公开(公告)号：KR101038479B1

公开(公告)日：2011-06-02

申请号：KR1020047016139

申请日：2003-04-09

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 멜니츄크스티븐티. ,  파르틀로윌리암엔. ,  포멘코프이고르브이. ,  올리버아이로저 ,  네스리차드엠. ,  보워링노버트 ,  코디킨올레 ,  레티그커티스엘. ,  브루멘스톡게리엠 ,  다이어티모시에스. ,  시몬스로드니디. ,  호프만저지알. ,  존슨알마크

IPC: H05H1/04 ,  H05H1/34 ,  G01J1/00

CPC classification number: H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70916 ,  H01S3/005 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008 ,  H05H1/06

Abstract: 신뢰성있고, 고반복율을 갖는, 제조라인에 알맞는 고에너지 포톤 소스로서, 소망하는 극자외선(EUV) 파장 범위내의 방사 라인을 갖는 원자 엘리먼트를 함유하는 핫 플라즈마는 진공 펌프에서 산출된다. EUV 광원은 유닛은 스테퍼 머신과 같은 리소그래피에 직접적으로 통합된다. 통합된 부품들로는 부재 번호 120으로 표기된 것에 모두 나타난, 정류자, 고체-상태 펄스 파워 유닛의 압축 헤드 및 진공 베셀을 포함한다. 지원 장비는 지원 장비 캐비넷(122)에 위치되고, 러프 진공 펌프 및 고압 워터 펌프는 제3 캐비넷(124)에 위치된다. 상기 펄스 파워 유닛은 버스트 기준으로 20 와트를 초과하고 연속 기준으로 5 와트를 초과하는 비율로 EUV 광을 중간 포커스에 산출하기에 충분한 전위 및 충분한 에너지를 갖는 전기 펄스를 제공한다.
극자외선(EUV), 리소그래피, 펄스 파워, 핫 플라즈마, 활성 재료, 스퍼터링

公开(公告)号：KR101019471B1

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020057001756

申请日：2003-07-30

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 팔론존피. ,  룰존에이. ,  자끄로버트엔. ,  립콘자콥피. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  파르틀로윌리암엔. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  이시하라도시히코 ,  마이스너존 ,  네스리차드엠. ,  멜처폴씨.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/2333 ,  H01S3/036 ,  H01S3/134 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2366

Abstract: 본 발명은 모듈러 고 반복율 2 방전 챔버 자외선을 위한 제어 시스템을 제공한다. 바람직한 실시예에서, 레이저는 제2 방전 챔버에서 증폭되는(12) 초 협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터(10)를 갖춘 제조 라인 머신이다. 2 챔버 가스 방전 레이저 시스템에 특별히 응용된 신규의 제어 특징은 (1) 나노초 타이밍 정밀도를 갖춘, 펄스 에너지 제어 (2) 고속 및 초고속 파장 튜닝을 갖춘 정밀한 펄스 투 펄스 파장 제어 (3) 고속 응답 가스 온도 제어 및 (4) 신규 인식 알고리즘을 갖춘 F
2 주입 제어를 포함한다.
방전, 챔버, 레이저, 가스, 파장, 빔

公开(公告)号：KR1020040032988A

公开(公告)日：2004-04-17

申请号：KR1020047003032

申请日：2002-08-19

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  브라운다니엘제이.,더블유. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  릴로프저먼,이. ,  온켈스에커하드디. ,  베사첼레허브에이. ,  마이어스데이비드더블유. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  파르틀로윌리암엔. ,  포멘코프이고르브이. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  네스리차드엠. ,  스미스스코트티. ,  헐버드윌리암지.

IPC: H01S3/10

CPC classification number: H01S3/2366 ,  G01J9/00 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템(2)이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는(12), 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터(10)의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영여으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬(10A)을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.

公开(公告)号：KR1020040032984A

公开(公告)日：2004-04-17

申请号：KR1020047002982

申请日：2002-08-28

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  브라운다니엘제이.,더블유. ,  베사첼레허브에이. ,  마이어스데이비드더블유. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  파르틀로윌리암엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  다스플래쉬피. ,  앤더슨스튜어트엘. ,  포멘코프이고르브이. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  온켈스에커하드디. ,  네스리차드엠. ,  스미스스코트티. ,  헐버드윌리암지. ,  오이클레스제프리

IPC: H01S3/10

CPC classification number: G01J1/4257 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영역으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.

Abstract translation: 一种注入式模块化气体放电激光系统，能够以大约4,000Hz或更高的脉冲速率和大约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量脉冲激光束。 提供了两个独立的放电室，其中一个是主振荡器的一部分，产生在第二放电室中放大的非常窄带的种子束。 这些室可以分开控制，允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 ArF准分子激光系统中的一个优选实施例被配置为MOPA并且被专门设计用作集成电路光刻的光源。 在优选的MOPA实施例中，每个腔室包括单个切向风扇，该单个切向风扇提供足够的气流以允许通过在比脉冲之间的大约0.25毫秒更少的时间内清除来自放电区域的碎片而以4000Hz或更大的脉冲速率进行操作。 主振荡器配备有线变窄的封装，该封装具有非常快速的调谐反射镜，其能够以4000Hz或更高的重复率以脉冲至脉冲的方式控制中心线波长，精度低于0.2μm。