的基板的过程，将显影溶液从显影溶液喷嘴供应到基板的一部分并形成液体存储部分的步骤， 旋转基板，移动显影液喷嘴并将液体储存部分扩散到液体储存部分的整个表面的步骤，以允许在旋转基板中供应显影液的位置沿相应的直径方向移动 基板，并且通过进行将液体储存部扩散到基板的整个表面的工序，使液体储存部分接触移动显影液喷嘴的接触部分的过程，并且具有面向基板的表面并且更小 比底物的。 通过该方法，可以控制从基板滴落的液体的量。 此外，可以减小衬底的RPM，从而可以防止液体散射。 此外，通过搅拌显影液来提高产量。

公开(公告)号：KR101337840B1

公开(公告)日：2013-12-06

申请号：KR1020070124236

申请日：2007-12-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 혼따께고오이찌 ,  에노모또마사시 ,  교오다히데하루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67225

Abstract: 본 발명의 과제는 액침 노광 처리의 전 및/또는 후에 효율적이고 또한 적절한 조건에서 기판을 세정할 수 있는 액침 노광용 세정 장치를 제공하는 것이다.
기판의 표면에 형성된 레지스트막에 액체를 통해 노광 처리를 실시하는 액침 노광 전 및/또는 후에, 기판을 세정하는 액침 노광용 세정 장치이며, 기판에 대해 세정 처리를 행하기 위한 기구를 구비한 세정 장치 본체와, 세정 장치 본체의 각 구성부를 제어하는 제어부를 구비하고, 제어부는 기판에 형성된 막의 표면 상태에 관한 파라미터의 값과, 그 파라미터의 값에 대응하여 적절한 세정을 행할 수 있는 하드 조건 및/또는 처리 조건과의 관계가 기억되고, 기판 상에 형성되어 있는 막의 표면 상태가 입력되었을 때에, 상술한 관계를 기초로 하여 그 표면 상태에 따른 하드 조건 및/또는 처리 조건을 갖는 새로운 처리 레시피를 작성하고, 그 새로운 처리 레시피를 기초로 하여 세정 처리를 행하게 한다.
액침 노광용 세정 장치, 기판, 레지스트막, 처리 레시피, 패턴 형성 장치

公开(公告)号：KR1020080051079A

公开(公告)日：2008-06-10

申请号：KR1020070124236

申请日：2007-12-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 혼따께고오이찌 ,  에노모또마사시 ,  교오다히데하루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67225 ,  B08B3/02 ,  G03F7/70341

Abstract: A cleaning apparatus and a cleaning method for an immersion exposure, a computer program, and a storage medium are provided to improve a substrate cleaning efficiency before and/or after an exposure process by using a new process recipe that is made based on a parameter and a processing condition. A main body(71) of a cleaning apparatus is provided with instruments for performing a cleaning process on a substrate. A controller(72) controls the instruments in the main body. The controller stores a relationship between a parameter with respect to a surface status of a layer formed on the substrate and a hard condition and/or a process condition capable of performing a cleaning process corresponding to the parameter. The controller prepares a new process recipe based on the relationship when a surface status of a layer formed on the substrate is inputted, and direct the instruments to perform a cleaning process based on the new process recipe.

Abstract translation: 提供一种用于浸渍曝光的清洁设备和清洁方法，计算机程序和存储介质，以通过使用基于参数的新的处理配方来提高在曝光处理之前和/或之后的基板清洁效率，以及 处理条件。 清洁装置的主体（71）设置有用于在基板上执行清洁处理的工具。 控制器（72）控制主体中的仪器。 控制器存储关于在基板上形成的层的表面状态的参数与能够执行与参数相对应的清洁处理的硬条件和/或处理条件之间的关系。 当输入基板上形成的层的表面状态时，控制器基于关系准备新的工艺配方，并且基于新的工艺配方引导仪器执行清洁处理。

公开(公告)号：KR1020070079916A

公开(公告)日：2007-08-08

申请号：KR1020070010441

申请日：2007-02-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 교오다히데하루 ,  요시하라고오스께 ,  야마모또다로오

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/11 ,  G03F7/38 ,  G03F7/70925 ,  H01L21/67051

Abstract: A coating and developing method, a coating and developing apparatus and a recording medium are provided to restrain the generation of defects in a developing process and to improve the controllability of CD(Critical Dimension) of a pattern by forming sequentially a protective layer and a liquid layer on a substrate with a resist layer. A resist layer(R) is formed on a substrate(W). A protective layer(D) is formed on the resultant structure in order to protect the resist layer during an exposure process. The protective layer contains a predetermined material with water repellency. A liquid layer(E) is formed on the resist layer. The protective layer is removed from the resultant structure after the exposure process. A heat treatment is performed on the resultant structure. A developing process is then performed thereon.

Abstract translation: 提供涂布和显影方法，涂覆和显影装置和记录介质以限制显影过程中的缺陷的产生并且通过依次形成保护层和液体来提高图案的CD（临界尺寸）的可控性 在具有抗蚀剂层的基板上。 在基板（W）上形成抗蚀剂层（R）。 在所得结构上形成保护层（D），以便在曝光过程中保护抗蚀剂层。 保护层含有防水性的预定材料。 在抗蚀剂层上形成液体层（E）。 在曝光处理之后，从所得到的结构中除去保护层。 对所得结构进行热处理。 然后在其上进行显影处理。