Abstract:
In einer Ausführungsform ist das Substrat (1) für eine Halbleiterlaserdiode (61) eingerichtet und umfasst eine Vielzahl von Substratlagen (4). Die Substratlagen (4) umfassen Isolierlagen (41..43) und Trägerlagen (44..50), die dicker sind. Mehrere elektrische Kontaktflächen (33), die für die Halbleiterlaserdiode (61), einen Laserkondensator (62) und einen Ansteuerchip (63) eingerichtet sind, befinden sich an einer Bestückungsseite (3) einer ersten, obersten Substratlage (4), die eine Isolierlage (41) ist. Elektrische Leiterbahnen (51), die die Kontaktflächen (33) elektrisch miteinander verschalten, befinden sich einerseits zwischen der ersten Isolierlage (41) und einer zweiten Isolierlage (42), und andererseits zwischen der zweiten Isolierlage (42) und einer dritten Substratlage (4), die bevorzugt eine Isolierlage (43) ist.
Abstract:
Eine Verkapselungsstruktur (300) für ein optoelektronisches Bauelement (400) weist auf: eine Dünnschichtverkapselung (301) zum Schutz des optoelektronischen Bauelements vor chemischen Verunreinigungen, eine auf der Dünnschichtverkapselung ausgebildete Klebeschicht (302) und eine auf der Klebeschicht ausgebildete Deckschicht (303) zum Schutz der Dünnschichtverkapselung und/oder des optoelektronischen Bauelements vor mechanischer Beschädigung.
Abstract:
Ein Verfahren (100) zum Herstellen eines elektronischen Bauelements (240) kann aufweisen ein Aufbringen (102) einer Elektroden-Aufwachsschicht (226) auf oder über einer Schichtenstruktur mittels eines Atomlagendeposition- Verfahrens; und ein Aufbringen (104) einer Elektrode (232) auf der Elektroden-Aufwachsschicht (226).
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft ein elektronisches Bauelement (100), das ein Substrat (1), wenigstens eine auf dem Substrat (1) angeordnete, erste Elektrode (3) und auf der dem Substrat (1) zugewandten Seite der Elektrode (3) eine Aufwachsschicht (7), aufweist, wobei die auf der Aufwachsschicht (7) angeordnete Elektrode (3) eine Metallschicht (9) mit einer Dicke von kleiner oder gleich 30nm aufweist und die Aufwachsschicht (7) eine Dicke besitzt, die kleiner oder gleich 10 nm ist. Die vorliegende Erfindung betrifft ferner einen elektrischen Kontakt.
Abstract:
Eine strahlungsemittierende Anordnung umfasst insbesondere - ein Trägerelement (1) mit einer zumindest teilweise nichttransparenten Hauptoberfläche (10) und - auf dem Trägerelement (1) angeordnet ein organisches strahlungsemittierendes Bauelement (2) mit einer organischen Schichtenfolge (23) mit einem aktiven Bereich zwischen einer zumindest teilweise transparenten ersten Elektrode (21) und einer zumindest teilweise transparenten zweiten Elektrode (22), wobei - der aktive Bereich (29) geeignet ist, in einem eingeschalteten Betriebszustand elektromagnetische Strahlung (91, 93) zu erzeugen, - die strahlungsemittierende Anordnung auf der vom Trägerelement (1) abgewandten Seite des organischen strahlungsemittierenden Bauelements (2) eine Strahlungsaustrittsfläche (3) zur Abstrahlung der elektromagnetischen Strahlung (92, 93) aufweist und - die zumindest teilweise nicht-transparente Hauptoberfläche (10) des Trägerelements (1) in einem ausgeschalteten Betriebszustand des organischen strahlungsemittierenden Bauelements (2) von einem externen Beobachter durch die Strahlungsaustrittsfläche (3) hindurch wahrnehmbar ist.
Abstract:
Es wird eine optoelektronische Vorrichtung angegeben mit - einem Sender (1), der dazu eingerichtet ist, elektromagnetische Strahlung (2) zu emittieren und mit einer Eingangsspannung (UI) betrieben zu werden, - einem Empfänger (3), der dazu eingerichtet ist, die elektromagnetische Strahlung (2) zu empfangen und eine Ausgangsspannung (UO) zu liefern, wobei - der Sender (1) einen Kantenemitter (10) umfasst, und - der Empfänger (3) zumindest eine Fotodiode (30) umfasst.
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine optoelektronische Vorrichtung umfassend einen Leadframe mit einem ersten metallischen Bereich und einem davon beabstandeten wenigstens einen zweiten metallischen Bereich, wobei der erste und der wenigstens eine zweite metallische Bereich auf einer ersten Seite des Leadframes eine erste Kavität ausbilden. Die optoelektronische Vorrichtung umfasst ferner wenigstens eine elektrische Komponente, die in der ersten Kavität angeordnet und mit einer Vergussmasse vergossen ist, und die den ersten metallischen Bereich und den wenigstens einen zweiten metallischen Bereich elektrisch miteinander verbindet, sowie wenigstens eine optoelektronische Komponente, die den ersten metallischen Bereich und den zweiten metallischen Bereich auf einer der ersten Kavität abgewandten zweiten Seite des Leadframes elektrisch verbindet, oder wenigstens eine optoelektronische Komponente, die den ersten metallischen Bereich und einen dritten metallischen Bereich auf einer der ersten Kavität abgewandten zweiten Seite des Leadframes elektrisch verbindet.
Abstract:
Das optoelektronische Bauelement (1) umfasst einen optoelektronischen Halbleiterchip (2), ein optisches Element (3) und einen Chipträger (5). Der Halbleiterchip (2) ist auf dem Chipträger (5) angeordnet. Das optische Element (3) ist dem Halbleiterchip (2) in einer Abstrahlrichtung (7) des Halbleiterchips (2) nachgeordnet und mittels einer Klebeschicht (6) an einem Optikträger (12) befestigt. Ein Verguss (4) bildet einen von dem optischen Element (3) auf den Optikträger (12) übergreifenden Rahmen um das optische Element (3), den Optikträger (12) und die Klebeschicht (6). Der Verguss (4) fixiert das optische Element (3) in seiner Position gegenüber dem Halbleiterchip (2).
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform ist das Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterbauteilen (1) eingerichtet und umfasst die Schritte: A) Bereitstellen eines Trägers (2), wobei der Träger (2) ein metallisches Kernmaterial (24) aufweist und zumindest an einer Trägeroberseite (22) auf das Kernmaterial (24) eine Metallschicht (25) und darauffolgend ein dielektrischer Spiegel (26) aufgebracht sind, B) Ausbilden von mindestens zwei Löchern (3) durch den Träger (2) hindurch, C) Erzeugen einer Keramikschicht (4) mit einer Dicke von höchstens 100 μm zumindest an einer Trägerunterseite (21) und in den Löchern (3), wobei die Keramikschicht (4) als Komponente das Kernmaterial (24) umfasst, D) Aufbringen von metallischen Kontaktschichten (91, 92) auf zumindest Teilbereiche der Keramikschicht (4) an der Trägerunterseite (21) und in den Löchern (3), sodass durch die Löcher (3) die Trägeroberseite (22) elektrisch mit der Trägerunterseite (21) verbunden wird, und E) Aufbringen zumindest eines Strahlung emittierenden Halbleiterchips (5) auf die Trägeroberseite (22) und elektrisches Verbinden des Halbleiterchips (5) mit den Kontaktschichten (91, 92).
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine organische Leuchtdiode (1), umfassend einen Schichtstapel (2) zur Emission elektromagnetischer Strahlung (6). Auf einer ersten Oberfläche des Schichtstapels (2) ist eine elektrisch leitfähige erste Anschlussschicht (4) angeordnet und auf einer zweiten Oberfläche des Schichtstapels (2) ist eine elektrisch leitfähige und für eine charakteristische Wellenlänge der emittierbaren elektromagnetischen Strahlung (6) zumindest überwiegend durchlässige zweite Anschlussschicht (5) angeordnet. Die organische Leuchtdiode ist gekennzeichnet durch eine auf der dem Schichtstapel gegenüberliegenden Seite der ersten Anschlussschicht (4) angeordnete leitfähige Kontaktstruktur (7), die mit der zweiten Anschlussschicht (5) im Bereich einer Mehrzahl von Aussparungen (12) der ersten Anschlussschicht (4) elektrisch verbunden ist. Die Erfindung betrifft des Weiteren eine Kontaktanordnung (15) für ein flächiges, optisch aktives Element sowie ein Verfahren zur Herstellung organischer Leuchtdioden (1).