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公开(公告)号:GB2488250B
公开(公告)日:2014-02-26
申请号:GB201203583
申请日:2010-11-26
Applicant: IBM
Inventor: CHENG JOY , HINSBERG WILLIAM , WALLRAFF GREGORY MICHAEL , TRUONG HOA , SUNDBERG LINDA KARIN , ITO HIROSHI , SANDERS DANIEL PAUL , KIM HO-CHEOL , NA YOUNG-HYE
Abstract: A method of forming a layered structure comprising a domain pattern of a self-assembled material utilizes a negative-tone patterned photoresist layer comprising non-crosslinked developed photoresist. The developed photoresist is not soluble in an organic casting solvent for a material capable of self-assembly. The developed photoresist is soluble in an aqueous alkaline developer and/or a second organic solvent. A solution comprising the material capable of self-assembly and the organic casting solvent is casted on the patterned photoresist layer. Upon removal of the organic casting solvent, the material self-assembles, thereby forming the layered structure.
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公开(公告)号:AU2021265012A1
公开(公告)日:2022-07-21
申请号:AU2021265012
申请日:2021-03-31
Applicant: IBM , CENTRAL GLASS CO LTD
Inventor: GIAMMONA MAXWELL , KIM JANGWOO , NA YOUNG-HYE , ODA MASAFUMI , ITAKURA TSUBASA , YAMAZAWA SHO , SUZUKI KATSUTOSHI , TAKEDA KAZUNARI
IPC: H01M10/00
Abstract: A rechargeable metal halide battery with an optimized active cathode electrolyte solution has high energy density and does not require charging following fabrication. The optimized active cathode electrolyte solution includes (i) a mixture of a metal halide and its corresponding halogen dissolved in an organic solvent at a concentration ratio greater than 0.5 and (ii) an oxidizing gas. The organic solvent is a nitrile-based compound and/or a heterocyclic compound. Glyme may be added to the organic solvent to improve battery performance.
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13.
公开(公告)号:DE112015002787B4
公开(公告)日:2019-11-14
申请号:DE112015002787
申请日:2015-07-13
Applicant: IBM
Inventor: NA YOUNG-HYE , LEE VICTOR , DUBOIS GERAUD JEAN-MICHEL , MILLER ROBERT DENNIS , SLY JOSEPH
Abstract: Dünnschicht-Kompositmembran (TFC), die eine aktive Schicht auf einer Oberfläche einer Trägermembran aufweist, wobei die Trägermembran ein erstes Oberflächenpotential aufweist, wobei die aktive Schicht einen mehrschichtigen Stapel aus Barrierenschichten aufweist, wobei jede der Barrierenschichten selbstorganisierende Stern-Polymere aufweist, wobei der mehrschichtige Stapel zwei oder mehr aufeinander gebildete Schichtpaare aufweist, wobei jedes Schichtpaar aufweist:a) eine erste geladene Barrierenschicht, wobei die erste geladene Barrierenschicht ein erstes Stern-Polymer mit einem zweiten Oberflächenpotential aufweist, das entgegengesetzt zu dem ersten Oberflächenpotential ist; undb) eine auf der ersten geladenen Barrierenschicht gebildete zweite geladene Barrierenschicht, wobei die zweite geladene Barrierenschicht ein zweites Stern-Polymer mit einem dritten Oberflächenpotential aufweist, das entgegengesetzt zu dem zweiten Oberflächenpotential ist,wobei die erste geladene Barrierenschicht eines ersten Schichtpaars der zwei oder mehr Schichtpaare auf der Oberfläche gebildet ist, wobei die erste geladene Barrierenschicht jedes auf ein gegebenes Schichtpaar nachfolgenden Schichtpaars der zwei oder mehr Schichtpaare auf der zweiten geladenen Barrierenschicht des gegebenen Schichtpaars gebildet ist.
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公开(公告)号:DE112016000378T5
公开(公告)日:2017-09-28
申请号:DE112016000378
申请日:2016-02-09
Applicant: IBM , SAN JOSE STATE UNIV RES FOUND
Inventor: NA YOUNG-HYE , DUBOIS GERAUD JEAN-MICHEL , PIUNOVA VICTORIA , MILLER ROBERT DENNIS , STILLMAN DANIEL , SLY (VERSTORBEN) JOSEPH
Abstract: Eine Dünnfilm-Verbundstoff-(TFC, Thin Film Composite)-Vorwärtsosmose-(FO-)Membran enthält einen porösem Träger mit Oberflächen, die eine hydrophile selbstorganisierte Monoschicht darauf aufweisen. Einer aktive Schicht auf dem Träger ist ausreichend dicht, um eine Ionenart aus einer Flüssigkeit zu entfernen.
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公开(公告)号:DE112015002787T5
公开(公告)日:2017-02-23
申请号:DE112015002787
申请日:2015-07-13
Applicant: IBM
Inventor: DUBOIS GERAUD JEAN-MICHEL , MILLER ROBERT DENNIS , SLY JOSEPH , NA YOUNG-HYE , LEE VICTOR
Abstract: Eine Dünnschicht-Kompositmembran (TFC) beinhaltet eine aktive Schicht (26) auf einem Träger (24). Die aktive Schicht (26) beinhaltet wenigstens 8 Barrierenschichten (28) aus Stern-Polymeren, die jeweils wenigstens drei lineare Polymere aufweisen, die an einem zentralen Kern angebaut sind. Jede der Barrierenschichten (28) weist eine Dicke zwischen 5 und 50 nm auf, und die Barrierenschichten (28) weisen eine alternierende Ladung auf.
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公开(公告)号:GB2488250A
公开(公告)日:2012-08-22
申请号:GB201203583
申请日:2010-11-26
Applicant: IBM
Inventor: CHENG JOY , HINSBERG WILLIAM , WALLRAFF GREGORY MICHAEL , TRUONG HOA , SUNDBERG LINDA KARIN , ITO HIROSHI , SANDERS DANIEL PAUL , KIM HO-CHEOL , NA YOUNG-HYE
Abstract: A method of forming a layered structure comprising a domain pattern of a self-assembled material comprises: disposing on a substrate a photoresist layer comprising a non-crosslinking photoresist; optionally baking the photoresist layer; pattern- wise exposing the photoresist layer to first radiation; optionally baking the exposed photoresist layer; and developing the exposed photoresist layer with a non-alkaline developer to form a negative-tone patterned photoresist layer comprising non-crosslinked developed photoresist; wherein the developed photoresist is not soluble in a given organic solvent suitable for casting a given material capable of self-assembly, and the developed photoresist is soluble in an aqueous alkaline developer and/or a second organic solvent. A solution comprising the given material capable of self-assembly dissolved in the given organic solvent is casted on the patterned photoresist layer, and the given organic solvent is removed. The casted given material is allowed to self-assemble while optionally heating and/or annealing the casted given material, thereby forming the layered structure comprising the domain pattern of the self-assembled given material.
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