公开(公告)号：WO2010133422A3

公开(公告)日：2011-05-12

申请号：PCT/EP2010055412

申请日：2010-04-23

Applicant: IBM ,  IBM UK ,  CHENG JOY ,  NA YOUNG-HYE ,  LAI KAFAI ,  RETTNER CHARLES THOMAS ,  SANDERS DANIEL PAUL ,  LI WAI-KIN

Inventor： CHENG JOY ,  NA YOUNG-HYE ,  LAI KAFAI ,  RETTNER CHARLES THOMAS ,  SANDERS DANIEL PAUL ,  LI WAI-KIN

IPC: B81C1/00

CPC classification number: B81C1/00031 ,  B81C1/00404 ,  B81C2201/0149 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31144

Abstract: An opening in a substrate is formed, e.g., using optical lithography, with the opening having sidewalls whose cross section is given by segments that are contoured and convex. The cross section of the opening may be given by overlapping circular regions, for example. The sidewalls adjoin at various points, where they define protrusions. A layer of polymer including a block copolymer is applied over the opening and the substrate, and allowed to self-assemble. Discrete, segregated domains form in the opening, which are removed to form holes, which can be transferred into the underlying substrate. The positions of these domains and their corresponding holes are directed to predetermined positions by the sidewalls and their associated protrusions. The distances separating these holes may be greater or less than what they would be if the block copolymer (and any additives) were to self-assemble in the absence of any sidewalls.

Abstract translation: 例如使用光刻法形成衬底中的开口，其中开口具有侧壁，其横截面由轮廓和凸形的部分给出。 例如，开口的横截面可以由重叠的圆形区域给出。 侧壁在各个点处相邻，在那里它们限定突起。 将包含嵌段共聚物的聚合物层施加在开口和基底上，并允许自组装。 在开口中形成离散的分离的区域，其被去除以形成孔，其可以被转移到下面的基底中。 这些区域及其对应的孔的位置通过侧壁及其相关联的突起被引导到预定位置。 分离这些孔的距离可以大于或小于如果嵌段共聚物（和任何添加剂）在没有任何侧壁的情况下自组装就会发生。

公开(公告)号：JP2011110552A

公开(公告)日：2011-06-09

申请号：JP2010247449

申请日：2010-11-04

Applicant: Internatl Business Mach Corp ,  インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Maschines Corporation

Inventor： NA YOUNG-HYE ,  SOORIYAKUMARAN RATNAM ,  ALLEN ROBERT DAVID

IPC: B01D71/70 ,  B01D69/12 ,  B01D71/38 ,  B01D71/40 ,  B01D71/78 ,  C08F220/00 ,  C08F230/08 ,  C08F290/06

CPC classification number: B01D69/12 ,  B01D69/125 ,  B01D71/70 ,  B01D71/82 ,  B01D2323/34 ,  B01D2325/20 ,  C08J7/18

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymeric film made from cage type polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS) and a hydrophilic comonomer.
SOLUTION: A composite membrane includes a filtration membrane and a layer on the surface of the filtration membrane. The layer includes a polymer including a cage type polyhedral oligomeric silsesquioxane (POSS) derivative having a hydrophilic moiety bonded to at least one vertex thereof. A method for making the composite membrane includes a step of applying a photopolymerizable composition including a POSS compound, the hydrophilic comonomer and a photoinitiator to the surface of the filtration membrane. The composition is cured to form a hydrophilic layer on the filtration membrane.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供由笼型多面体低聚倍半硅氧烷（POSS）和亲水性共聚单体制成的聚合物膜。 解决方案：复合膜包括过滤膜和过滤膜表面上的层。 该层包括包含具有结合到其至少一个顶点的亲水部分的笼型多面体低聚倍半硅氧烷（POSS）衍生物的聚合物。 制造复合膜的方法包括将包含POSS化合物，亲水性共聚单体和光引发剂的光聚合性组合物施加到过滤膜的表面的步骤。 固化组合物以在过滤膜上形成亲水层。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2010269304A

公开(公告)日：2010-12-02

申请号：JP2010102303

申请日：2010-04-27

Applicant: Internatl Business Mach Corp ,  インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Maschines Corporation

Inventor： CHENG JOY ,  DANIEL P SANDERS ,  RETTNER CHARLES T ,  NA YOUNG-HYE ,  DA YANG ,  KAFAI LAI ,  WAI-KIN LI

IPC: B05D7/00 ,  B82B3/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/768

CPC classification number: H01L21/76816 ,  B81B2203/0353 ,  B81B2207/07 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  B81C2201/0198 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31144 ,  Y10S438/947

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of forming a sub-lithographic structure utilizing polymer directional self-organization.
SOLUTION: The method includes a block copolymer self-organization. The method of forming holes in a regular or an optional arrangement starting from an opening (inside one or a plurality of substrates) having a targeted CD (critical dimension) is explained. Importantly, the percentage dispersion of the average diameter of the formed holes is smaller than the percentage dispersion of the average diameter of the initial opening. The formed holes (or vias) can be transferred to the lower layer substrate, and then, these holes can be filled back with materials such as metal conductors. The method enables the creation of vias having a narrower pitch or superior CD evenness even in the technological node of 22 nm or below.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种利用聚合物定向自组织形成亚光刻结构的方法。 解决方案：该方法包括嵌段共聚物自组织。 说明从具有目标CD（临界尺寸）的开口（一个或多个基板内）开始以规则或可选布置形成孔的方法。 重要的是，所形成的孔的平均直径的百分比分散度小于初始开口的平均直径的百分比分散。 形成的孔（或通孔）可以转移到下层基板，然后可以用诸如金属导体的材料填充这些孔。 该方法即使在22nm以下的技术节点中也能够创建具有较窄间距或优异CD均匀性的通孔。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2012020281A

公开(公告)日：2012-02-02

申请号：JP2011116591

申请日：2011-05-25

Applicant: Internatl Business Mach Corp ,  インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Maschines Corporation

Inventor： NA YOUNG-HYE ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  SOORIYAKUMARAN RATNAM

IPC: B01D71/56 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  B01D71/82 ,  C08G69/42

CPC classification number: B01D69/125 ,  B01D61/00 ,  B01D61/002 ,  B01D61/025 ,  B01D61/027 ,  B01D69/02 ,  B01D69/12 ,  B01D71/56 ,  B01D71/68 ,  B01D2323/30 ,  C02F1/44 ,  C02F1/441 ,  C02F1/444 ,  C02F2101/103 ,  C02F2101/108 ,  C02F2101/12 ,  C02F2101/20 ,  C02F2103/08

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a construction and a forming method of a composite semipermeable membrane including a multi-layered active layer having high salt rejection rate and mechanical strength.SOLUTION: A polymeric semipermeable membrane includes an active layer on a support. The active layer includes at least two chemically distinct crosslinked polyamide films, and the films are crosslinked with each other at an interface.

Abstract translation: 待解决的问题：提供一种复合半透膜的结构和形成方法，所述复合半透膜包括具有高的脱盐率和机械强度的多层活性层。 解决方案：聚合物半透膜在载体上包括活性层。 活性层包括至少两种化学上不同的交联聚酰胺膜，并且膜在界面处彼此交联。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2011110553A

公开(公告)日：2011-06-09

申请号：JP2010247450

申请日：2010-11-04

Applicant: Internatl Business Mach Corp ,  インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Maschines Corporation

Inventor： NA YOUNG-HYE ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  SOORIYAKUMARAN RATNAM ,  JAMES LUPTON HEDRICK ,  ALSHAKIM NELSON

IPC: B01D69/12 ,  B01D61/00 ,  B01D61/02 ,  B01D61/14 ,  B01D71/40 ,  B01D71/52 ,  B01D71/82 ,  C08J9/40

CPC classification number: B01D71/52 ,  B01D65/08 ,  B01D67/0006 ,  B01D69/02 ,  B01D69/12 ,  B01D2321/168 ,  B01D2323/30 ,  B01D2323/345 ,  B01D2325/16 ,  B01D2325/48

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite membrane with a performance enhancing layer, in which resistance to fouling is greatly enhanced in comparison with that of an non-coated membrane.
SOLUTION: The composite membrane includes a filtration membrane with a surface and a layer on the surface of the filtration membrane. The layer includes a polymer including a poly(ethylene glycol) moiety cross-linked with ammonium salt or a precursor of the ammonium salt.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：与非涂膜相比，提供具有性能增强层的复合膜，其中耐污垢性大大提高。 解决方案：复合膜包括在过滤膜的表面上具有表面和层的过滤膜。 该层包括聚合物，其包括与铵盐交联的聚（乙二醇）部分或铵盐的前体。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：DE112020004799T5

公开(公告)日：2022-06-15

申请号：DE112020004799

申请日：2020-10-22

Applicant: IBM

Inventor： NA YOUNG-HYE ,  KIM JANGWOO ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  DE SOUZA JOEL ,  COLLINS JOHN ,  SADANA DEVENDRA

IPC: H01M10/0525 ,  H01M4/134 ,  H01M4/58 ,  H01M10/0568 ,  H01M10/0569

Abstract: Ein Akku enthält eine Katode mit einem Metallhalogenid und einem elektrisch leitenden Material, wobei das Metallhalogenid als aktives Katodenmaterial fungiert; eine poröse Silicium-Anode mit einer Oberfläche, die Poren mit einer Tiefe von ungefähr 0,5 Mikrometer bis ungefähr 500 Mikrometer und einem Metall auf der Oberfläche und in mindestens einigen deren Poren hat; und einen Elektrolyt, der in Kontakt mit der Anode und der Katode steht, wobei der Elektrolyt eine funktionelle Nitrilgruppe enthält.

公开(公告)号：DE112020002995T5

公开(公告)日：2022-03-10

申请号：DE112020002995

申请日：2020-06-16

Applicant: IBM

Inventor： KIM JANGWOO ,  NA YOUNG-HYE ,  ALLEN ROBERT

IPC: H01M4/58 ,  H01M4/133 ,  H01M4/136 ,  H01M4/38 ,  H01M4/583 ,  H01M4/66 ,  H01M10/0568 ,  H01M10/0569

Abstract: Eine Batterie umfasst eine Anode, einen Elektrolyten, welcher ein Lösungsmittel und mindestens ein ionenleitendes Salz umfasst, und eine Kathode, welche ein Metallhalogenid-Salz umfasst, das in ein elektrisch leitfähiges Material integriert ist. Der Elektrolyt steht mit der Anode, der Kathode und einem oxidierenden Gas in Kontakt.

公开(公告)号：DE112010004848T5

公开(公告)日：2012-09-27

申请号：DE112010004848

申请日：2010-11-26

Applicant: IBM

Inventor： CHENG JOY ,  HINSBERG WILLIAM ,  WALLRAFF GREGORY MICHAEL ,  SUNDBERG LINDA KARIN ,  SANDERS DANIEL PAUL ,  KIM HO-CHEOL ,  NA YOUNG-HYE ,  TRUONG HOA ,  ITO HIROSHI

IPC: B81C1/00 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

Abstract: Ein Verfahren zum Bilden einer Schichtstruktur, die eine Struktur von Bereichen eines selbstorganisierten Materials umfasst, umfasst folgende Schritte: Aufbringen einer Fotolackschicht, die einen nicht vernetzenden Fotolack umfasst, auf ein Substrat; wahlweise Aushärten der Fotolackschicht; Belichten einzelner Strukturbereiche der Fotolackschicht mit einer ersten Strahlung; wahlweise Aushärten der belichteten Fotolackschicht; und Entwickeln der belichteten Fotolackschicht mit einem nicht alkalischen Entwickler, um eine strukturierte Negativ-Fotolackschicht zu bilden, die unvernetzten entwickelten Fotolack umfasst; wobei der entwickelte Fotolack in einem bestimmten organischen Lösemittel unlöslich ist, das zum Gießen eines bestimmten Materials geeignet ist, welches zur Selbstorganisation in der Lage ist, und wobei der entwickelte Fotolack in einem wässrigen alkalischen Entwickler und/oder in einem zweiten organischen Lösemittel löslich ist. Eine Lösung, die das bestimmte Material umfasst, welches zur Selbstorganisation in der Lage und in dem bestimmten organischen Lösemittel gelöst ist, wird auf die strukturierte Fotolackschicht gegossen und das bestimmte organische Lösemittel wird entfernt. Dem gegossenen bestimmten Material wird die Möglichkeit zur Selbstorganisation gegeben, während das gegossene bestimmte Material wahlweise erwärmt und/oder getempert wird, wodurch die Schichereichen des selbstorganisierten bestimmten Materials umfasst.

公开(公告)号：AU2021263028A1

公开(公告)日：2022-07-28

申请号：AU2021263028

申请日：2021-03-31

Applicant: IBM ,  CENTRAL GLASS CO LTD

Inventor： KIM JANGWOO ,  GIAMMONA MAXWELL ,  NA YOUNG-HYE ,  ODA MASAFUMI ,  ITAKURA TSUBASA ,  TANAKA TORU ,  SUZUKI KATSUTOSHI ,  TAKEDA KAZUNARI

IPC: H01M6/16

Abstract: A rechargeable metal halide battery with an optimized electrolyte formulation shows high capacity at fast charging rates. The optimized electrolyte includes a metal halide, an oxidizing gas, and a mixed-solvent solution that includes a glyme-based compound that is in a volume fraction of between 20-70 volume % of the mixed-solvent solution. The mixed-solvent solution may further include a nitrile compound and/or a heterocyclic compound.

公开(公告)号：DE112020001130T5

公开(公告)日：2021-12-09

申请号：DE112020001130

申请日：2020-03-02

Applicant: IBM

Inventor： KIM JANGWOO ,  NA YOUNG-HYE ,  BREYTA GREGORY

IPC: H01M10/056 ,  H01M4/06 ,  H01M6/14 ,  H01M10/054

Abstract: Eine Batterie, aufweisend: eine Anode; einen Elektrolyt, aufweisend: ein oxidierendes Gas; ein aktives Kathodenmaterial, aufweisend ein Metallhalogenid; und ein Lösungsmittel, das eine heterocyclische Verbindung enthält; und einen Stromabnehmer in Kontakt mit dem aktiven Kathodenmaterial.