公开(公告)号：KR1020120097893A

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：KR1020110017430

申请日：2011-02-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김진호 ,  안요한 ,  윤정인 ,  김지영

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

CPC classification number: G03F1/64 ,  B08B7/0042 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/0066 ,  B23K26/032 ,  B23K26/0622 ,  B23K26/142 ,  B23K26/361 ,  B23K2203/56 ,  G03F1/82 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/302

Abstract: PURPOSE: An apparatus and method for cleaning a photo mask are provided to prevent damage to a photo mask by removing pellicle adhesive remnants using laser. CONSTITUTION: A photo mask(1) includes a first region(10) and a second region(20). A pattern(15) is formed on the first region. Pellicle adhesive remnants remain in the second region. A laser provider(200) removes the pellicle adhesive remnants by applying laser to the pellicle adhesive remnants.

Abstract translation: 目的：提供一种用于清洁光罩的设备和方法，以通过使用激光去除防护薄膜组件残留物来防止对光罩的损坏。 构成：光掩模（1）包括第一区域（10）和第二区域（20）。 在第一区域上形成图案（15）。 薄膜胶粘剂残留在第二区域。 激光供应商（200）通过对防护薄膜组件残留物施加激光来去除防护薄膜胶粘剂残留物。

公开(公告)号：KR1020090079036A

公开(公告)日：2009-07-21

申请号：KR1020080004955

申请日：2008-01-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 류주아 ,  공정흥 ,  안요한 ,  이명기 ,  이양구 ,  진훤 ,  하헌환

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027 ,  H01L21/683

CPC classification number: B08B1/007 ,  B08B1/04 ,  B08B3/12 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/3046 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/6833

Abstract: A substrate processing apparatus, an exposure apparatus, and a cleaning method of a cleaning tool are provided to minimize a defocusing effect due to particles on a stage in an exposure process by improving a structure thereof. A substrate processing apparatus includes a process chamber(100), a chuck member(200), a chuck cleaning member(400), and a tool cleaning member(500). The process chamber provides a space for performing a substrate processing process. The chuck member is installed at the inside of the process chamber. A substrate is loaded on the chuck member. The chuck cleaning member is arranged at one side of the chuck member. The chuck cleaning member includes a cleaning tool(410) for removing foreign materials from a substrate loading surface of the chuck member. The tool cleaning member is used for cleaning the cleaning tool.

Abstract translation: 提供基板处理装置，曝光装置和清洁工具的清洁方法，以通过改善其结构来最小化曝光过程中的台上的颗粒的散焦效应。 基板处理装置包括处理室（100），卡盘构件（200），卡盘清洁构件（400）和工具清洁构件（500）。 处理室提供用于执行基板处理过程的空间。 卡盘构件安装在处理室的内部。 基板被装载在卡盘构件上。 卡盘清洁部件布置在卡盘部件的一侧。 卡盘清洁构件包括用于从卡盘构件的基板装载表面去除异物的清洁工具（410）。 工具清洁部件用于清洁清洁工具。

公开(公告)号：KR100832107B1

公开(公告)日：2008-05-27

申请号：KR1020070016070

申请日：2007-02-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이옥선 ,  최형석 ,  안요한 ,  김지영

IPC: H01L21/304

CPC classification number: G03F1/82 ,  G01N2015/0687

Abstract: A contamination analyzing apparatus and method and a reticle cleaning facility and method using the apparatus are provided to minimize contact of other surface, except for the detection surface, with deionized water by facing the detection surface downwards. A sampling module(22) contacts the detection surface of a target object with a liquid to extract a sampling liquid. An analyzer analyzes contamination remaining on the detection surface of the target object based on the sampling liquid. The sampling module has a reservoir(200) having a space(220) for receiving the detection surface of the target object, and a liquid supply nozzle(520) for supplying the liquid to the space. The sampling module is isolated from an exterior by a chamber having a housing and a door opening and closing a passage formed in the housing.

Abstract translation: 提供污染分析装置和方法以及使用该装置的掩模版清洁设备和方法，以通过面向检测表面向下使去离子水与除了检测表面之外的其它表面的接触最小化。 采样模块（22）用液体接触目标物体的检测表面以提取采样液体。 分析器基于取样液体分析目标物体的检测表面上残留的污染物。 采样模块具有储存器（200），其具有用于接收目标物体的检测表面的空间（220）和用于将液体供应到该空间的液体供应喷嘴（520）。 采样模块通过具有壳体和门打开并关闭形成在壳体中的通道的室与外部隔离。

公开(公告)号：KR1020070115471A

公开(公告)日：2007-12-06

申请号：KR1020060049967

申请日：2006-06-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 문경록 ,  최형석 ,  안요한 ,  윤태식 ,  류주아

IPC: H01L21/02

CPC classification number: B01D25/02 ,  B01D2201/56 ,  H01L21/02

Abstract: A filter interface module is provided to restrain a FOUP(Front-Opening-Unified-Pod) leak and to secure reliability of a FOUP inner contamination monitoring by using the filter and a groove for air tight. In a filter interface module combined with a filter(100). A ring-shaped body has a space to which air in the wafer storing apparatus passes via the filter. A groove(230) is formed on the body to implement an air-tight coupling with the filter. A part of the filter is inserted into the groove. The filter is provided with a vertical wall(110) contacting to an upper surface of the body.

Abstract translation: 提供了一个过滤器接口模块，用于限制FOUP（Front-Opening-Uni​​fied-Pod）泄漏，并通过使用过滤器和一个用于气密的槽来确保FOUP内部污染监测的可靠性。 在与过滤器（100）组合的过滤器接口模块中。 环状体具有通过过滤器通过晶片储存装置中的空气的空间。 在主体上形成有一个凹槽（230），以实现与过滤器的气密耦合。 过滤器的一部分插入槽中。 过滤器设置有与主体的上表面接触的垂直壁（110）。

公开(公告)号：KR1020070070333A

公开(公告)日：2007-07-04

申请号：KR1020050132799

申请日：2005-12-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이옥선 ,  안요한 ,  박경호 ,  김지영

IPC: H01L21/324

CPC classification number: C23C16/4583 ,  C23C16/455 ,  C23C16/46

Abstract: A substrate processing apparatus is provided to prevent the vaporization of a lubricating oil coated on a power transmitting unit and to prevent the vaporized lubricating oil from penetrating into a semiconductor substrate by preventing the latent heat of a boat or an inner tube from being transferred to the power transmitting unit using a cover. A substrate processing apparatus include a furnace for performing a predetermined treatment on a substrate, a boat(110) for supporting a plurality of substrates, a heating unit for heating the substrate in an aiming temperature range at a portion adjacent to the furnace, a transfer unit(120) for loading/unloading the boat to/from the furnace, and a cover. The cover(128) is interposed between the boat and the transfer unit to prevent the latent heat of the boat from being transferred to the transfer unit.

Abstract translation: 提供了一种基板处理装置，用于防止涂覆在动力传递单元上的润滑油的蒸发，并且通过防止船或内管的潜热被转移到半导体基板中来防止蒸发的润滑油渗透到半导体基板中 动力传递单元使用盖。 基板处理装置包括用于对基板进行预定处理的炉，用于支撑多个基板的船（110），用于在与炉附近的部分的瞄准温度范围内加热基板的加热单元，转移 用于将船上/从炉中装载/卸载的单元（120）和盖。 盖（128）插入在船和转印单元之间以防止船的潜热被转移到转印单元。

公开(公告)号：KR100706795B1

公开(公告)日：2007-04-12

申请号：KR1020050075263

申请日：2005-08-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김하나 ,  함동석 ,  안요한 ,  최광민 ,  조창민

IPC: B01D47/02 ,  B01D47/00

CPC classification number: B01D47/14 ,  B01D53/18

Abstract: 본 발명은 공기로부터 오염물질을 제거하는 오염 제어 시스템을 제공한다.
오염 제어 시스템은 기액 접촉에 의해 공기 중의 분자상 오염물질들을 포집하고 이를 아래 방향으로 배출하는 제거기와 제거기가 적셔진 상태로 유지되도록 제거기로 탈이온수를 공급하는 액체 공급기를 가진다. 제거기는 그 측방향으로 공기가 유입되도록 배치되고, 액체 공급기는 제거기의 상부에서 탈이온수를 제거기로 공급하도록 배치된다.
오염 제어 시스템, 분자상 오염 물질, 기액 접촉, 제거기, 액체 공급기

Abstract translation: 本发明提供了一种用于从空气中去除污染物的污染控制系统。

公开(公告)号：KR1020070035275A

公开(公告)日：2007-03-30

申请号：KR1020050089945

申请日：2005-09-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김기두 ,  김혁기 ,  안요한 ,  오형섭 ,  이민선 ,  강진영

IPC: B65D85/48 ,  B65D81/18 ,  B65D81/20

CPC classification number: B65D81/20 ,  B65D81/18 ,  B65D85/38 ,  H01L21/682

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 운송용기에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 웨이퍼 운송용기는 상부용기와 상기 하부용기에 의해 만들어지는 실린더 내부로 청정 가스를 주입하고 불순 가스 및 수분을 배출할 수 있는 가스 입출입 장치를 포함한다. 본 발명에 따른 웨이퍼 운송용기는 가스 입출입 장치를 구비하여 용기 내에 있는 불순 가스 및 수분을 제거할 수 있게 된다.
가스 입출력 장치, 질소

公开(公告)号：KR100479302B1

公开(公告)日：2005-07-05

申请号：KR1019970054559

申请日：1997-10-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 황태진 ,  한윤수 ,  안요한 ,  최재흥

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 캐리어를 이용한 웨이퍼의 이송시 캐리어에 적재된 웨이퍼의 유동을 방지할 수 있는 반도체장치 이송용 캐리어에 관한 것이다. 본 발명의 캐리어는, 다수매의 웨이퍼를 적재하는 캐리어에 상기 웨이퍼를 낱장으로 분리시켜 적재할 수 있도록 상기 캐리어의 양측부에 연속적으로 형성되는 슬롯; 및 상기 웨이퍼의 적재시 상기 웨이퍼가 고정되도록 상기 슬롯과 상기 슬롯에 인접하는 슬롯사이에서 가변할 수 있도록 형성되는 가변고정부를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다. 따라서, 캐리어를 이용한 웨이퍼의 이송시 웨이퍼의 유동으로 인해 웨이퍼가 손상되는 상황 등을 방지할 수 있어 생산성이 향상되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR100490594B1

公开(公告)日：2005-05-19

申请号：KR1020030010164

申请日：2003-02-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임창수 ,  안요한 ,  김태협 ,  임숙희 ,  박선욱 ,  김영민 ,  김현옥

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67393 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67769

Abstract: 외부 오염원으로부터 피 보관체를 안전하게 보관할 수 있는 보관 방법과 보관함 및 스토커를 포함하는 보관 장치가 개시되어 있다. 적어도 하나의 보관함의 외부로부터 가스를 공급하고, 보관함과 연통되는 제1 밸브를 개방한 후, 제1 밸브를 통하여 보관함 내부로 가스를 분사한다. 보관함 내부의 가스 압력을 상승시켜 보관함과 연통되는 제2 밸브를 개방하여 보관함 내부의 가스를 외부로 배출한다. 상기 스토커의 일측은 개방되며, 타측에는 가스 공급관이 설치된다. 스토커에 수용되는 보관함의 일측에는 가스 차단밸브가 장착된 가스 공급부가 설치되고, 타측에는 가스 차단밸브가 장착된 가스 배출부가 설치된다. 보관함 내부에 원활한 가스흐름을 유도함으로써 피 보관체 주위의 오염원을 효과적으로 제거할 수 있으며, 보관함 외부의 오염원이 내부로 유입되는 것도 방지하여 피 보관체를 안전하게 보관할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020050019576A

公开(公告)日：2005-03-03

申请号：KR1020030057426

申请日：2003-08-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임창수 ,  안요한 ,  임숙희 ,  박선욱

IPC: F24F7/06

CPC classification number: B01D46/521 ,  B01D46/002 ,  B01D46/10 ,  B01D53/0407 ,  B01D2256/26 ,  B01D2259/4508 ,  B01D2277/20 ,  B01D2279/51

Abstract: PURPOSE: An air cleaning device and a method are provided to prevent dispersion of pollution by cleaning the partially polluted air and to minimize the reduction of production efficiency generated due to non-operation of equipments for air-cleaning time. CONSTITUTION: An air cleaning device is composed of a housing(10) having an intake unit(12) for sucking the air and an exhaust unit(44) for discharging the internal air to the outside and cutting off an inside from the outer space; a first filter unit(30) positioned adjacently to the air intake unit of the housing and composed of first filters arranged in parallel to remove a first pollutant group from the air sucked through the air intake unit; and a blower(34) mounted in the housing to suck in the external air into the housing. The first filters of the first filter unit are aligned below 90 degrees against the flow direction of the air inserted through the air intake unit.

Abstract translation: 目的：提供一种空气净化装置和方法，用于通过清洁部分污染的空气来防止污染物的分散，并最大限度地减少因空气清洁时间的设备不操作而产生的生产效率。 构成：空气净化装置由具有吸入空气的吸入单元（12）的外壳（10）和将内部空气排出到外部并从外部空间切断的排气单元（44）构成; 第一过滤器单元（30），其与所述壳体的进气单元相邻并且由平行排列的第一过滤器构成，以从通过所述吸气单元吸入的空气中除去第一污染物组; 以及安装在壳体中以将外部空气吸入壳体中的鼓风机（34）。 第一过滤器单元的第一过滤器相对于插入通过进气单元的空气的流动方向对准在90度以下。